技术特征：
技术总结
提供光掩模的制造方法、光掩模和显示装置的制造方法，一种光掩模的制造方法，其具备包含透光部、第1透过控制部和第2透过控制部的转印用图案，该方法包括下述工序：准备形成有第1光学膜和第1抗蚀剂膜的光掩模坯后，对第1抗蚀剂膜进行第1绘图，形成第1抗蚀剂图案；使用第1抗蚀剂图案仅对第1光学膜蚀刻，形成第1光学膜图案；在透明基板上形成第2光学膜后，在第2光学膜上形成第2抗蚀剂膜并进行第2绘图，形成第2抗蚀剂图案；和使用第2抗蚀剂图案仅对第2光学膜蚀刻，形成第2光学膜图案；第2抗蚀剂图案具有下述尺寸：在覆盖第2透过控制部的形成区域的同时，在第2透过控制部的边缘在相邻的第1透过控制部侧加上了特定宽度的裕量。
技术研发人员：金台勋;李锡薰
受保护的技术使用者：HOYA株式会社
技术研发日：2017.02.28
技术公布日：2018.03.27