抗蚀剂剥离剂的制作方法
【专利摘要】本发明提供一种抗蚀剂剥离剂，其在具有作为抗蚀剂剥离剂的优良的抗蚀剂剥离性能的同时，在纯水漂洗时，抗蚀剂剥离物不会在基板上析出或再附着。还提供一种对金属布线、特别是对铜布线没有腐蚀性、且能够再利用的抗蚀剂剥离剂。上述抗蚀剂剥离剂的特征在于，其含有：（A）选自碳酸亚乙酯、碳酸亚丙酯、γ-丁内酯和环戊酮中的1种以上的化合物50～99质量%；以及（B）碳酸甘油酯1～50质量%。
【专利说明】抗蚀剂剥离剂
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种在硅基板或玻璃基板上形成金属布线图案的光刻工序中，用于剥离蚀刻操作后的抗蚀剂覆盖膜的抗蚀剂剥离剂。
【背景技术】
[0002]以往，作为由酚醛清漆树脂构成的抗蚀剂覆盖膜的剥离剂，一直使用胺系的抗蚀剂剥离剂。作为该胺系的抗蚀剂剥离剂，例如已知在单乙醇胺、N-甲基氨基乙醇、N-甲基-2-吡咯烷酮等胺类中添加了二甲基亚砜等水溶性有机溶剂和水的多成分的抗蚀剂剥离剂(例如参照专利文献I)。
[0003]上述的胺系的抗蚀剂剥离剂可以在切断酚醛清漆树脂与感光剂的交联点的同时，与感光剂或树脂形成盐。其结果是，抗蚀剂覆盖膜变得可溶而从基板上剥离。
[0004]可是，在上述的多成分的胺系抗蚀剂剥离剂的成分中，低沸点成分较多，并且各成分的蒸汽压各不相同。因此，由于在使用中各成分的蒸发量不同，所以使用中组成会发生变动，存在剥离性能下降的问题。另外，如果反复使用，则抗蚀剂剥离剂中的抗蚀剂剥离物的溶解量增加，所以存在因该抗蚀剂剥离物的影响而使剥离性能下降的问题。进而，胺系的抗蚀剂剥离剂对铜布线的腐蚀性较大，在布线图案更加微细化的情况下，也有可能成为断线等的原因。
[0005]作为胺系的抗蚀剂剥离剂以外的抗蚀剂剥离剂，例如已知以碳酸亚乙酯和碳酸亚丙酯为主成分的抗蚀剂剥离剂或以碳酸亚乙酯和Y-丁内酯为主成分的抗蚀剂剥离剂。有关这些抗蚀剂剥离剂，还已知在抗蚀剂剥离后的溶解有抗蚀剂剥离物的溶液中，通过吹入含有臭氧的气体而仅仅使抗蚀剂剥离物分解，然后将抗蚀剂剥离剂再利用(例如参照专利文献2、专利文献3)。
[0006]另外，还已知混合有环己酮和醋酸丁酯的抗蚀剂剥离剂(例如参照专利文献4)。
[0007]一般对于抗蚀剂剥离剂来说，要求其具有优良的剥离性能，对金属布线、特别是对铜布线没有腐蚀性，考虑到加热下的作业，还要求其闪点高、安全性高等。
[0008]另外，在光刻工序中，接在蚀刻后的抗蚀剂剥离工序之后，进行漂洗工序。在漂洗工序中，用纯水将基板上附着的抗蚀剂剥离剂洗涤除去。对于这种用纯水进行的漂洗工序，存在抗蚀剂剥离剂中溶解的抗蚀剂剥离物析出于基板表面、或抗蚀剂剥离剂中分散的抗蚀剂剥离物的微粒再附着于基板表面等问题。
[0009]为了防止这样的抗蚀剂剥离物在基板表面的析出或再附着，可以采取下述等方法:通过高压的纯水喷洒等，一边对基板施加物理性质的力一边进行长时间漂洗的方法；或者在利用纯水的漂洗工序之前，用水溶性的有机溶剂进行漂洗的方法。可是，无论哪种方法都存在着损害生产率或作业性的问题。特别是后一种方法，除了漂洗中使用的纯水的处理以外，还会产生漂洗中使用的水溶性有机溶剂的处理问题。
[0010]现有技术文献
[0011]专利文献[0012]专利文献1:日本专利第2911792号说明书
[0013]专利文献2:日本专利第3914842号说明书
[0014]专利文献3:日本专利第4883975号说明书
[0015]专利文献4:日本专利第4475664号说明书
【发明内容】
[0016]本发明要解决的问题
[0017]本发明是为了解决上述问题而完成的，目的在于提供一种具有优良的抗蚀剂剥离性能的同时、在纯水漂洗时抗蚀剂剥离物不会在基板上析出或再附着的抗蚀剂剥离剂。
[0018]本发明的另一个目的在于提供一种在该抗蚀剂剥离剂中，对金属布线、特别是对铜布线没有腐蚀性的抗蚀剂剥离剂。目的还在于提供一种能够再利用的抗蚀剂剥离剂。
[0019]解决问题的手段
[0020]本
【发明者】等人为了解决以往的抗蚀剂剥离剂中的上述问题，进行了深入研究，结果发现，通过在以往作为抗蚀剂剥离剂使用的选自碳酸亚乙酯、碳酸亚丙酯、Y-丁内酯和环戍酮中的I种以上中添加碳酸甘油酯(glycerol carbonate),则在纯水漂洗时,抗蚀剂剥离物不会在基板上析出或再附着。
[0021]本发明是在该认识的基础上完成的，提供一种在选自碳酸亚乙酯、碳酸亚丙酯、Y-丁内酯和环戊酮中的I种以上中添加碳酸甘油酯而形成的抗蚀剂剥离剂，其在纯水漂洗时，抗蚀剂剥离物不会在基板上析出或再附着。
[0022]本发明的抗蚀剂剥离剂的第I实施方式的特征在于，其含有:(A)选自碳酸亚乙酯、碳酸亚丙酯、Y-丁内酯和环戊酮中的I种以上的化合物50?99质量％;以及(B)碳酸甘油酯I?50质量％。
[0023]此外，在本说明书中，有时将选自碳酸亚乙酯、碳酸亚丙酯、Y-丁内酯和环戊酮中的I种以上的化合物称作“(A)成分”，将碳酸甘油酯称作“(B)成分”。
[0024]本发明的抗蚀剂剥离剂的第2实施方式的特征在于，在第I实施方式中，(A)成分是选自碳酸亚乙酯和碳酸亚丙酯中的I种以上。
[0025]本发明的抗蚀剂剥离剂的第3实施方式的特征在于，在第I实施方式中，含有:碳酸亚乙酯20?80质量％、碳酸亚丙酯5?30质量％ ;以及(B)碳酸甘油酯5?50质量％。
[0026]本发明的抗蚀剂剥离剂的第4实施方式的特征在于，在第I实施方式中，含有:碳酸亚乙酯55?75质量％、碳酸亚丙酯5?25质量％ ；以及(B)碳酸甘油酯10?30质量％。
[0027]本发明的抗蚀剂剥离剂的第5?第8实施方式的特征在于，相对于第I?第4中的任一个实施方式的100质量份，含有30质量份以下的水。
[0028]本发明的抗蚀剂剥离剂的第9和第10实施方式的特征在于，在第I?第8实施方式中，60°C时的粘度为IOcP以下。
[0029]本发明的抗蚀剂剥离剂的第11实施方式的特征在于，在第I?第10实施方式中，闪点为100°C以上。
[0030]发明的效果
[0031]本发明的抗蚀剂剥离剂具有优良的剥离性能。另外，抗蚀剂剥离后即使直接用纯水漂洗，抗蚀剂剥离物在基板表面也不会析出、再附着。[0032]进而，对铜布线或铝布线没有腐蚀作用。另外，由于不含低沸点成分，所以使用中成分组成不会变化，因而即使在对抗蚀剂剥离剂加热来进行抗蚀剂覆盖膜的剥离的情况下也是安全的。
【专利附图】
【附图说明】
[0033]图1是表示在本发明的实施例的基板上无抗蚀剂剥离物的析出或附着的状态的光学显微镜照片。
[0034]图2是表示在比较例的基板上有抗蚀剂剥离物的析出或附着的状态的光学显微镜照片。
[0035]图3A是示意地表示本发明的实施例中使用的试样的平面图。
[0036]图3B是示意地表示图3A所示的试样的侧面图。
[0037]图4A是示意地表示本发明的实施例中使用的试样的平面图。
[0038]图4B是示意地表示图4A所示的试样的侧面图。
【具体实施方式】
[0039](第I实施方式)
[0040]本发明的第I实施方式是含有:(A)选自碳酸亚乙酯、碳酸亚丙酯、Y-丁内酯和环戊酮中的I种以上的化合物50?99质量％ ;以及(B)碳酸甘油酯I?50质量％。
[0041]该实施方式中使用的化合物是以下的表I中的那些。
[0042]此外，例如工厂的洁净车间(clean room)中的通常的作业环境温度为22?27°C，所以以下的说明中的“室温”是指该温度范围。
【权利要求】
1.一种抗蚀剂剥离剂，其特征在于，其含有: (A)选自碳酸亚乙酯、碳酸亚丙酯、Y-丁内酯和环戊酮中的I种以上的化合物50?99质量％ ;以及 (B)碳酸甘油酯I?50质量％。
2.根据权利要求1所述的抗蚀剂剥离剂，其特征在于，所述(A)是选自碳酸亚乙酯和碳酸亚丙酯中的I种以上。
3.根据权利要求1所述的抗蚀剂剥离剂，其特征在于，其含有:(A)碳酸亚乙酯20?80质量％、碳酸亚丙酯5?30质量％ ;以及(B)碳酸甘油酯5?50质量％。
4.根据权利要求1所述的抗蚀剂剥离剂，其特征在于，其含有:(A)碳酸亚乙酯55?75质量％、碳酸亚丙酯5?25质量％ ;以及(B)碳酸甘油酯10?30质量％。
5.一种抗蚀剂剥离剂，其特征在于，相对于权利要求1所述的抗蚀剂剥离剂整体100质量份，含有30质量份以下的水。
6.一种抗蚀剂剥离剂，其特征在于，相对于权利要求2所述的抗蚀剂剥离剂整体100质量份，含有30质量份以下的水。
7.一种抗蚀剂剥离剂，其特征在于，相对于权利要求3所述的抗蚀剂剥离剂整体100质量份，含有30质量份以下的水。
8.一种抗蚀剂剥离剂，其特征在于，相对于权利要求4所述的抗蚀剂剥离剂整体100质量份，含有30质量份以下的水。
9.根据权利要求1?8中的任一项所述的抗蚀剂剥离剂，其特征在于，60°C时的粘度为IOcP以下。
10.根据权利要求1?8中的任一项所述的抗蚀剂剥离剂，其特征在于，闪点为100°C以上。
11.根据权利要求9所述的抗蚀剂剥离剂，其特征在于，闪点为100°C以上。
【文档编号】G03F7/42GK103733137SQ201280038198
【公开日】2014年4月16日 申请日期:2012年10月2日 优先权日:2012年6月26日
【发明者】大坪博文, 石井庆一郎, 久保贤一, 柳基典 申请人:野村微科学股份有限公司