遮光结构及其制作方法、显示装置及显示装置显示的方法

文档序号:2712730阅读:81来源:国知局
遮光结构及其制作方法、显示装置及显示装置显示的方法
【专利摘要】本发明提供了一种遮光结构及其制作方法、显示装置及显示装置显示的方法,该遮光结构包括多个微遮光盒,每一个该微遮光盒包括密闭腔室,该密闭腔室内设置有透明溶剂、相对设置的第一电极和第二电极以及设置在该第一电极与该第二电极之间的扭转体,该扭转体包括遮光部分和透明部分,该遮光部分与该透明部分电性不同。本发明中的遮光结构包括扭转体,并通过扭转体两侧的电极控制扭转体进行旋转,当彩膜基板中漏光区域需要遮光时,控制扭转体形成遮光带对彩膜基板的漏光区域进行遮挡,当不需要遮光时,控制扭转体旋转以将形成的透明带与漏光区域正对,从而可以在不牺牲面板的透光率的情况下解决像素边缘漏光的问题。
【专利说明】遮光结构及其制作方法、显示装置及显示装置显示的方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示领域,尤其涉及一种遮光结构及其制作方法、显示装置及显示装置显示的方法。
【背景技术】
[0002]液晶面板主要包括彩膜基板、阵列基板以及填充在两基板之间的液晶。液晶面板利用电场进行液晶分子的取向控制,通过液晶折射率各向异性使透射率发生变化,以进行显不O
[0003]现有技术中,液晶面板中阵列基板上设置有多个平行的栅线和与栅线垂直交叉的数据线,栅线和数据线围成的区域称作一个单位像素区域。彩膜基板主要包括基板、黑矩阵(BM)以及不同颜色的滤色膜层等,其中,黑矩阵设置在基板上,基板上未被黑矩阵覆盖的区域形成子像素开口区域,不同颜色的滤色膜层按一定排列方式设置其上。在阵列基板和彩膜基板对盒时,像素区域与子像素开口区域位置相对,不同颜色的滤色膜层实现彩色显示,黑矩阵用来遮挡栅线、数据线以及像素边缘区域,防止光线泄漏而影响显示。
[0004]然而,在现有技术中,由于在彩膜基板形成黑矩阵的过程中设计值和实际值存在差异,使得形成的黑矩阵较窄,或者在对盒过程中阵列基板和彩膜基板的对位出现偏移,都会使得黑矩阵边缘产生像素漏光现象,从而影响显示面板的显示效果。

【发明内容】

[0005](一 )要解决的技术问题
[0006]本发明要解决的技术问题是提供一种遮光结构及其制作方法、显示装置及显示装置显示的方法,以解决彩膜基板产生的漏光现象。
[0007]( 二 )技术方案
[0008]为解决上述技术问题,本发明的技术方案提供了一种遮光结构,包括多个微遮光盒,每一个所述微遮光盒包括密闭腔室,所述密闭腔室内设置有透明溶剂、相对设置的第一电极和第二电极以及设置在所述第一电极与所述第二电极之间的扭转体,所述扭转体包括遮光部分和透明部分,所述遮光部分与所述透明部分电性不同。
[0009]进一步地,所述扭转体为球体形状,所述扭转体中遮光部分与透明部分的体积相同。
[0010]进一步地,所述扭转体的直径为0.6L?1L,所述L为所述第一电极与所述第二电极之间的间距。
[0011 ] 进一步地,所述遮光结构中多个微遮光盒呈阵列排布。
[0012]为解决上述技术问题,本发明还提供了一种遮光结构的制作方法,包括:
[0013]在第一基板上制作绝缘层膜,并对所述绝缘层膜图形化以形成微遮光盒的隔离结构;
[0014]在所述第一基板制作透明金属薄膜,并对所述透明金属薄膜图形化以在所述隔离结构的内侧形成相对设置的第一电极和第二电极;
[0015]在所述第一电极和第二电极之间注入透明溶剂以及扭转体,所述扭转体包括遮光部分和透明部分,所述遮光部分与所述透明部分电性不同;
[0016]将第二基板与所述第一基板对盒,以形成所述微遮光盒的密闭腔室。
[0017]进一步地,所述扭转体为球体形状,所述扭转体中遮光部分与透明部分的体积相同。
[0018]进一步地,所述扭转体的直径为0.6L?1L,所述L为所述第一电极与所述第二电极之间的间距。
[0019]为解决上述技术问题,本发明还提供了一种显示装置,包括彩膜基板以及上述任意一种的遮光结构,所述遮光结构设置在所述彩膜基板上。
[0020]进一步地,所述彩膜基板包括漏光区域,所述遮光结构中扭转体与所述漏光区域相对设置。
[0021]进一步地,所述扭转体为球体形状,所述扭转体的直径大于所述漏光区域在对应方向上的宽度。
[0022]为解决上述技术问题,本发明还提供了一种上述显示装置显示的方法,包括:
[0023]当所述彩膜基板中的漏光区域需要遮光时,通过所述第一电极和第二电极对所述扭转体施加第一电场,以控制所述扭转体的遮光部分与所述漏光区域正对设置;
[0024]当所述彩膜基板中的漏光区域不需要遮光时,通过所述第一电极和第二电极对所述扭转体施加第二电场,以控制所述扭转体的透明部分与所述漏光区域正对设置。
[0025](三)有益效果
[0026]本发明中的遮光结构包括扭转体,并通过扭转体两侧的电极控制扭转体进行旋转,当彩膜基板中漏光区域需要遮光时,控制扭转体形成遮光带对彩膜基板的漏光区域进行遮挡,当不需要遮光时,控制扭转体旋转以将形成的透明带与漏光区域正对,提高显示面板的透过率,从而可以在不牺牲面板的透光率的情况下解决像素边缘漏光的问题。
【专利附图】

【附图说明】
[0027]图1是本发明实施方式提供的一种遮光结构的示意图;
[0028]图2是图1所示遮光结构的俯视图;
[0029]图3是本发明实施方式提供的另一种遮光结构的示意图;
[0030]图4是图3所示遮光结构的俯视图;
[0031]图5是本发明实施方式提供的一种显示装置的示意图;
[0032]图6是本发明实施方式提供的另一种显示装置的示意图。
【具体实施方式】
[0033]下面结合附图和实施例,对本发明的【具体实施方式】作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明,但不用来限制本发明的范围。
[0034]图1是本发明实施方式提供的一种遮光结构的示意图,该遮光结构包括多个微遮光盒2,其中,每一个所述微遮光盒2包括密闭腔室,所述密闭腔室内设置有透明溶剂24、相对设置的第一电极231和第二电极232以及设置在所述第一电极231与所述第二电极232之间的扭转体,所述扭转体包括遮光部分252和透明部分251,所述遮光部分251与所述透明部分251电性不同。
[0035]其中,扭转体可以通过在遮光部分带正电荷,在透明部分带负电荷而形成永久双极子,该扭转体可以为球体形状,且该扭转体中遮光部分252与透明部分251的体积相同。具体地,参见图1,在该遮光结构中,第一基板11、第二基板12以及两者间的隔离结构21形成微遮光盒2的密闭腔室,该密闭腔室充满透明溶剂24,且在其内设置有扭转体、相对设置的第一电极231和第二电极232,其中,第一电极231和第二电极232为透明材料。
[0036]例如,可以使遮光部分252带正电荷,透明部分251带负电荷,当第一电极231加入正电,第二电极232加入负电时,其扭转体的排布如图1所示,其俯视图如图2所示,使得在该微遮光盒内邻近第二电极232侧形成遮光带26,临近第一电极231侧形成透明带27,当第一电极231加入负电,第二电极232加入正电时,第一电极与第二电极之间的电场控制扭转体进行旋转,旋转后的扭转体排布如图3所示,其俯视图如图4所示,使得在该微遮光盒内邻近第二电极232侧形成透明带27,临近第一电极231侧形成遮光带27。
[0037]其中,参见图3,上述扭转体的直径可以为0.6L?1L,L为第一电极与所述第二电极之间的间距。
[0038]其中,在该遮光结构中,多个微遮光盒可以呈阵列排布。
[0039]具体地,当彩膜基板中黑矩阵与相邻像素之间存在漏光时,将该遮光结构贴附在彩膜基板上,并使遮光结构中微遮光盒与彩膜基板的漏光区相对设置,当该彩膜基板中的漏光区域需要遮光时,例如,当显示低灰阶时,可以使遮光盒中扭转体中遮光部分与彩膜基板的漏光区域正对设置,从而使得遮光盒起到遮光作用,当不需要遮光时,例如,当显示高灰阶时,人眼对漏光不敏感,此时通过改变两电极之间的电场控制扭转体进行旋转,使得扭转体中透明部分与漏光区域正对设置,从而起到透光作用,从而在不会影响显示效果的前提下,提高显示面板的透过率。
[0040]此外,本发明实施方式还提供了一种遮光结构的制作方法,包括以下步骤:
[0041]S1:在第一基板上制作绝缘层膜,并对所述绝缘层膜图形化以形成微遮光盒的隔离结构;例如,该缘薄层膜可以采用SiNx,形成的隔离结构可以如图2所示,该隔离结构为微遮光盒的外围结构,作为其密闭腔室的四个面;
[0042]S2:在所述第一基板制作透明金属薄膜,并对所述透明金属薄膜图形化以在所述隔离结构的内侧形成相对设置的第一电极和第二电极;具体地,可以在上述第一基板上沉积氧化铟锡(ITO)制作透明金属薄膜,并利用光刻工艺图形化该透明金属薄膜,进而形成的如图2所示的第一电极和第二电极;
[0043]S3:在所述第一电极和第二电极之间注入透明溶剂以及扭转体,所述扭转体包括遮光部分和透明部分,所述遮光部分与所述透明部分电性不同;例如,该扭转体可以为球体形状,扭转体中遮光部分与透明部分的体积相同,并且扭转体的直径可以为0.6L?1L,L为第一电极与第二电极之间的间距;
[0044]S4:将第二基板与所述第一基板对盒,以形成所述微遮光盒的密闭腔室。具体地,可以在第二基板与第一基板的结合处涂覆粘合剂,以使得两者对接后形成密闭腔室,从而形成微遮光盒的结构,对于微遮光盒内两电极信号的加入,由于两电极不交叉且布线贯穿整个面板,所以可以单独的给其信号,具体可以采用(array)基板的COF(Chip OnFilm,覆晶薄膜)的方式,通过ACF(Anisotropic Conductive Film,异方性导电胶膜)与其粘和,而后对其施加不同的电压。
[0045]其中,本发明实施方式中的扭转体,可以采用日本特开2004-197083号公报所提出的微通道制造方法制造得出。
[0046]具体地,首先制作透明聚苯乙烯球,采用乳液聚合法制备亚微米尺寸的模板聚苯乙烯球,在10?40度下,将20?30mL,单体苯乙烯,和与苯乙烯体积比为10:1?1:1的去离子水加入氮气保护下的三口瓶中,在100?500转/分钟的搅拌条件下,搅拌20?30分钟,以0.5?5度/分钟速率水浴升温至60?80度,配置浓度为10?30g/L的引发剂过硫酸钾的水溶液,然后向三口瓶中滴入10?50mL过硫酸钾水溶液,并在60?80度下反应10?24小时,反应液冷却10?40度后离心分离,经去离子水和乙醇各洗涤I?3次,得到亚微米-微米尺寸的模板聚苯乙烯球。
[0047]而后,采用微通道技术对上述制作得到的透明聚苯乙烯球进行处理,其微通道制造方法如下:使用着色连续相和球状粒子化相彼此存在0/W型或W/0型的关系,从移送着色连续相的第一微通道,向在第二微通道中流动的流动介质的球状粒子化相内,依次喷出黑色的着色连续相,由此制造出黑色相球状聚合物粒子、且在电荷方面具有正负电荷的双极性球状粒子球。
[0048]具体地,在含有聚合性树脂成分的油性或水性的流动性介质中,利用以互不相同的正负带电的聚合性单体形成在该介质中含有不溶性的着色染颜料的分相着色连续相中的聚合性树脂成分,并移送到第一微通道,接下来,将该着色连续相,连续或间歇性地依次喷出到在第二微通道内流动的水性或油性的球状粒子化相中。接下来,喷出到球状粒子化相中的喷出物,一边在微通道内的一系列的喷出/分散/移送中被球状粒子化,一边在球状粒子化相中被依次球状物化,因此,使该球状化粒子中的聚合性树脂成分在U V照射下以及/或加热下聚合硬化,从而对小球进行适当调制。上述着色连续相,是被分相为单色连续色相,例如,能够列举出黑色作为形成这种色相的着色剂,能够在后述的含有聚合性树脂成分的流动性分散介质中具有不溶性或均匀分散即可,不作特别的限定,能够适宜选择而使用。作为上述着色剂,黑色部分可以选择炭黑。
[0049]在本方式中,能够相对于作为着色连续相中的聚合硬化成分的全聚合性树脂成分每100重量份,以0.1重量份?80重量份,优选为2重量份?10重量份的范围适当良好地进行添加。作为上述球中所使用的聚合性树脂成分(或聚合性单体),根据扭转体中所使用的聚合性单体的官能基或置换基的种类,能够列举出处于上述扭转体的带电性分别显示出负㈠带电性和正⑴带电性倾向的单体种。因此,在将至少2种以上的多种单体作为本方式中的聚合性树脂成分而使用的情况下,周知其表现出正(+)以及负(_)带电性倾向,优选为,将处于同种带电性倾向的单体彼此多个组合而适当适宜地使用。
[0050]对于透明溶剂相对于扭转体的比例,透明溶剂相对于100重量份的透明溶剂的比例可以是0.1重量份?15重量份,优选地为I重量份?10重量份。透明溶剂为具有绝缘特性的无色透明液体,具体地,可以为无极性分散介质,更具体地,可以是脂族烃、芳族烃、卤代烃和硅油。
[0051]本发明实施方式还提供了一种显示装置,包括彩膜基板以及上述的遮光结构,其中,所述遮光结构设置在所述彩膜基板上。[0052]参见图5是本发明实施方式提供的一种显示装置的示意图,该显示装置包括彩膜基板3和遮光结构,该遮光结构包括多个微遮光盒,其中,第一基板11、第二基板12以及两者间的隔离结构21形成每一个微遮光盒的密闭腔室,在密闭腔室内充满透明溶剂24,且在其内设置有扭转体、相对设置的第一电极231和第二电极232,其中,扭转体包括遮光部分252和透明部分251,遮光部分251与透明部分251电性不同。
[0053]遮光结构贴附在彩膜基板上,具体地,参见图5,彩膜基板3包括滤色膜层31与黑矩阵33之间的漏光区域32,在贴附的过程中,使遮光结构中扭转体与漏光区域32相对设置。
[0054]本发明实施方式中,扭转体的大小可以根据漏光区域的大小而设定,优选地,扭转体可以为球体形状,并使扭转体的直径大于漏光区域32在对应方向上的宽度K。具体地,当滤色膜层31对应的像素不进行显示低灰阶时,可以使遮光盒中扭转体中遮光部分与彩膜基板的漏光区域32正对设置(如图5所示),从而使得遮光盒起到遮光作用,当不需要遮光时,通过改变两电极之间的电场控制扭转体进行旋转,使得扭转体中透明部分与漏光区域32正对设置(如图6所示),起到透光作用,从而不会影响显示效果。
[0055]其中,本发明实施方式提供的显示装置可以是笔记本电脑显示屏、电子纸、有机发光二级管显示器、液晶显示器、液晶电视、数码相框、手机、平板电脑等任何具有显示功能的产品或部件。
[0056]本发明实施方式提供的显示装置包括遮光结构,该遮光结构包括扭转体,并通过扭转体两侧的电极控制扭转体进行旋转,当彩膜基板中漏光区域需要遮光时,控制扭转体形成遮光带对彩膜基板的漏光区域进行遮挡,当不需要遮光时,控制扭转体旋转以将形成的透明带与漏光区域正对,提高面板的透过率,本发明实施方式提供的显示装置可以在不牺牲面板的透光率的情况下解决像素边缘漏光的问题。
[0057]此外,本发明还提供了一种上述显示装置显示的方法,包括:
[0058]当所述彩膜基板中的漏光区域需要遮光时,通过所述第一电极和第二电极对所述扭转体施加第一电场,以控制所述扭转体的遮光部分与所述漏光区域正对设置;
[0059]当所述彩膜基板中的漏光区域不需要遮光时,通过所述第一电极和第二电极对所述扭转体施加第二电场,以控制所述扭转体的透明部分与所述漏光区域正对设置。
[0060]以上实施方式仅用于说明本发明,而并非对本发明的限制,有关【技术领域】的普通技术人员,在不脱离本发明的精神和范围的情况下,还可以做出各种变化和变型,因此所有等同的技术方案也属于本发明的范畴,本发明的专利保护范围应由权利要求限定。
【权利要求】
1.一种遮光结构,其特征在于,包括多个微遮光盒,每一个所述微遮光盒包括密闭腔室,所述密闭腔室内设置有透明溶剂、相对设置的第一电极和第二电极以及设置在所述第一电极与所述第二电极之间的扭转体,所述扭转体包括遮光部分和透明部分,所述遮光部分与所述透明部分电性不同。
2.根据权利要求1所述的遮光结构,其特征在于,所述扭转体为球体形状,所述扭转体中遮光部分与透明部分的体积相同。
3.根据权利要求2所述的遮光结构,其特征在于,所述扭转体的直径为0.6L?1L,所述L为所述第一电极与所述第二电极之间的间距。
4.根据权利要求1所述的遮光结构,其特征在于,所述遮光结构中多个微遮光盒呈阵列排布。
5.一种遮光结构的制作方法,其特征在于,包括: 在第一基板上制作绝缘层膜,并对所述绝缘层膜图形化以形成微遮光盒的隔离结构; 在所述第一基板制作透明金属薄膜,并对所述透明金属薄膜图形化以在所述隔离结构的内侧形成相对设置的第一电极和第二电极; 在所述第一电极和第二电极之间注入透明溶剂以及扭转体,所述扭转体包括遮光部分和透明部分,所述遮光部分与所述透明部分电性不同; 将第二基板与所述第一基板对盒,以形成所述微遮光盒的密闭腔室。
6.根据权利要求5所述的遮光结构的制作方法,其特征在于,所述扭转体为球体形状,所述扭转体中遮光部分与透明部分的体积相同。
7.根据权利要求6所述的遮光结构的制作方法,其特征在于,所述扭转体的直径为0.6L?1L,所述L为所述第一电极与所述第二电极之间的间距。
8.—种显示装置,其特征在于,包括彩膜基板以及如权利要求1至4任一所述的遮光结构,所述遮光结构设置在所述彩膜基板上。
9.根据权利要求8所述的显示装置,其特征在于,所述彩膜基板包括漏光区域,所述遮光结构中扭转体与所述漏光区域相对设置。
10.根据权利要求9所述的显示装置,其特征在于,所述扭转体为球体形状,所述扭转体的直径大于所述漏光区域在对应方向上的宽度。
11.一种如权利要求8至10任一所述的显示装置显示的方法,其特征在于,包括: 当所述彩膜基板中的漏光区域需要遮光时,通过所述第一电极和第二电极对所述扭转体施加第一电场,以控制所述扭转体的遮光部分与所述漏光区域正对设置; 当所述彩膜基板中的漏光区域不需要遮光时,通过所述第一电极和第二电极对所述扭转体施加第二电场,以控制所述扭转体的透明部分与所述漏光区域正对设置。
【文档编号】G02F1/167GK104007595SQ201410224835
【公开日】2014年8月27日 申请日期:2014年5月26日 优先权日:2014年5月26日
【发明者】徐利燕, 张春兵 申请人:京东方科技集团股份有限公司, 北京京东方显示技术有限公司
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