彩膜基板及其制作方法与流程

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种彩膜基板及其制作方法。

背景技术：

随着显示技术的不断进步，用户对显示装置的功能也有了进一步的需求，在显示的同时能够看到显示画面后方的背景的透明显示技术引起人们的关注。透明显示器含有一定程度的穿透性，施加电压时可在显示屏上显示信息，在不施加电压时可透过显示屏看到显示画面后方的背景，适用于建筑与车辆窗户及商店橱窗。除原有的显示功能外，更具备提供资讯等特色，因此受到市场关注。

现有的显示装置只能具有单一的透明显示模式或非透明显示模式，但在不同的应用场景下，会需要在两种模式之间进行切换，然而现有技术并没有很好解决方案。

技术实现要素：

本发明实施例提供的一种彩膜基板及其制作方法，通过对公共电极的特殊设计，并采用不同的公共电极输入信号实现了不同显示模式的切换。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

一方面，提供一种彩膜基板，包括第一透明基板，设置于所述第一透明基板上的彩膜以及设置于所述彩膜上的公共电极层，所述彩膜包括对应每个像素区域的亚像素彩膜；其中，至少一个所述亚像素彩膜具有镂空区域；所述公共电极层包括第一子电极和第二子电极，所述第一子电极和所述第二子电极绝缘；所述第一子电极与所述亚像素彩膜的非镂空区域对应；所述第二子电极与所述亚像素彩膜的镂空区域对应。

优选的，每个所述亚像素彩膜均具有所述镂空区域。

优选的，所述镂空区域位于所述亚像素彩膜的中部。

优选的，所有所述第二子电极电连接。

基于上述，优选的，所述彩膜基板还包括设置于所述第一透明基板与所述公共电极层之间的遮光条，所述遮光条具有多个开口区域，所述彩膜形成于所述遮光条的开口区域。

另一方面，提供一种彩膜基板的制作方法，包括：在第一透明基板上形成彩膜，所述彩膜包括对应每个像素区域的亚像素彩膜；其中，至少一个所述亚像素彩膜具有镂空区域；在所述彩膜上形成公共电极层，所述公共电极层包括第一子电极和第二子电极，所述第一子电极和所述第二子电极绝缘；所述第一子电极与所述亚像素彩膜的非镂空区域对应；所述第二子电极与所述亚像素彩膜的镂空区域对应。

优选的，每个所述亚像素彩膜均具有所述镂空区域。

优选的，所述镂空区域位于所述亚像素彩膜的中部。

优选的，形成所述彩膜具体包括：在所述第一透明基板上对应每个像素区域的亚像素彩膜；采用一次构图工艺，在至少一个所述亚像素彩膜中形成所述镂空区域。

基于上述，优选的，形成所述公共电极层包括：采用一次构图工艺，形成所述第一子电极和所述第二子电极。

本发明实施例提供的一种彩膜基板及其制作方法，所述彩膜基板包括第一透明基板，设置于所述第一透明基板上的彩膜以及设置于所述彩膜上的公共电极层，所述彩膜包括对应每个像素区域的亚像素彩膜；其中，至少一个所述亚像素彩膜具有镂空区域；所述公共电极层包括第一子电极和第二子电极，所述第一子电极和所述第二子电极绝缘；所述第一子电极与所述亚像素彩膜的非镂空区域对应；所述第二子电极与所述亚像素彩膜的镂空区域对应在该方案中，由于公共电极层包括第一子电极和第二子电极，并分别对第一子电极和第二子电极输入不同的电压信号，使得液晶的偏转不同，从而实现了透明与不透明显示模式的切换。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例提供的彩膜基板的彩膜俯视结构示意图；

图2为本发明实施例提供的彩膜基板的公共电极层俯视结构示意图；

图3为本发明实施例提供的彩膜基板的结构示意图；

图4为本发明实施例提供的图3的A-A向剖面图；

图5为本发明实施例提供的显示方法流程示意图；

图6为本发明实施例提供的电压信号示意图；

图7为本发明实施例提供的彩膜基板的制作方法流程示意图；

图8为本发明实施例提供的彩膜基板的制作方法流程示意图。

图中各元件为：11、一个亚像素彩膜的非镂空区域；12、一个亚像素彩膜的镂空区域；21、第一子电极；22、第二子电极；4、彩膜基板；400、第一透明基板；401、彩膜；402、公共电极层；61、第一电压信号；62、第二电压信号。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明实施例提供一种彩膜基板，包括第一透明基板，设置于所述第一透明基板上的彩膜以及设置于所述彩膜上的公共电极层，所述彩膜包括阵列形式排列的多个像素区域，每个像素区域包括多个亚像素彩膜，至少一个亚像素彩膜具有透明结构。

所述公共电极层包括第一子电极和第二子电极，所述第一子电极对应于亚像素的非透明结构，所述第二子电极对应于亚像素的透明结构。

其中，所述亚像素彩膜的透明结构为镂空区域，所述亚像素的非透明结构为非镂空区域，所述第一子电极对应于亚像素彩膜的非镂空区域，所述第二子电极对应于亚像素彩膜的镂空区域。

具体的，本发明实施例提供一种彩膜基板4，如图4所示，包括：

第一透明基板400，设置于所述第一透明基板400上的彩膜401以及设置于所述彩膜401上的公共电极层402。

所述彩膜401包括阵列形式排列的多个像素区域，每个像素区域包括多个亚像素彩膜，每个亚像素彩膜具有透明结构，如图1所示，至少一个亚像素彩膜具有透明结构，每个亚像素彩膜的非透明结构。

如图2所示，所述公共电极层包括第一子电极21和第二子电极22。如图3所示，所述第一子电极21对应于亚像素的非透明结构，所述第二子电极22对应于亚像素的透明结构。

如图3所示，所述亚像素彩膜的透明结构为镂空区域12，在所述亚像素彩膜的镂空区域12不涂覆RGB胶，所述亚像素的非透明结构为非镂空区域11，在所述亚像素彩膜的非镂空区域11涂覆RGB胶，所述第一子电极21对应于亚像素彩膜的非镂空区域11，所述第二子电极22对应于亚像素彩膜的镂空区域12。

进一步地，所述彩膜基板还包括：

设置于所述第一透明基板与所述公共电极层之间的遮光条，所述遮光条具有多个开口区域，所述彩膜形成于所述遮光条的开口区域。

需要说明的是，所述遮光条可以为黑矩阵，也可以为其它，本发明实施例对此不作具体限定。

本发明实施例提供的彩膜基板，包括第一透明基板，设置于所述第一透明基板上的彩膜以及设置于所述彩膜上的公共电极层，所述彩膜包括阵列形式排列的多个像素区域，每个像素区域包括多个亚像素彩膜，至少一个亚像素彩膜具有透明结构，所述公共电极层包括第一子电极和第二子电极，所述第一子电极对应于亚像素的非透明结构，所述第二子电极对应于亚像素的透明结构。在该方案中，由于公共电极层包括第一子电极和第二子电极，并分别对第一子电极和第二子电极输入不同的电压信号，使得液晶的偏转不同，从而实现了透明与不透明显示模式的切换。

本发明实施例提供一种显示方法，该显示方法应用于下述实施例所述的显示装置的显示过程中，所述显示装置的彩膜基板包括第一透明基板，设置于所述第一透明基板上的彩膜以及设置于所述彩膜上的公共电极层，所述彩膜包括阵列形式排列的多个像素区域，每个像素区域包括多个亚像素彩膜，至少一个亚像素彩膜具有透明结构，所述公共电极层包括第一子电极和第二子电极，所述第一子电极对应于亚像素的非透明结构，所述第二子电极对应于亚像素的透明结构，其中，所述方法包括：

S101、当所述显示装置工作在透明显示模式时，所述第一子电极和所述第二子电极分别接收第一电压信号。

具体的，如图3所示，所述亚像素彩膜的透明结构为镂空区域12，在所述亚像素彩膜的镂空区域12不涂覆RGB胶，所述亚像素的非透明结构为非镂空区域11，在所述亚像素彩膜的非镂空区域11涂覆RGB胶，所述第一子电极21对应于亚像素彩膜的非镂空区域11，所述第二子电极22对应于亚像素彩膜的镂空区域12。

其中，透明显示，是用户在使用显示装置时，可以透过显示面板看到显示器后方的物体。如图6所示，当所述第一子电极和所述第二子电极分别接收第一电压信号61时，在第一子电极、第二子电极与像素电极之间的液晶偏转是相同的，使得光可以透过，从而实现了高透过率低色域显示，即所述显示装置工作在透明显示模式。

S102、当所述显示装置工作在非透明显示模式时，所述第一子电极接收所述第一电压信号，所述第二子电极接收第二电压信号。

具体的，非透明显示，是用户在使用显示装置时，只能看见显示器上的图像，而不可以看到显示面板后方的物体。如图6所示，当所述第一子电极接收所述第一电压信号61，所述第二子电极接收第二电压信号62时，在第一子电极、第二子电极与像素电极之间的液晶偏转是不同的，在第一子电极与像素电极之间的液晶偏转使得光可以透过，在第二子电极与像素电极之间的液晶偏转使得光不能透过，从而实现了低透过率高色域显示，即所述显示装置工作在非透明显示模式。

其中，所述第二电压信号的高电压大于像素电压信号的最大电压，所述第二电压信号的低电压小于所述像素电压信号的最小电压。

具体的，在显示装置工作过程中，阵列基板的像素电极的电压会有波动，因此要使得输入第二子电极的第二电压信号的高电压大于像素电压信号的最大电压，第二电压信号的低电压小于所述像素电压信号的最小电压，在第二子电极与像素电极之间的液晶发生偏转。对第一子电极与第二子电极输入不同的电压信号，使得在第一子电极与像素电极之间的液晶偏转与在第二子电极与像素电极之间的液晶偏转不同，由于两者之间的液晶偏转不同使得光的透过不同，从而实现了透明显示或非透明显示。

本发明实施例提供一种显示方法，所述显示方法应用于下述实施例所述的显示装置的显示过程中，所述显示装置的彩膜基板包括第一透明基板，设置于所述第一透明基板上的彩膜以及设置于所述彩膜上的公共电极层，所述彩膜包括阵列形式排列的多个像素区域，每个像素区域包括多个亚像素彩膜，至少一个亚像素彩膜具有透明结构，所述公共电极层包括第一子电极和第二子电极，所述第一子电极对应于亚像素的非透明结构，所述第二子电极对应于亚像素的透明结构，所述方法包括，当所述显示装置工作在透明显示模式时，所述第一子电极和所述第二子电极分别接收第一电压信号，当所述显示装置工作在非透明显示模式时，所述第一子电极接收所述第一电压信号，所述第二子电极接收第二电压信号。在该方案中，由于公共电极层包括第一子电极和第二子电极，并分别对第一子电极和第二子电极输入不同的电压信号，使得液晶的偏转不同，从而实现了透明与不透明显示模式的切换。

本发明实施例提供一种彩膜基板的制作方法，如图7所示，包括：

S201、在第一透明基板上形成彩膜，所述彩膜包括阵列形式排列的多个像素区域，每个像素区域包括多个亚像素彩膜，至少一个亚像素彩膜具有透明结构。

具体的，在第一透明基板上形成彩膜，如图1所示，所述彩膜包括阵列形式排列的多个像素区域，每个像素区域包括多个亚像素彩膜，至少一个亚像素彩膜具有透明结构，其中，亚像素彩膜的透明结构为镂空区域，亚像素的非透明结构为非镂空区域，在图1中每个亚像素彩膜包括非镂空区域11和镂空区域12。

S202、在所述彩膜上形成公共电极层，所述公共电极层包括第一子电极和第二子电极，所述第一子电极对应于亚像素的非透明结构，所述第二子电极对应于亚像素的透明结构。

具体的，在如图1所示彩膜上形成如图2所示的公共电极层，其中，所述公共电极层包括第一子电极21和第二子电极22，所述第一子电极21对应于每个亚像素的非镂空区域11，所述第二子电极22对应于每个亚像素的镂空区域12，形成如图3所示的彩膜基板。

可选的，本发明实施例还提供一种彩膜基板的制作方法，如图8所示，包括：

S301、在第一透明基板上形成阵列形式排列的多个像素图案，每个像素图案包括多个亚像素图案。

具体的，如图1所示，在第一透明基板上形成阵列形式排列的多个像素图案，其中，每个像素图案包括多个亚像素图案。举例说明，每个像素图案可以包括3个亚像素图案红绿蓝，则每3个红绿蓝亚像素图案形式一个像素图案，以一个像素图案为单元在所述第一透明基板上阵列形式排列。需要说明的，每个像素图案不仅限于包括3个亚像素图案，也可以是其它的亚像素图案，本发明实施例对此不作具体限定。

S302、采用一次构图工艺，在至少一个亚像素图案中形成透明结构，以形成所述亚像素彩膜，进而形成所述彩膜。

其中，所述亚像素彩膜的透明结构为镂空区域，所述亚像素的非透明结构为非镂空区域，采用一次构图工艺，在至少一个亚像素图案中形成透明结构，如图1所示，在每个亚像素图案中非镂空区域11，镂空区域12，以形成所述亚像素彩膜，进而形成所述彩膜。

S303、采用一次构图工艺，在所述彩膜上形成所述第一子电极和所述第二子电极。

采用一次构图工艺在如图1所示彩膜上形成如图2所示的公共电极层，其中，所述公共电极层包括第一子电极21和第二子电极22，所述第一子电极21对应于亚像素的非镂空区域11，所述第二子电极22对应于亚像素的镂空区域12，形成如图3所示的彩膜基板。

本发明实施例提供一种彩膜基板的制作方法，包括在第一透明基板上形成彩膜，所述彩膜包括阵列形式排列的多个像素区域，每个像素区域包括多个亚像素彩膜，至少一个亚像素彩膜具有透明结构，在所述彩膜上形成公共电极层，所述公共电极层包括第一子电极和第二子电极，所述第一子电极对应于亚像素的非透明结构，所述第二子电极对应于亚像素的透明结构。在该方案中，由于公共电极层包括第一子电极和第二子电极，并分别对第一子电极和第二子电极输入不同的电压信号，使得液晶的偏转不同，从而实现了透明与不透明显示模式的切换。

本发明实施例提供一种显示装置，包括相对设置的阵列基板及上述实施例所述的彩膜基板，以及填充于所述阵列基板及彩膜基板之间的液晶，其中，所述液晶为扭曲向列相TN液晶。

本发明实施例提供的显示装置，可以为液晶显示装置，该液晶显示装置可以为液晶显示器、液晶电视、数码相框、手机、平板电脑等具有显示功能的产品或者其它本发明不做限制。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。