掩膜版清理装置及方法与流程

技术特征：

技术总结
本发明公开了一种掩膜版清理装置，包括：加热机构，用于加热清理机构；清理机构，用于在被加热后接触掩膜版上的异物并清理所述异物。本发明还公开了一种掩膜版清理方法。本发明提供的掩膜版清理装置及方法，能够避免采用激光进行直接照射加热异物的方式而造成的工艺难以控制和掩膜版损伤的问题。

技术研发人员：赵德江
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司
技术研发日：2017.07.03
技术公布日：2017.09.26