光掩膜版及其光掩膜的制作方法

专利名称：：光掩膜版及其光掩膜的制作方法
技术领域：
：本发明涉及一种光掩膜版(photomaskblanks)及光掩膜。更详细地讲是涉及一种可以制作光掩膜的光掩膜版及其由此得到的光掩膜，该光掩膜可以用于PDP、FED、LCD等平板显示、CRT用荫罩、印刷电路板、半导体等领域的照相平版印刷工序。
背景技术：
：作为可以用于平板显示、CRT用荫罩、印刷电路板、半导体等领域的照相平版印刷工序的光掩膜、众所周知的有设有金属铬层(Cr层)的Cr掩膜、设有卤化银乳剂层的Em掩膜(乳胶掩膜)(如参照教育文科会编、「7才卜777'，少一-〉3>(照相化学腐蚀制造法)」、日本照相化学腐蚀制造法协会发行、6780页、1992年6月。)。铬掩膜是在石英或玻璃等透明基板上用溅射法形成铬层，然后在其上涂布抗蚀层，通过HeCd激光(442nm)等进行曝光、碱性水溶液等进行显影进行抗蚀层图案形成、铬的浸蚀以及抗蚀层的剥离来制作的。由于可以修正针眼等缺陷，因此铬掩膜具有高分辨率、高耐久性(耐擦伤性)、高洗净性优良的优点。另一方面，铬掩膜制作工序复杂，因而价格高，另外存在制作过程中因进行铬浸蚀而引起的废液处理等环境问题。Em掩膜是将卤化银乳剂层(感光性层)设置于石英或玻璃等透明基板上，通过YAG激光等曝光、显影、固定处理制作的。Em掩膜制作所用的卤化银乳剂对光的感光度高，因此曝光能量可以很小(0.lmj/cn^)、另外是对环境温和、价廉的光掩膜版。另一方面，由于Em掩膜使用卤化银作为感光性材料，因此分辨率不太高(3iim左右)，不适合制作极精细的图案，另外，由于感光性层是明胶膜，因而耐久性差。另外，Em掩膜还有缺陷难以修正的缺点。作为其它类型的光掩膜，已知的还有使用具有下述感光性层的光掩膜版制作的光掩膜，上述感光层含黑色颜料等黑色材料、可以通过近紫外线或可见光形成图像(参照特开2005-283914号公报、特开2001-343734号公报)。该光掩膜版具有的感光性层，由于对制作光掩膜时所照射的近紫外或可见光区域的吸光度小，因而感光度高，另一方面由于光掩膜使用时所照射的紫外区域的光的吸收特性良好，所以通过感光性层的曝光，显影，可以得到分辨率优良的光掩膜。另外，该光掩膜的特点在于不必设置金属膜，由于是浮雕画像，因而可以简便地进行缺陷修正，感光度或分辨率等的均衡良好，价格便宜，对环境的负荷小。然而，使用感光性层含黑色材料的光掩膜版制作光掩膜的情况下，通过曝光形成图像时由于黑色材料完全吸收了曝光光，存在基板附近难以固化的问题。对于光掩膜版的高感光度化，虽然光自由基聚合体系可以具有高的感光度，但由于空气中的氧的阻聚会大大降低感光度，因此采取了在感光性层上设置氧阻挡层的方法。但是，如果氧阻挡性过高，则容易产生由保存时的暗聚合反应引起的雾(fog)，使长期保存性变差。另外已明确在所含黑色材料的浓度很高时，曝光光只能到达感光性层表面附近，如果氧阻挡性过高，则只有感光性层表面部分进行固化，由此更深区域几乎没有固化，所以存在显影时感光性层的深层被挖去而成为房檐形状，分辨率、图像边缘部分的直线性变差的问题。另外，特开2004-117669号公报发表了在光聚合型阴型平版印刷版原版领域，通过控制氧阻挡层的氧透过率提高安全光线适当性等操作性等。另外，作为供激光扫描曝光的光掩膜版具有的问题，是对于激光照射部分和未照射部分，如何可以扩大所形成图像的开_关，即高感光度和保存稳定性的对立的问题。关于激光，近年来使用InGaN类材料，在350nm至450nm范围可以连续振动的半导体激光已进入实用阶段。使用这样的短波长光源的扫描曝光系统，由于半导体激光在结构上可以廉价制造，因此具有充分的输出，而且具有可以构筑经济的系统的长处。使用短波长光源的扫描激光系统，与过去使用的FD-YAG激光(532nm)或Ar激光(488nm)系统相比，可以使用在更亮的安全光线下可以作业的、在短波长范围具有感光性的感光材料。对于光固化性组合物，为了在各种激光的波长范围都具有对应的感光性，要使用在该波长范围具有吸收区域的增感色素。例如特开2003-295426号公报发表了使用含光学增白剂的组合物作为增感色素的激光二极管平版光聚合物版。至今，还没有提供一种包含同时满足高感光度、保存稳定性、分辨率和图像边缘直线性的感光性组合物的光掩膜版，现状是要谋求一种以往没有的新技术。
发明内容本发明鉴于上述以往的技术问题，要达成以下的目的。即，本发明的目的在于提供一种即使大量含有遮光材料也可以通过曝光以高感光度固化，并且保存稳定性优良的光掩膜版，以及用该光掩膜版制作的，可以形成高分辨率图像，图像边缘部分的直线性高的光掩膜。解决上述问题的方法如下所述。〈1>一种基板上具有感光性组合物层的光掩膜版，该感光性组合物层含有(A)下述式(1-1)(1-15)所示的至少一种光学增白剂、(B)聚合引发剂、(C)具有乙烯性不饱和键的化合物、(D)粘合剂聚合物和(E)遮光材料。[化l]式(I-1)式(I-2)、广式(I-3)、2<formula>formulaseeoriginaldocumentpage7</formula>式中X表示从以下所示结构中选择的2价连结基。下述基团中的A表示与式(1-6)-13)中的杂环的结合位置。[化4]、s'式(1-1)(1-15)所示的化合物可以具有取代基，也可以不具有取代基。在此，作为可以导入的取代基，可以列举从烷基、芳基、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、酰氧基、羧基、腈基、氨基、羟基、烷基磺酰基、氨基磺酰基和卤素原子中选择的至少一种。该取代基还可以再被取代。〈2〉上述〈1〉所述的光掩膜版，其中，上述(A)光学增白剂的取代基为从烷基、芳基、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、酰氧基、羧基、腈基、氨基、羟基、烷基磺酰基、氨基磺酰基和卤素原子中选择的至少一种。〈3〉上述〈1〉所述的光掩膜版，其中，上述(A)光学增白剂的摩尔吸光系数(O在1000以上。〈4〉上述〈1〉所述的光掩膜版，其中，上述(A)光学增白剂的分子量为200以上2000以下。〈5>上述〈1>所述的光掩膜版，其中，上述(A)光学增白剂的含量在感光性组合物层的全部固体成分中为O.110质量％。〈6>上述〈1>所述的光掩膜版，其中，上述感光性组合物层上还具有25t:下的氧透过性为50ml/m2dayatm以上500ml/m2dayatm以下的氧阻挡层。〈7>上述〈6>所述的光掩膜版，其中，上述氧阻挡层含有水溶性高分子化合物。〈8>上述〈6>所述的光掩膜版，其中，上述氧阻挡层的膜厚为0.05iim以上1.5iim以下。〈9>上述〈1>〈8>的任何一项所述的光掩膜版，其中，上述基板为厚0.lmm以上20mm以下的透明玻璃。〈10>上述〈1>〈9>的任何一项所述的光掩膜版，其中，上述(B)聚合引发剂为从六芳基双咪唑化合物、茂金属化合物、三嗪化合物、肟酯化合物和有机硼酸盐中选择的至少一种聚合引发剂。〈11>上述〈1>〈10>的任何一项所述的光掩膜版，其中，上述(B)聚合引发剂在感光性组合物层中的含量相对于构成感光性组合物层的全部固体成分IOO质量份为O.l20质量份。〈12>上述〈1>〈11>的任何一项所述的光掩膜版，其中，上述(D)粘合剂聚合物的分子量以重均分子量计为5，000300，000。〈13>上述〈1>〈12>的任何一项所述的光掩膜版，其中，上述(E)遮光材料的含量在感光性组合物层的全部固体成分中为10质量％50质量％。〈14>一种光掩膜，其具有将上述〈1>〈13>的任何一项所述的光掩膜版所具有的感光性组合物层图像曝光后显影形成的遮光层。〈15〉上述〈14〉所述光掩膜，其中，利用350nm以上450nm以下的光进行上述曝光。〈16>上述〈14>或〈15>所述的光掩膜，其中，上述遮光层中的线和间隙(L/S)的线宽为O.liim以上20iim以下。本发明的光掩膜版所发挥的高感光度和优良的保存稳定性，是源于感光性组合物层含有通式(1-1)(1-15)所示的光学增白剂(增感色素)作为必要成分。其作用机理尚不明确，现推测如下。首先，作为该增感色素赋予高感光度化的要因，推测为作为该增感色素使用的通式(1-1)(1-15)所示的光学增白剂与聚合引发剂的反应效率高，使得高速的光聚合成为可能。作为其它的可能性，被认为是作为增感色素使用的该光学增白剂的分子结构提高了增感反应初期(电子转移等)或聚合引发剂分解后继续进行的反应的效率。其次，作为该增感色素提高保存稳定性的要因，推测为由于该增感色素在自然经时条件下的色素凝聚、缔合等少，从而抑制了增感效率的下降。增感色素对光引发反应起着重要的作用，由于感光性组合物中的色素凝聚或缔合对曝光产生的自由基量的减少(感光度降低)，即对保存稳定性的降低有很大的影响，所以认为色素凝聚、缔合等少的该光学增白剂(增感色素)使得感光性组合物层，即光掩膜版的保存稳定性大大提高。根据本发明，可以提供即使在大量含有遮光材料的情况下，也可以通过曝光进行高感光度的固化，而且保存稳定性优良的光掩膜版，以及提供使用该光掩膜版制作的、可以形成高分辨率图像，图像边缘部分的直线性高的光掩膜。具体实施例方式下面对本发明的光掩膜版以及由此制作的光掩膜进行详细的说明。[光掩膜版]本发明的光掩膜版的特征在于在基板上具有感光性组合物层，而感光性组合物层含(A)下述式(1-1)(H5)所示的至少一种光学增白剂、(B)聚合引发剂、(C)具有乙烯性不饱和键的化合物、(D)粘合剂聚合物和(E)遮光材料。另外，根据需要，可以在该感光性组合物层上设置氧阻挡层等其它层。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage9</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage10</formula>式(I-15)式中X表示从以下所示的结构中选择的2价连结基。下述基团中的*表示与式(1-6)和式(1-13)中的杂环的结合位置。[化8]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage10</formula>式中(1-1)(1-15)所示的化合物可以具有取代基，也可以不具有取代基。在此，作为可以导入的取代基，可以列举从烷基、芳基、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、酰氧基、羧基、腈基、氨基、羟基、烷基磺酰基、氨基磺酰基和卤素原子中选择的至少一种。该取代基还可以再被取代。(感光性组合物层)本发明的光掩膜版所具有的感光性组合物层至少含有遮光层，而且是可以在紫外光或可见光下形成图像的层。即，感光性组合物层是将近紫外线或可见光形成的图像曝光，然后通过使用显影液进行显影处理可以形成图像的层。从环境问题上考虑，感光性组合物层优选为碱性显影型。本发明使用曝光部分固化，不溶于碱性显影液的阴型层。阴型感光性组合物层是通过曝光固化，形成遮光层的层，是由至少含有(A)光学增白剂、(B)聚合引发剂、(C)具有乙烯性不饱和键的化合物、(D)粘合剂聚合物和(E)遮光材料的感光性组合物形成的层。下面对感光性组合物层的各构成要素加以说明。首先阐述本发明的特征成分光学增白剂。〈(A)式(1-1)(H5)所示的光学增白剂〉本发明的光掩膜版所具有的感光性组合物层含有下述式(1-1)(1-15)所示的至少一种光学增白剂。[化9]式(I-2)式(I-3)[化10]11<formula>formulaseeoriginaldocumentpage12</formula>式中X表示从以下所示的结构中选择的2价连结基。下述基团中的*表示与式(1-6)和式(1-13)中的杂原子的结合位置。[化12]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage12</formula>式中(1-1)(1-15)所示的化合物可以具有取代基，也可以不具有取代基。在此，作为可以导入的取代基，可以列举从烷基、芳基、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、酰氧基、羧基、腈基、氨基、羟基、烷基磺酰基、氨基磺酰基和卤素原子中选择的至少一种。该取代基还可以再被取代。上述式(1-1)式(1-15)所示的光学增白剂中，更优选下述式(1-1-1)(1-15-1)所示的光学增白剂。[化13]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage13</formula>'下述式<formula>formulaseeoriginaldocumentpage13</formula>R5式(1-1-1)式(1-1-1)可以是W为甲基，且I^H和RS为氢原子的化合物(1-1-1-1)，或R2、R3、和R4为甲氧基，且R1和R5为氢原子的化合物(I-l+2)，或R1为氰基，且R2、R3、R4和R5为氢原子的化合物(1-1-1-3)，或R3为氰基，且W、R2、R，PR5为氢原子的化合物(1-1-1-4)。[化14]式(1-2-1)可以是R、R^RS和W为氢原子，且RS为甲氧基的化合物(1-2-1-1)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage13</formula>[化15]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage13</formula>式(1-3-1)式(1-3-1)是R1R1Q为氢原子的化合物(1-3-1-1)，或R1、R2和R4R1Q为氢原子，且R3为甲氧基的化合物(1-3+2)，或R1、R2、R4R7、R9和R10为氢原子，且R3和R8为甲氧基的化合物(1-3-1-3)。[化16]氢原子式(1-4-1)可以是W和W为氢原子、且I^为-S03Ph的化合物(1-4-1-1)，或W为且R2为氰基、R3为氯原子的化合物(1-4-1-2)。[化17]或W为R3为2-式(I-5-1)式(1-5-1)可以是W为t-丁基，且R2为氢原子，W为苯基的化合物(1-5-1-1)，甲基，且R2为氢原子，R3为甲氧基羰基的化合物(1-5-1-2)，或R1和R2为氢原子，且(4-甲基_氧杂_3，3-二唑)的化合物(1-5-1-3)。,12式(I-6-1)式(1-6-1)可以是X为4，4'_二苯乙烯二基，且11和12为氢原子的化合物(1-6-1-1)，或X为2，5-噻吩二基，且R1和R2为t-丁基的化合物(1-6-1-2)，或X为1，4-萘二基，且R1和R2为氢原子的化合物(1-6-1-3)，或X为1，1-亚乙基二基，且R1和R2为甲基的化合物(1-6-1-4)。式(I-7-1)式(1-7-1)可以是R1和R2为二乙基氨基的化合物(1-7-1-1)。[化20]式(I-8-1)式(1-8-1)可以是R1和R2为氢原子，且R3为_S02NH2的化合物(1_8-1_1)，或R1和R2为氢原子，且R3为_S02CH2CH2OCH2CH2NMe2的化合物(1-8-1-2)，或R1和R2为氢原子，且R3为-S02CH2CH20CH(CH3)CH2NMe2的化合物(1-8-1-3)，或R1和R2为氢原子，且R3为_S02CH3的化合物(1-8-1-4)，或R1和R2为氢原子，且R3为-S02CH2CH20H的化合物(1-8-1-5)。[化21]式(i-9-l)可以是W为氢原子，且12为甲基，W为二乙基氨基的化合物(1-9-1-1)，或R1为苯基，且R2为氢原子，R3为2-N-萘三唑基的化合物(1-9-1-2)，或R1为氢原子，且R2为甲基，R3为羟基的化合物(1-9-1-3)，或R1为苯基，且R2为氢原子，R3为NH-(4，6_二氯)_(1，3，5)-三嗪的化合物(1-9-1-4)，或R1为苯基，且R2为氢原子，R3为1_(3-甲基吡唑啉基)的化合物(1-9-1-5)。[化22]式(1-10-1)可以是W为氢原子，且f为甲氧基，lf为甲基的化合物(1-10-1-1)，或R1和R2为乙氧基，且R3为甲基的化合物(1-10-1-2)。[化23]式(1-11-1)可以是^为甲基，且X为氢原子的化合物(1-11-1-1)，或W为氢原子，且X为硝基的化合物(1-11-1-2)，或W为氢原子，且X为二甲基氨基的化合物(1-11-1-3)，或R1为氢原子，且X为甲氧基的化合物(1-11-1-4)，或R1为氢原子，且X为卤素原子的化合物(1-11-1-5)。式(I一l1_1)15[化24]式(1-12—1)式(1-12-1)可以是W和I^为甲基，且RS为氢原子的化合物(1-12-1-1)，或W和R2为甲基，且R3为-OCOMe的化合物(I-12+2)。[化25]式(I-13-1)X为4，4R1R1式(I-13-l)可以是X为1，2-亚乙基二基，且W为甲基的化合物(I-13-l-l)，或-二苯乙烯二基，且11为甲基的化合物(1-13-1-2)。[化26]式(I-14-1)(i-i4-r式(1-14-1)可以是R1为苯基，且R2-1)。[化27]为二乙基氨基，W为乙基的化合物式(1-15-1)可以是W和R2为甲氧基的化合物(1-15-1-1)。上述具体的例子中，尤其优选的化合物为1-9-1-1、1-6-1-1、1-4-1-1、1-2-1-1，更优选的化合物为1-2-1-1。光学增白剂是一种光吸收色素，其优选为吸收320450nm波长的光，在波长405nm下的摩尔吸光系数(e)在100以上100，000以下，能高效吸收蓝紫色区域波长的后述的(B)聚合引发剂的相互作用，从该聚合引发剂产生出自由基、酸和碱基中的至少一种的功能。光学增白剂显示的摩尔吸光系数(e)优选为1000以上10，000，000以下，更优选为10，000以上10，000，000以下。S卩，光学增白剂可以引起作为成分(B)的感光性组合物层中所含的各种聚合引发剂进行高效的分解，显示出非常高的感光性。—般已知的由增感色素/聚合引发剂组成的光引发体系的增感机理如下(a)基于从增感色素的电子激发状态向引发剂化合物的电子转移反应的引发剂化合物的还原分解，(b)基于从引发剂化合物向增感色素的电子激发状态的电子转移的引发剂化合物的氧化分解，(c)基于从增感色素的电子激发状态向引发剂化合物的能量转移，起于引发剂化合物的电子激发状态的分解，本发明所用的通式(1-1)(1-15)所示的光学增白剂在(c)类型的增感反应中可以引起出色的效率。作为光学增白剂的分子量，优选为2，000以下，更优选为l，OOO以下，通常为200以上。光学增白剂可以1种单独使用，也可以2种以上组合使用。特别优选的光学增白剂为可以溶解于有机溶剂的化合物。由于感光性组合物层的感光性、分辨率、曝光膜的物性受光源波长下的吸光度的影响很大，因此要考虑这些因素适当选择增感色素。例如，若吸光度在O.1以下和低波长范围，则感光性组合物层的感光度下降。另外，感光性组合物层由于受光晕的影响会使分辨率降低。但如果要使5ym以上的厚膜固化，这样低的吸光度有时反而会提高固化度。这些(A)光学增白剂的含量占感光性组合物层中全部固体成分的O.1IO质量％，优选为0.58质量％的范围。另外，(A)光学增白剂可以与已知的增感色素并用。此时，在确保本发明的效果的情况下，(A)光学增白剂的含量优选占感光性组合物中所含增感色素[(A)光学增白剂+其它增感色素]总量的1质量％以上，特别优选为10质量％以上。〈(B)聚合引发剂〉作为本发明中的(B)聚合引发剂，可以适当选择使用特许、文献等中已知的各种光聚合引发剂，或2种以上的光聚合引发剂的并用体系(光聚合引发体系)。本发明中，将单独使用的光聚合引发剂和2种以上的光聚合引发剂并用的体系统称为光聚合引发剂。本发明中的光聚合引发剂没有特别的限制，可以根据曝光波长适当选择。例如使用400nm附近的光作为光源的情况下，可以从苄基(《>-A)、苯甲酰基醚、米蚩酮(Micher'sketone)、蒽醌、噻吨酮、吖啶、吩嗪、二苯甲酮、六芳基双咪唑化合物等已知的光聚合引发剂中广泛选择使用。其中，作为(B)聚合引发剂，是与(A)光学增白剂共存下被光照射时接受增感色素的光激发能量产生活性自由基，使(C)乙烯性不饱和化合物聚合的自由基发生剂，可以优选列举六芳基二咪唑类化合物、二茂钛、茂金属化合物、三嗪化合物、肟酯化合物、卤代烃衍生物、二芳基碘鎗盐、有机硼酸盐以及有机过氧化物等。从曝光感光度、感光性组合物层对基板的粘附性以及保存稳定性等观点考虑，优选为六芳基二咪唑类化合物、茂金属化合物、三嗪化合物、肟酯化合物和有机硼酸盐，特别优选为六芳基二咪唑类化合物。下面对本发明中优选的光聚合引发剂即六芳基双咪唑化合物加以说明。17作为六芳基双咪唑化合物，可以使用欧洲特许第24629号、欧洲特许第107792号、美国特许第4410621号、欧洲特许第215453号和德国特许公开3211312号等各说明书所述的各种化合物。作为优选的化合物，可以列举如2，4，5，2'，4'，5'-六苯基二咪唑、2，2'-双(2-氯苯基)-4，5，4'，5'-四苯基二咪唑、2，2'-双(2-溴苯基)-4，5，4'，5'-四苯基二咪唑、2，2'-双(2，4-二氯苯基)-4，5，4'，5'-四苯基二咪唑、2，2'-双(2-氯苯基)-4，5，4'，5'-四(3-甲氧基苯基)-二咪唑、2，5，2'，5'-四(2-氯苯基)_4，4'-双(3，4-二甲氧基苯基)二咪唑、2，2'-双(2，6-二氯苯基)-4，5，4'，5'-四苯基二咪唑、2，2'-双(2-硝基苯基)-4，5，4'，5'-四苯基二咪唑、2，2'-二-0-甲苯基-4，5，4'，5'-四苯基二咪唑、2，2'-双(2-乙氧基苯基)-4，5，4'，5'-四苯基二咪唑和2，2'-双(2，6-二氟苯基)-4，5，4'，5'-四苯基二咪唑等。六芳基双咪唑化合物可以2种以上并用。使用六芳基双咪唑化合物作为光聚合引发剂时，该六芳基双咪唑化合物的使用量优选占后述的(C)乙烯性不饱和化合物总量100质量份的0.0550质量份，更优选占0.230质量份。其它的光聚合引发剂可以与六芳基双咪唑化合物并用。根据需要，通过与供氢化合物即2-巯基苯并噻唑、2_巯基苯并咪唑、2_巯基苯并噁唑等硫代化合物、N-苯基氨基乙酸、N，N-二烷基氨基芳香族烷基酯等胺化合物等并用，更能提高光聚合引发剂的光引发能力。作为适于本发明的能提高光引发能力的供氢化合物，可以特别列举含巯基的化合物。作为含巯基化合物的更适合的例子，可以列举下述通式(A)或(B)所示的化合物(以下称为"含巯基的杂环化合物")。下述通式(A)和(B)表示互变异构体的结构。[化28]NSHN又1*HN》SN(A)N-N(^3SH又UN-NHR'3(B)通式(A)和(B)中，R2、R3和R4各自独立地表示氢原子、取代或无取代的碳原子数1至18的直链或支链烷基、取代或无取代的碳原子数5至20的脂环式烷基或芳香基。作为取代基，可以列举卤素原子、羟基、氨基、硫代基、乙酰基、羧基等。通式(A)和(B)所示的化合物的优选的具体例子(SH1)至(SH20)表示如下，但本发明不只限于这些具体例子。以下的结构用上述互变异构体中的含-SH基的结构表示。通式(A)所示化合物的具体例子[化29]18(SH4)(SH5)(SH6)通式(B)所示化合物的具体例子[化30](SH7)(SH8)(SH9)(SH13)(S,(SH15)(SH18)m-N(SH19)Mem力(SH20)含巯基杂环化合物相对于六芳基双咪唑化合物等光聚合引发剂lmol的比率优选为0.210.0mol，更优选为0.56.Omol的比率，特别优选为0.54.Omol的比率。感光性组合物层中的聚合引发剂的含量优选占构成感光性组合物层的全部固体成分100质量份的0.120质量份，更优选占0.515质量份，特别优选占110质量份的范围。〈(C)具有乙烯性不饱和键的化合物(乙烯性不饱和化合物)>感光性组合物层含有具有乙烯性不饱和键的化合物(乙烯性不饱和化合物)。乙烯性不饱和化合物是指分子中具有至少一个乙烯性不饱和键的化合物，感光性组合物层受活性光线照射时，通过光聚合引发剂的作用进行加成聚合、交联、固化。乙烯性不饱和化合物可以从末端具有至少一个、优选2个以上、更优选26个乙烯性不饱和键的化合物中任意选择。具有单体、预聚物即2聚体、3聚体和低聚物、或它们的混合物以及他们的共聚物等化学形态的化合物。作为乙烯性不饱和化合物的例子，可以列举不饱和羧酸(如丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、丁烯酸、异丁烯酸、马来酸等)和多元醇化合物的酯，不饱和羧酸和多元胺化合物的酰胺等。作为多元醇化合物和不饱和羧酸的酯的单体的具体例子，丙烯酸酯有乙二醇二丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯、1，3-丁二醇二丙烯酸酯、四甲二醇二丙烯酸酯、丙二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(丙烯酰基氧丙基)醚、三羟甲基乙烷三丙烯酸酯、己二醇二丙烯酸酯、l，4-环己二醇二丙烯酸酯、四乙二醇二丙烯酸酯、季戊四醇二丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇二丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、山梨糖醇三丙烯酸酯、山梨糖醇四丙烯酸酯、山梨糖醇五丙烯酸酯、山梨糖醇六丙烯酸酯、三(丙烯酰基氧乙基)三异氰酸酯、聚酯丙烯酸酯低聚物等。甲基丙烯酸酯有四甲二醇二甲基丙烯酸酯、三乙二醇二甲基丙烯酸酯、新戊二醇二甲基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三甲基丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、l，3-丁二醇二甲基丙烯酸酯、己二醇二甲基丙烯酸酯、季戊四醇二甲基丙烯酸酯、季戊四醇三甲基丙烯酸酯、季戊四醇四甲基丙烯酸酯、二季戊四醇二甲基丙烯酸酯、二季戊四醇六甲基丙烯酸酯、二季戊四醇五甲基丙烯酸酯、山梨糖醇三甲基丙烯酸酯、山梨糖醇四甲基丙烯酸酯、双[P_(3-甲基丙烯酰氧-2-羟基丙氧基)苯基]二甲基甲烷、双-[p-(甲基丙烯酰氧乙氧基)苯基]二甲基甲烷等。衣康酸酯有乙二醇二衣康酸酯、丙二醇二衣康酸酯、l，5-丁二醇二衣康酸酯、1，4_丁二醇二衣康酸酯、四乙二醇二衣康酸酯、季戊四醇二衣康酸酯、山梨糖醇四衣康酸酯等。丁烯酸酯有乙二醇二丁烯酸酯、四乙二醇二丁烯酸酯、季戊四醇二丁烯酸酯、山梨糖醇四二丁烯酸酯等。异丁烯酸酯有乙二醇二异丁烯酸酯、季戊四醇二异丁烯酸酯、山梨糖醇四异丁烯酸酯等。马来酸酯有乙二醇二马来酸酯、三乙二醇二马来酸酯、季戊四醇二马来酸酯、山梨糖醇四马来酸酯等。还可以列举上述酯单体的混合物。另外，作为多元胺化合物与不饱和羧酸的酰胺单体的具体例子，有亚甲基双丙烯酰胺、亚甲基双甲基丙烯酰胺、1，6_六亚甲基双丙烯酰胺、1，6_六亚甲基双甲基丙烯酰胺、二亚甲基三胺三丙烯酰胺、苯二甲基二丙烯酰胺、苯二甲基二甲基丙烯酰胺等。作为其它的例子，可以列举特公昭48-41708号公报所述乙烯基聚氨酯化合物，它是将下述通式(m)所示的含羟基的乙烯基单体加成于1分子中具有2个以上异氰酸酯基的聚异氰酸酯化合物而使1分子中含有2个以上聚合性乙烯基的化合物。CH2=C(R)C00CH2CH(R')0H(m)(R禾PR'各自独立地表示H或CH3。)另外可以列举如特开昭51-37193号、特公平2_32293号各公报所述的聚氨酯丙烯酸酯类、特开昭48-64183号、特公昭49-43191号、特公昭52-30490号公报所述的聚酯丙烯酸酯类、环氧树脂和(甲基)丙烯酸反应所得环氧丙烯酸酯类等多官能丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。还可以使用日本粘接协会志Vol.20，No.7，300308页(1984年)介绍的光固化性单体和低聚物。作为本发明优选使用的乙烯性不饱和化合物，优选使用具有多个异氰酸酯基的化合物与具有羟基的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯加成反应所得的具有多个尿烷键的聚合性化合物，如特公昭56-17654号公报所述的化合物。这些乙烯性不饱和化合物的含量优选占感光性组合物层中全部质量的580质量％，特别优选占3070质量％的范围。〈(D)粘合剂聚合物〉感光性组合物层含有粘合剂聚合物。本发明中的粘合剂聚合物没有特别的限制，从对碱性水溶液的溶解性显影性的观点考虑，优选具有酸基的有机聚合物，特别优选具有羧基的有机聚合物。作为粘合剂聚合物的骨架，优选从丙烯酸树脂、聚乙烯基乙縮醛树脂、聚乙烯醇树脂、聚氨酯树脂、聚酰胺树脂、环氧树脂、甲基丙烯酸树脂、苯乙烯类树脂、聚酯树脂中选择的高分子骨架，其中，特别优选丙烯酸树脂、甲基丙烯酸树脂、苯乙烯类树脂等乙烯基共聚物、聚氨酯树脂。作为粘合剂聚合物，优选使用丙烯酸树脂、甲基丙烯酸树脂、聚氨酯树脂。粘合剂聚合物适当的例子之一是具有(a)含羧酸基或磺酸基的重复单元、(b)赋予自由基交联性的重复单元的共聚物。作为(a)含羧酸基或磺酸基的重复单元(以下称重复单元(a))的具体例子，可以列举下面(a-l)至(a-13)所示的结构，但本发明不只限于这些结构。[化31]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage23</formula>如果将总重复单元数设为IOO，则共聚物中重复单元(a)的含量为550，优选为525，更优选为515。作为重复单元(a)，特别优选含羧酸基的重复单元。作为(b)赋予自由基交联性的重复单元(以下称重复单元(b))的具体例子，可以列举下面(b-1)至(b-11)所示的结构，但本发明不只限于这些结构。[化32]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage24</formula>如果将总重复单元数设为IOO，则共聚物中重复单元(b)的含量为590，优选为2085，更优选为4080。本发明中的粘合剂聚合物，也可以具有下述通式(1)所示的重复单元(以下称重复单元(l))。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage24</formula>通式(1)中，X表示氧原子、硫原子或-NH-基，Y表示氢原子、碳原子数112的烷基、碳原子数512的脂环式烷基、具有碳原子数620的芳香环的基团。Z表示氧原子、硫原子、或-NH-基，&表示碳原子数118的烷基、具有碳原子数520的脂环结构的烷基或具有碳原子数620的芳香环的基团。作为重复单元(1)的具体例子，可以列举下面(1-1)(1-9)所示的结构，但本发明不只限于这些结构。如果将总重复单元数设为100，则重复单元(1)的含量为140，优选为325，更优选为515。作为重复单元(a)、(b)、(1)合适组合的具体例子，可以列举下述表l所示的(PP-1)(PP-11)，但本发明不只限于这些组合。[表l]<table>tableseeoriginaldocumentpage25</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage26</column></row><table>本发明中作为粘合剂聚合物使用的聚氨酯树脂优选具有交联性基团。在此交联性基团是指光掩膜版曝光时，在感光性组合物层中发生自由基聚合反应的过程中，使粘合剂聚合物交联的基团。只要是具有这样功能的基团，则没有特别的限制，例如，作为可以进行加聚反应的官能团，可以列举乙烯性不饱和基团、氨基、环氧基等。也可以是通过光照射成为自由基的官能团，作为这样的交联性基团，可以列举硫代基、卤素基、鎗盐结构等。其中优选乙烯性不饱和结合基，特别优选下述通式(1A)(3A)所示的官能团。[化35]通式(1A)通式(1A)中R1R3各自独立地表示氢原子或1价有机基团。作为R、优选列举氢原子或可以具有取代基的烷基等。其中，由于氢原子、甲基的自由基反应性高，因而是优选的。作为f和R可以各自独立地列举氢原子、卤素原子、氨基、羧基、烷氧基羰基、磺基、硝基、氰基、可以具有取代基的烷基、可以具有取代基的芳基、可以具有取代基的烷氧基、可以具有取代基的芳氧基、可以具有取代基的烷基氨基、可以具有取代基的芳基氨基、可以具有取代基的烷基磺酰基、可以具有取代基的芳基磺酰基等。其中氢原子、羧基、烷氧基羰基、可以具有取代基的烷基、可以具有取代基的芳基因为自由基反应性高，因而是优选的。通式(1A)中的X表示氧原子、硫原子或-N(R，-，R"表示氢原子或1价有机基团。作为R12的1价有机基团，可以列举可具有取代基的烷基等。其中作为R12，由于氢原子、甲基、乙基、异丙基的自由基反应性高，因而是优选的。作为可以导入的取代基，可以列举烷基、烯基、炔基、芳基、烷氧基、芳氧基、卤素原子、氨基、烷基氨基、芳基氨基、羧基、烷氧基羰基、磺基、硝基、氰基、酰胺基、烷基磺酰基、芳基磺酰基等。[化36]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage27</formula>通式(2A)中，WR8各自独立地表示氢原子或1价有机基团。作为WR8，优选列举氢原子、卤素原子、氨基、二烷基氨基、羧基、烷氧基羰基、磺基、硝基、氰基、可以具有取代基的烷基、可以具有取代基的芳基、可以具有取代基的烷氧基、可以具有取代基的芳氧基、可以具有取代基的烷基氨基、可以具有取代基的芳基氨基、可以具有取代基的烷基磺酰基、可以具有取代基的芳基磺酰基等。其中优选氢原子、羧基、烷氧基羰基、可以具有取代基的烷基、可以具有取代基的芳基。作为可以导入的取代基，示例为与通式(1A)同样的结构。另外，Y表示氧原子、硫原子、或-N(R12)、R"与通式(1A)的R"相同，优选的例子也相同。[化37]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage27</formula>通式(3A)通式(3A)中，WR"各自独立地表示氢原子或1价有机基团。作为R、优选列举氢原子或可以具有取代基的烷基等。其中由于氢原子、甲基的自由基反应性高，因而是优选的。作为R,R"，可以各自独立地列举氢原子、卤素原子、氨基、二烷基氨基、羧基、烷氧基羰基、磺基、硝基、氰基、可以具有取代基的烷基、可以具有取代基的芳基、可以具有取代基的烷氧基、可以具有取代基的芳氧基、可以具有取代基的烷基氨基、可以具有取代基的芳基氨基、可以具有取代基的烷基磺酰基、可以具有取代基的芳基磺酰基等。其中，由于氢原子、羧基、烷氧基羰基、可以具有取代基的烷基、可以具有取代基的芳基的自由基反应性高，因而是优选的。作为可以导入的取代基，示例为与通式(1A)相同的结构。另外，Z表示氧原子、硫原子、-N(R，-或可以具有取代基的亚苯基。R"与通式(1A)的R"相同，优选的例子也相同。从维持感光性组合物层的显影性的观点考虑，粘合剂聚合物的分子量，以重均分子量表示，优选为5，000300，000的范围。更优选的范围为20，000150，000。粘合剂聚合物在感光性组合物层中可以任意的量含有，但从图像强度等的观点考虑，优选占感光性组合物层中全部固体成分的1090质量％，特别优选占3080质量％。〈(E)遮光材料〉本发明的光掩膜版的感光性组合物层含有遮光材料。本发明的遮光材料是指，吸收250nm400nm的光，涂膜形成时的光学密度(0.D.)优选在2.5以上7.0以下的光吸收剂。本发明的遮光材料是指具有反射、吸收光掩膜适用的活性光线波长的光，而不使其透过的机能的材料，具体地讲，是指作为掩膜使用时实质上可以遮住曝光光源(水银灯、金属卤化物灯、氙灯等)发出的波长范围为200450nm，优选250400nm左右的光，涂膜形成时的光学密度(O.D.)要在2.5以上7.0以下，优选为3.0以上7.0以下的材料。本发明的遮光材料可以根据由光掩膜版制作的光掩膜的使用目的等适当选择。作为遮光材料，具体地，可以适当使用金属粒子(含金属化合物粒子、复合粒子、芯壳粒子等)、颜料等其它粒子、富勒烯等。作为本发明中可使用的遮光材料，优选为黑色材料，作为该黑色材料，优选为黑色颜料和金属微粒子中的至少一种。以下对本发明的遮光材料加以详细说明。-金属粒子_使用金属粒子作为遮光材料的情况下，该金属粒子可以由l种金属而成，也可以由2种以上的金属组合而成，也可以是合金。另外，金属粒子也可以是金属和金属化合物的复合微粒。从遮蔽能力、耐光性、耐热性的观点考虑，优选使用含金属化合物的粒子作为遮光材料。作为金属粒子中含有的优选的金属的例子，可以列举从铜、银、金、钼、钯、镍、锡、钴、铑、铱、铁、f丐、钌、餓、锰、钼、鸨、铌、钽、钛、铋、锑、铅以及它们的合金中选择的至少1种。更优选的金属是铜、银、金、钼、钯、镍、锡、钴、铑、钙、铱及其它们的合金。更优选的金属是从铜、银、金、钼、钯、锡、钙及其它们的合金中选择的至少1种。特别优选的金属是从铜、银、金、钼、锡及其它们的合金种选择的至少1种。特别优选银粒子(优选胶体银作为银)，具有银锡合金部分的粒子也是合适的。下面阐述具有银锡合金部分的粒子。金属化合物是指上述金属与金属以外的其它元素的化合物。作为金属与其它元素的化合物，可以列举金属的氧化物、硫化物、硫酸盐、碳酸盐等，作为金属化合物粒子，这些粒子是合适的。其中，从色调或微粒形成的难易考虑，优选为硫化物粒子。作为金属化合物的例子，有氧化铜(II)、硫化铁、硫化银、硫化铜(II)、钛黑等，但从色调、微粒形成的难易或稳定性的观点考虑，特别优选为硫化银。复合粒子是指金属和金属化合物结合成为1个粒子。可以列举如在粒子的内部和表面组成不同的粒子，2种粒子合二为一的粒子等。另外，金属化合物和金属可以分别使用l种，也可以2种以上并用。作为金属化合物和金属的复合微粒的具体例子，可以适当列举银和硫化银的复合微粒、银和氧化铜(II)的复合微粒等。使用复合粒子作为遮光材料的情况下，该复合粒子可以是具有芯壳结构的复合粒子(芯壳粒子)。芯壳型的复合粒子(芯壳粒子)是指在芯材料的表面覆盖有壳材料的粒子。作为构成芯壳型复合粒子的壳材料，可以列举从Si、Ge、AlSb、InP、Ga、As、GaP、ZnS、ZnSe、ZnTe、CdS、CdSe、CdTe、PbS、PbSe、PbTe、Se、Te、CuCl、CuBr、Cul、T1C1、TlBr、T1I或它们的固溶体、以及从含它们在90mol^以上的固溶体中选择的至少1种的半导体、或者从铜、银、金、钼、钯、镍、锡、钴、铑、铱、铁、钌、餓、锰、钼、鸨、铌、钽、钛、铋、锑、铅、f丐以及它们的合金中选择的至少1种的金属。为了降低反射率也可以适当使用壳材料作为折射率的调整剂。作为优选的芯材料，可以列举从铜、银、金、钯、镍、锡、铋、锑、铅以及它们的合金中选择的至少l种。作为具有芯壳结构的复合粒子的制作方法，没有特别的限制，作为代表性的方法，可以列举以下的(1)和(2)。(1)通过氧化、硫化在由已知方法制作的金属微粒的表面，形成金属化合物的壳的方法，如，将金属微粒分散于水等分散介质中，添加硫化钠或硫化铵等硫化物的方法。根据该方法将粒子的表面硫化可以形成芯壳粒子。此时使用的金属粒子，可以用气相法、液相法等已知的方法制作。关于金属粒子的制作方法，"超微粒的技术与应用的最新动向II"(住《于々7'J寸一，(股份)、2002年发行)上有所阐述。(2)在金属粒子制作过程中连续地在表面形成金属化合物壳的方法，如，在金属盐溶液中添加还原剂，使金属离子的一部分还原制作金属微粒，然后添加硫化物，在制作的金属微粒的周围形成金属硫化物的方法。金属粒子除了可以使用市售的以外，还可以通过金属粒子的化学还原法、非电解电镀法、金属蒸发法等调制。例如，对于棒状的银微粒而言，以球形银微粒作为种粒子，然后添加银盐，在CTAB(十六烷基三甲基铵溴化物)等表面活性剂的存在下，通过使用抗坏血酸等还原力比较弱的还原剂，可以得到银棒或线状的银。这些方法在AdvancedMaterials2002,14，80-82有记载。另夕卜，同样的方法在MaterialsChemistryandPhysics2004，84，197-204、AdvancedFunctionalMaterials2004，14，183-189也有记载。另外作为使用电解作用的方法，在MaterialsLetters2001，49，91-95或通过照射微波生成银棒的方法在JournalofMaterialsResearch2004，19，469-473都有记载。反向胶束和超声波并用的例子，可以列举JournalofPhysicalChemistryB2003,107，3679-3683的方法。关于金粒子，同样在JournalofPhysicalChemistryB1999，103、3073_3077以及Langmuir1999，15,701-709、JournalofAmericanChemicalSociety2002,124，14316-14317有记载。棒状粒子也可以用上述方法的改良(添加量调整、pH控制)方法调制。作为具有银锡合金部分的粒子，包括含银锡合金的粒子、含银锡合金部分和其它金属部分的粒子以及含银锡合金部分和其它合金部分的粒子。在具有银锡合金部分的粒子中，通过使用(股份)日立制作所制造的HD-2300和乂一，>(Noran)公司制造的EDS(能量分散型X射线分析装置)进行加速电压200kV下各粒子中心15nmX15nm范围的光谱测定，可以确认至少一部分由银锡合金构成。由于具有银锡合金部分的粒子的黑浓度高，以少量或薄膜即可发现优良的遮光性能，同时具有高的热稳定性，所以不损失黑浓度的高温(如200度以上)热处理成为可能，可以确保稳定的高度的遮光性。-颜料及其它粒子-作为遮光材料，可以使用颜料及其它粒子。使用颜料时，可以构成更接近黑色的色相。使用颜料作为遮光材料的情况下，颜料可以单独使用，也可以与上述的金属粒子共用。作为颜料及其它粒子，可以列举炭黑、钛黑、石墨等黑色材料而成的粒子。作为黑色颜料，可以列举脂溶性黑色HB(C.I.26150)、莫诺赖特坚牢黑B(C.I.颜料黑1)和炭黑等。作为炭黑的例子，优选为PigmentBlack(颜料黑)7(炭黑C.I.No.77266)。作为市售品，可以列举三菱炭黑MA100(三菱化学(股份)制)、三菱炭黑#5(三菱化学(股份)制)。作为钛黑的例子，优选为Ti02、Ti0、TiN或它们的混合物。作为市售品，可以列举三菱材料(7于'J7A《)(股份)制的12S或13M(商品名)。本发明可以使用上述以外的已知颜料作为遮光材料。颜料一般分为有机颜料和无机颜料，但优选有机颜料。作为适合使用的颜料的例子，可以列举偶氮类颜料、酞菁类颜料、蒽醌类颜料、二噁嗪类颜料、喹吖酮类颜料、异吲哚啉酮类颜料、硝基类颜料等。作为这样的有机颜料的色相，可以列举黄色颜料、橙色颜料、红色颜料、紫色颜料、蓝色颜料、绿色颜料、褐色颜料、黑色颜料等。本发明可以使用的其它颜料等的粒子列举如下。但本发明不只限定于这些粒子。作为具体的例子，可以适当使用特开2005-17716号公报所述的色材、特开2004-361447号公报所述的颜料、或特开2005-17521号公报所述的着色剂。另外，可以参照"颜料手册、日本颜料技术协会编、诚文堂新光社、1989"、"C0L0URINDEX、THESOCIETYOFDYES&C0L0URIST、THIRDEDITI0N、1987"所述的颜料适当使用。颜料与金属类粒子同时使用的情况下，希望使用与金属类粒子的色相呈互补关系的颜料。另外，颜料可以l种单独使用，也可以2种以上组合使用。作为优选的颜料组合，可以列举红色类和蓝色类相互具有补色关系的颜料混合物与黄色类和紫色类相互具有补色关系的颜料混合物的组合，或上述混合物再加上黑色颜料的组合，或蓝色类和紫色类、黑色类的颜料组合。本发明的遮光材料优选为炭黑。使用炭黑作为遮光材料的情况下，感光性组合物层可以只含有炭黑，也可以将炭黑与其它色材(如其它着色剂)并用。炭黑与其它色材并用时，如果感光性组合物层所含的全部着色剂中50质量％以上为炭黑，则感光性组合物层的色浓度成为高浓度，因而是优选的。使用颜料作为遮光材料时，优选具有100nm以下平均粒径的颜料，更优选lnm以上60nm以下的颜料。优选用分散剂将颜料分散在感光性组合物层的形成中所使用的感光性组合物中。感光性组合物层的全部固体成分中遮光材料的含量，取决于由光掩膜版制作的光掩膜的浓度、膜厚、制作光掩膜时的感光度、分辨率等，根据种类有所不同，但优选为10质量％50质量％，更优选为15质量％35质量％。〈(F)其它成分>本发明的感光性组合物层，除了上述必须的成分(A)(E)，根据需要可以并用各种化合物。现对可以用于感光性组合物层的其它成分加以说明。-UV吸收剂-为了提高紫外区域的吸光度，还可以将UV吸收剂等同时添加到感光性组合物层中。作为UV吸收剂，也可以使用如特开平9-25360号公报所述的那样，通过加热对紫外区域有强烈吸收的化合物。-热聚合抑制剂_作为其它的添加剂，在形成感光性组合物层时或光掩膜版保存中，为了阻止含可能聚合的乙烯性不饱和键的化合物的不需要的热聚合，优选添加少量的热聚合抑制剂。更优选添加热聚合防止剂。作为例子，可以列举氢醌、P-甲氧基苯酚、二-t-丁基-p-甲酚、邻苯三酚、t-丁基儿茶酚、苯醌、4，4'-硫双(3-甲基-6-t-丁基苯酚)、2，2'-亚甲基双(4-甲基-6-t-丁基苯酚)、2-巯基苯并咪唑、吩噻嗪、N-亚硝基苯基羟基胺亚铈盐、N-亚硝基苯基羟基胺铝盐等。热聚合抑制剂的添加量，优选占构成感光性组合物层的全部固体成分的约0.01质量％约5质量％。另外，根据需要，为了防止由氧引起的阻聚，可以添加正二十二烷酸或正二十二烷酰胺那样的高级脂肪酸衍生物等，在涂布后的干燥过程中这些高级脂肪酸衍生物等也可以在感光性组合物层的表面分布不均。高级脂肪酸衍生物等的添加量优选占构成感光性组合物层的全部固体成分的约0.5质量％约10质量％。-其它添加剂_本发明的感光性组合物中，根据需要可以添加已知的添加剂如增塑剂、表面活性剂等。〈感光性组合物层的形成〉感光性组合物层可以使用旋转涂布法、狭缝旋转涂布法、辊涂法、摸头涂敷法或帘式淋涂法等，将含上述各必须成分和任意成分的涂布液(感光性组合物层形成用涂布液)通过直接涂布设置于适当的基板上。感光性组合物层的膜厚，从膜厚的均一性、分辨率和感光度的观点考虑，优选为0.3iim7iim的范围。特别优选的厚度为0.5ym3ym。(基板)上述感光性组合物层形成于适当的基板上，成为本发明的光掩膜版。基板可以根据需要适当选择，从形成基板连同光掩膜，原样反复使用的观点考虑，优选光掩膜对使用的曝光光源的波长没有吸收的基板，例如用于可见光时，优选使用透明的基板。在此，透明的基板是指在350750nm的波长区域没有极大吸收的基板。-透明基板-作为本发明的光掩膜版的透明基板，可以适当使用象玻璃板(如石英玻璃、钠钙玻璃、无碱玻璃等)、透明塑料薄膜(如对苯二甲酸乙二醇酯等)那样的透明基板。透明基板的厚度可以根据光掩膜版适当设定，优选为0.lmm20mm的范围，更优选为lmm7mm的范围，更优选为lmm5mm的范围。(氧阻挡层)本发明的光掩膜版，为了适当控制氧的透过性，优选在感光性组合物层上具有氧阻挡层。下面对氧阻挡层加以说明。31氧阻挡层优选为25°C、1大气压下的氧透过性在1.0ml/m2dayatm以上500ml/mdayatm以下。由于氧阻挡层具有的氧透过性在上述范围内，因而在制造光掩膜版时和未经使用而保存(unusedstock)时，不会发生不需要的聚合反应，另外在制作光掩膜时的图像曝光时，也不产生不需要的雾、图像粗大的问题。所以由具有所涉及特征的本发明的光掩膜版，可以得到具有高分辨率和良好的图像边缘部分直线性的光掩膜。即使在氧阻挡层中，从可以获得高的分辨率和良好的图像边缘部分直线性的观点考虑，氧阻挡层的氧透过性尤其优选为50ml/m2'day*atm以上500ml/m2'day*atm以下，更优选为80ml/m2dayatm以上480ml/m2dayatm以下，特另U优选为100ml/m2dayatm以上470ml/m2dayatm以下，最优选的是150ml/m2dayatm以上460ml/m2dayatm以下。本说明书中氧阻挡层具有的氧透过性是通过以下的测定方法(末肯(《->)方法MOCONmethod)测定的氧透过率。-氧透过性的测定方法_将与感光性层上形成的氧阻挡层同样组成的涂膜涂布于氧透过性高的聚乙烯薄膜(溶解除去富士薄膜(股份)制"工"'一匕、于，一《一"一"的表面明胶层制作的聚乙烯层压纸)制作测定用的试样。根据JIS-K7126B和ASTM-D3985记载的气体透过度试验方法，使用末肯公司制0X-TRAN2/21，在25°C、60%RH环境下测定氧透过率(ml/m2dayatm)。氧阻挡层所具有的氧透过性的控制，可以通过氧阻挡层所含各成分的种类和含量的调整(具体地如聚乙烯醇皂化度的调整、增塑剂的添加等)、氧阻挡层膜厚的调整、采用显示出优选的氧透过性的树脂等各方法、或适当组合这些方法加以实施。另外，作为氧阻挡层所希望的特性，除了上述氧透过性外，还有不阻碍用于曝光的光的透过、与感光性层的附着力优良、而且在曝光后的显影工序容易除去。为了实现上述的氧透过性，下面详细阐述优选的氧阻挡层的构成。〈水溶性高分子化合物>从氧阻挡性和显影性的观点考虑，氧阻挡层优选含水溶性高分子化合物。作为水溶性高分子，优选使用结晶性比较优良的化合物。具体地可以列举如聚乙烯醇、乙烯醇/邻苯二甲酸乙烯酯共聚物、醋酸乙烯/乙烯醇/邻苯二甲酸乙烯酯共聚物、醋酸乙烯/丁烯酸共聚物、聚乙烯基吡咯烷酮、聚亚烷基二醇(聚乙二醇、聚丙二醇等)、酸性纤维素类、明胶、阿拉伯胶、聚丙烯酸、聚丙烯酰胺聚酯、聚氨酯等的水溶性聚合物，它们可以单独或混合使用。其中，聚乙烯醇作为主成分使用，对氧阻挡性、显影性等基本特性赋予最好的结果。作为聚乙烯醇的具体例子，可以列举乙烯醇单元的40100摩尔％被水解，聚合重复单元在300至2400范围的化合物。氧阻挡层使用的聚乙烯醇，只要为了具有氧阻挡性和水溶性而含有未取代的乙烯醇单元，则其一部分也可以被酯、醚和乙縮醛取代。另外，本发明使用的聚乙烯醇，可以含有酸改性聚乙烯醇等聚乙烯醇衍生物，或具有乙烯醇单元以外的聚合单元的共聚物。作为水溶性高分子化合物，优选使用的聚乙烯醇市售品可以列举(股份)库来(夕，^)制的PVA_105、PVA-llO、PVA_117、PVA-117H、PVA_120、PVA_124、PVA-124H、PVA-CS、PVA-CST、PVA-HC、PVA_203、PVA_204、PVA_205、PVA_210、PVA_217、PVA_220、PVA-224、PVA-217EE、PVA-217E、PVA-220E、PVA-224E、PVA-405、PVA-420、PVA-505、PVA-613、L-8、KL-504、KL-506、KL_318、KL_118、KM_618、KM_118、C_506、R_2105、R_1130、R_2130、M-205、MP-203、LM15、LM20、LM25等，它们可以单独也可以混合使用。作为具有适用于氧阻挡层所用聚乙烯醇的乙烯醇单元以外的聚合单元的共聚物，可以列举乙烯醇/乙烯基吡咯烷酮共聚物等。作为聚乙烯醇衍生物，优选使用酸改性聚乙烯醇。在此，酸改性聚乙烯醇是指具有羧基等酸基基团的聚乙烯醇衍生物。酸改性聚乙烯醇，只要高分子中含有具有酸基的结构单元即可，该酸基，可以使用具有酸基的共聚合成分导入高分子中，也可以在聚乙烯醇聚合后使乙烯醇单元的羟基等与具有酸基的化合物反应而导入。作为优选的酸改性聚乙烯醇，可以列举乙烯醇/邻苯二甲酸乙烯酯共聚物、乙烯醇/衣康酸共聚物等，其中优选乙烯醇/衣康酸共聚物等。酸改性聚乙烯醇，优选乙烯醇共聚比在85%以上的化合物。例如，作为酸改性聚乙烯醇，若使用乙烯醇/衣康酸共聚物，则该共聚物优选乙烯醇共聚比在90%以上，特别优选9599.5%的化合物。作为乙烯醇/衣康酸共聚物的市售品，可以列举如(股份)库来生产的KL-504、KL-506。从调整氧阻挡性的观点考虑，聚乙烯醇的皂化度优选为40mol%以上88mol%以下。特别优选皂化度60mol%以上88mol%以下的聚乙烯醇，最优选70mol%以上88mol%以下的聚乙烯醇。作为皂化度在上述范围的聚乙烯醇的市售品，可以列举如(股份)库来生产的PVA-205、PVA-405、PVA_420、PVA_505、KL_504、KL_506。这样的聚乙烯醇适用于氧透过性50ml/m2dayatm以上500ml/m2dayatm以下的氧阻挡层的形成。本发明用于氧阻挡层的聚乙烯基吡咯烷酮、聚亚烷基二醇、丙烯酸类树脂、纤维素等也含有其衍生物。作为聚乙烯基吡咯烷酮，可以列举聚乙烯基吡咯烷酮单一聚合物。另外，作为聚乙烯基吡咯烷酮，优选粘均分子量为5，00050，000的化合物。作为聚乙烯基吡咯烷酮，可以使用市售品，具体地优选为BASF公司生产的PVPK15、PVPK30。作为聚亚烷基二醇，可以列举如聚乙二醇、乙二醇/丙二醇共聚物等。作为聚乙二醇，优选重均分子量5，000100，000的聚乙二醇。作为聚乙二醇，可以使用市售品，具体地优选为(股份)WAK0生产的PEGft10000、PEG#5000。作为乙二醇/丙二醇共聚物，优选共聚比为90:1070:30、分子量为2，00020，000的乙二醇/丙二醇共聚物。作为乙二醇/丙二醇共聚物，可以使用市售品，具体地，可以列举ADEKA公司生产的普鲁罗尼克(/A口二，夕)L144、普鲁罗尼克L62、普鲁罗尼克L64、普鲁罗尼克F68、普鲁罗尼克P84、普鲁罗尼克F9。作为丙烯酸类树脂，可以列举如聚丙烯酸及其衍生物。作为聚丙烯酸衍生物，可以列举如以丙烯酸的金属盐作为构成单元的化合物。作为这样的聚丙烯酸衍生物，可以使用市售品，具体地可以列举(股份)东亚合成生产的阿仑(7口>)A-93、阿仑A-1015、阿仑A-1017。氧阻挡层中可以只含有1种水溶性高分子化合物，也可以2种以上并用。作为氧阻挡层中的高分子化合物的含量，优选占氧阻挡层的全部固体成分的80质量％99.5质量％，更优选占85质量％99.5质量％，更优选占90质量％99.0质〈表面活性剂〉氧阻挡层中可以添加表面活性剂。作为表面活性剂，可以使用如聚氧化乙烯蓖麻油醚、聚氧化乙烯月桂基醚、聚氧化乙烯十六烷基醚、聚氧化乙烯硬脂酰基醚等聚氧化乙烯烷基醚类，聚氧化乙烯辛基苯醚、聚氧化乙烯壬基苯醚等聚氧化乙烯烷基芳基醚类，聚氧化乙烯硬脂酸酯等聚氧化乙烯烷基酯类，山梨糖醇酐单月桂酸酯、山梨糖醇酐单硬脂酸酯、山梨糖醇酐二硬脂酸酯、山梨糖醇酐单油酸酯、山梨糖醇酐倍半油酸酯、山梨糖醇酐三油酸酯等山梨糖醇酐烷基酯类，甘油单硬脂酸酯、甘油单油酸酯等单甘油酯烷基酯类等非离子表面活性剂；十二烷基苯磺酸钠等烷基苯磺酸盐类、丁基萘磺酸钠、戊基萘磺酸钠、己基萘磺酸钠、辛基萘磺酸钠等烷基萘磺酸盐类，十二烷基硫酸钠等烷基硫酸盐类，十二烷基磺酸钠等烷基磺酸盐类，双十二烷基磺基琥珀酸钠等磺基琥珀酸酯盐类等阴离子表面活性剂；十二烷基甜菜碱、硬脂酰基甜菜碱等烷基甜菜碱类，氨基酸类等两性表面活性剂。作为特别优选的用于氧阻挡层的表面活性剂，可以列举聚氧化乙烯蓖麻油醚类表面活性剂。聚氧化乙烯蓖麻油醚类表面活性剂的主成分蓖麻油是由蓖麻的种子通过压榨法得到的植物性不干性油。该种子含3557%的油。成分中约含85%的不饱和羧酸十二羟油酸。十二羟油酸是末端具有羧基、12位具有羟基、9位具有不饱和双键的硬脂酸衍生物。聚氧化乙烯蓖麻油醚类表面活性剂是将环氧乙烷加成到该蓖麻油的主成分十二羟油酸而合成的非离子类表面活性剂的总称。加成过程中，根据条件，十二羟油酸的羟基和羧基反应，成为聚酯，分子量也能达到1万至2万，从而形成含高分子的表面活性剂。另外，将环氧乙烷加成于十二羟油酸的甘油型的表面活性剂也包含在聚氧化乙烯蓖麻油醚类表面活性剂中。聚氧化乙烯蓖麻油醚类表面活性剂的HLB优选为10.016.O，更优选为11.015.0。HLB如果小于10.O，则水溶性低，添加到聚乙烯醇水溶液中时，会产生浑浊。HLB如果大于16，亲水性过高，氧阻挡层的吸湿性会增加。另外聚氧化乙烯蓖麻油醚类表面活性剂的重均分子量，从摩擦系数和溶解性的观点考虑为8005，000、优选为1，0003，000。作为这样的聚氧化乙烯蓖麻油醚类表面活性剂的具体例子，可以列举竹本油脂股份公司生产的派欧恁("M才二>)D-225、派欧恁D-240-W、派欧恁D-230、派欧恁D-236、派欧恁D-225-K、花王股份公司生产的艾马恁(工7乂一>)CH-25、艾马恁CH-40、艾马恁CH-60等。使用聚氧化乙烯蓖麻油醚类表面活性剂时，其添加量优选占氧阻挡层全部固体成分的1.010质量％，更优选占2.06.0质量％。如果添加量少，则摩擦系数降低的效果有时会小，另一方面，如果添加量过多，则氧阻挡层的涂布性变差，有时会产生涂布斑。34作为氧阻挡层中的表面活性剂的含量，优选占氧阻挡层全部固体成分的0.12质量％。〈氧阻挡层的形成〉氧阻挡层可以通过调制用于形成氧阻挡层的涂布液，将该涂布液涂布于上述感光性组合物层上而形成。氧阻挡层的涂布方法可以适当使用逐次涂布方法和同时多层涂布方法中的任何一种，任何一种都没有关系。氧阻挡层的膜厚优选为0.05iim以上1.5iim以下，更优选为0.1iim以上1.0iim以下。(粘附性底涂层)在光掩膜版中，优选在基板(如玻璃基材等透明基板)上涂设粘附性底涂层。涂设粘附性底涂层时，感光性组合物层设置在粘附性底涂层之上。制作光掩膜时，对于曝光部分，粘附性底涂层能强化基板和感光性组合物层之间的附着力，而对于未曝光部分，可以使感光性组合物层容易从透明基板剥离，并提高显影性。作为粘附性底涂层，为了提高与感光性组合物层之间的附着力，优选具有聚合性化合物。作为聚合性化合物，特别优选具有乙烯性不饱和键的化合物，具体地，优选使用上述"具有乙烯性不饱和键的化合物(乙烯性不饱和化合物)"所述的化合物。作为乙烯性不饱和基团，优选使用(甲基)丙烯酰基、苯乙烯基、烯丙基醚基。另外，为了提高与基板的附着力，粘附性底涂层优选含有具有甲硅烷基的化合物。特别优选使用上述乙烯性不饱和化合物和具有甲硅烷基的化合物。作为粘附性底涂层所含的化合物，具体地，优选为3-氨基丙基三甲氧基硅烷、辛基三甲氧基硅烷、3-氰基丙基三乙氧基硅烷、[2-(3，4-环氧基环己基)乙基]三甲氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、烯丙基三甲氧基硅烷、乙烯基甲氧基硅烷、3-(N，N-二乙基氨基)丙基三甲氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、己基三甲氧基硅烷、p-苯乙烯基三甲氧基硅烷J-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3_甲基丙烯酰氧基丙基甲基二乙氧基硅烷，其中特别优选为3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3_甲基丙烯酰氧基丙基甲基二乙氧基硅烷。粘附性底涂层的涂设量，以干燥质量计，优选为2mg/m2200mg/m2，更优选为5mg/m100mg/m。如此，在基板上形成含(A)(E)各成分的感光性组合物层，优选在该表面形成氧阻挡层，从而得到本发明的光掩膜版。此时在基板和感光性组合物层之间优选形成粘附性底涂层。[光掩膜和光掩膜的制造方法]本发明的光掩膜的特征在于，其使用已述的本发明的光掩膜版，具有使光掩膜版所具有的感光性组合物在图像曝光后显影形成的遮光层。具体地，用近紫外线或可见光对已述的光掩膜版进行图像曝光(曝光工序)，然后使用显影液使曝光后的光掩膜版显影，除去感光性组合物层的未曝光部分(显影工序)，即可得到具有图像样遮光层(曝光部分)的光掩膜。作为使用本发明的光掩膜版制作的光掩膜(本发明的光掩膜)，合适的形态是使用放射350nm以上450nm以下光的激光(更优选放射390nm以上450nm以下的激光)对该光掩膜版进行图像曝光，然后显影制作的光掩膜。[曝光工序]曝光工序优选如下通过具有线图像、网点图像等的透明原画使光掩膜版进行图像样曝光，或由数码数据激光扫描等使光掩膜版进行图像样曝光。对本发明的光掩膜版的图像形成，适合使用激光曝光。作为曝光光源，优选放射350nm以上450nm以下范围光的激光，具体的，InGaN类半导体激光是合适的。作为放射350nm以上450nm以下范围光的激光列举如下。〈气体激光器>可以列举Ar离子激光器(364nm、351nm)、Kr离子激光器(356nm、351nm)、He_Cd激光器(441nm、325nm)等。〈固体激光器>可以列举Nd:YAG(YV04)和THG结晶的组合(355nm)、Cr:LiSAF和SHG结晶的组合(430nm)等。〈半导体激光器类>可以列举KNb03环型谐振器(430nm)、波导型波长变换元件和AlGaAs、InGaAs半导体的组合(380nm450nm)、波导型波长变换元件和AlGaInP、AlGaAs半导体的组合(300nm350nm)、AlGalnN(350nm450nm)等。〈其它激光器>作为脉冲激光器，可以列举N2激光器(337nm)、XeF(351nm)等。其中，从波长特性、成本面考虑，AlGaIn半导体激光器(InGaN类半导体激光器400nm410nm)是特别合适的。[显影工序]作为显影液，可以列举特公昭57-7427号公报所述的显影液，硅酸钠、硅酸钾、氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化锂、磷酸钠、磷酸氢钠、磷酸铵、磷酸氢铵、正硅酸钠、碳酸氢钠、氨水等无机碱性试剂，或者单乙醇胺或二乙醇胺等有机碱性试剂的水溶液是合适的。这样的碱性试剂，以含它们的碱性水溶液的浓度为0.110质量％，优选0.55质量％的方式添加。作为显影液使用的碱性水溶液中，根据需要可以添加少量的表面活性剂或苄基醇、2_苯氧基乙醇、2-丁氧基乙醇那样的有机溶剂。可以列举如美国专利第3375171号和同第3615480号记载的化合物。还有特开昭50-26601号、同58-54341号、特开昭56-39464号、同56-42860号各公报记载的显影液也是优良的。作为特别优选的显影液，可以列举含特开2002-202616公报记载的非离子性化合物，pH为11.512.8且具有330mS/cm电导率的显影液。显影工序中，作为显影液接触曝光后的光掩膜版的形态，可以列举手工处理、浸渍处理和机械处理等。作为手工处理，可以列举如使海绵或脱脂棉充分含有显影液，擦拭光掩膜版整体进行处理，处理终了后充分水洗的形态。作为浸渍处理，可以列举如将曝光后的光掩膜版浸渍于装有显影液的搪瓷盘或36深容器中搅拌，然后用脱脂棉或海绵边擦拭边充分水洗的方法。浸渍时间优选为约60秒。机械处理可以使用自动显影机。作为使用自动显影机的情况，例如将显影槽中装入的显影液用泵吸上来，通过喷嘴喷到曝光后的光掩膜版的处理方式，在装满显影液的槽中，通过液中导辊等，浸渍输送曝光后的光掩膜版的处理方式，将未使用的显影液按每一枚曝光后的光掩膜版所需的量供给，即一次性使用的处理方式，以上任何一种方式都是适用的。对于任何一种方式，更优选配备高压洗净、刷子或水胶绒等机构。另外，也可以利用激光器曝光部分和自动显影机部分一体组装的装置。另外，作为显影时显影液的温度，优选为20°C35°C的范围，更优选为25°C30。C的范围。[其它工序]对于光掩膜版，根据需要，在曝光前、曝光中、从曝光到显影的过程中，可以实施全面的加热处理。通过实施加热处理，可以促进感光层中的图像形成反应，提高感光度和感光度的稳定性等。另外，为了提高图像强度，对显影后的图像进行全面后加热或全面曝光也是有效的。通常显影前的加热优选在150°C以下的温和的条件下进行。另一方面，显影后的加热可以利用非常强的条件，通常在15050(TC的范围下进行。另外，在对光掩膜版进行图像形成后，可以在图像上设置热固化型的环氧树脂等的保护膜。通过在图像上设置保护膜，可以更提高膜的强度。如上使用本发明的光掩膜版，可以得到光掩膜(本发明的光掩膜)。本发明的光掩膜的遮光层的膜厚优选为0.8ym以上2.0ym以下，更优选为0.8iim以上1.8iim以下。本发明的光掩膜的遮光层的360nm下的光学密度(0.D.)优选为3.5以上7.0以下，更优选为4.0以上7.0以下。本发明的光掩膜的遮光层的最合适的形态是遮光层的膜厚和365nm下的0.D.双方都满足上述范围的形态。由于本发明的光掩膜版可以形成高分辨率的图像，因此可以在边缘直线性良好的状态下形成微细线宽的图像。使用这样的光掩膜版形成的光掩膜的合适形态之一是遮光层中的线和间隙(L/S)的线宽优选在O.liim以上30iim以下的形态。所形成的L/S的线宽优选在0.1iim以上25iim以下，更优选在0.1ym以上20ym以下，由上述本发明的光掩膜版，可以形成具有上述微细线宽的L/S的遮光层。所得光掩膜具有缺陷的情况下，可以用以下的方法进行缺陷修正。在此，对于光掩膜的缺陷而言，黑色部分的情况下主要是指黑色部分的拔白部分，如象针孔那样的光透过的缺陷。而白色部分的情况下是指，例如，本来应该成为白色部分的透明基板上附有杂质或感光性层，使光透过率降低的缺陷。黑色部分发生拔白的情况下，通过将感光性层涂布液(感光性组合物)涂布于缺陷周边，用HeCd激光曝光显影除去不要的感光性层，可以修正缺陷。另外，不用显影，用YAG激光将不要部分烧蚀除去也可以修正缺陷。白色部分缺陷的情况下，可以用YAG激光烧蚀除去。这种情况下，与Em掩膜不同，白色部分上没有感光性层等有机成分，因此激光烧蚀时不会产生新的缺陷。使用本发明的光掩膜版，可以得到分辨率高、图像边缘部分的直线性优良的光掩膜。另外，可以由简单的工序高产率地获得光掩膜。光掩膜的缺陷修正也更容易，可以制作便宜的光掩膜。使用本发明的光掩膜版所得的光掩膜，可以适用于PDP、FED、LCD等平板显示、CRT用荫罩、印刷电路板、半导体等领域的照相平版印刷工序。本发明所用的光掩膜用于紫外感光性保护膜的图案形成时，将带通滤波器组装到超高压水银灯等紫外线曝光机，可以选择曝光波长。[实施例]以下通过实施例更加详细地说明本发明，但本发明不只限定于这些实施例。[实施例13、比较例12]1.光掩膜版的制作(感光性组合物层的形成)将下述组成的感光性组合物层用涂布液组合物(P-l)涂布于玻璃基板(10cmX10cm)上，使干燥涂布质量为1.4g/m2，于IO(TC干燥1分钟，形成感光性组合物层。感光性组合物层用涂布液组合物(P-l)〉炭黑分散液(下述组成的分散液)乙烯性不饱和化合物(C-l)(下述结构的化合物)粘合剂聚合物(D-l)(下述结构的高分子粘合剂丽50000)光学增白剂或比较增感色素(表2所示化合物和量)聚合引发剂(表2所示化合物)链转移剂(F-l)(下述结构的化合物)氟类非离子表面活性剂麦嘎发库(乂力'7p夕)F780、大日本油墨化学工业(股份)生产)甲基乙基酮58质量份丙二醇单甲醚乙酸酯53质量份表216.0质量份4.2质量份3.6质量份0.21质量份0.81质量份0.3质量份0.05质量份<table>tableseeoriginaldocumentpage38</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage39</column></row><table>用于调制感光性组合物层用涂布液组合物(P-l)的炭黑分散液的组成如下。〈炭黑分散液的组成>炭黑13.1质量份(商品名Nipex35、艾伯尼克戴古杂日本(工求'二，夕亍"夕'寸-J、°>)(股份)生产)分散剂(下述结构的化合物)0.65质量份[化38]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage39</formula>聚合物6.72质量份(甲基丙烯酸苄基酯/甲基丙烯酸=72/28摩尔比的无规共聚物，分子量3.7万)丙二醇单甲醚乙酸酯79.53质量份实施例和比较例的感光性组合物层用涂布液组合物的调制所使用的光学增白剂(A-l)(A-3)、聚合引发剂(B-l)、含乙烯性不饱和键的化合物(C-l)、粘合剂聚合物(D-l)和链转移剂(F-l)的详细情况和结构如下所示。另外，聚合引发剂CGI7640是汽巴丐一(，K力j￥—)公司生产的市售的引发剂(有机硼酸盐类光聚合引发剂)。光学增白剂(A-l):I-1-1-2化合物(添加量0.21质量份)光学增白剂(A-2):1-6-1-1化合物(添加量0.21质量份)光学增白剂(A-3):1-7-1-1化合物(添加量0.21质量份)[化39][(MOS](氧阻挡层的形成)将下述组成的氧阻挡层涂布液涂布于各感光性组合物层上，在IO(TC干燥2分钟，形成氧阻挡层。氧阻挡层的膜厚(ym)，用"SURFC0M130A、东京精密(股份)制"直接测定，为0.2iim。另外，用上述方法测定该氧阻挡层的氧透过性，为170ml/m2dayatm。〈氧阻挡层涂布液〉*水87gPVA-405(库来生产)6gPVA-K30(BASF公司生产)6gEMALEX710(日本乳剂(工^-3>)(股份)生产、表面活性剂)lg如上操作，得到透明基板上具备了感光性组合物层和氧阻挡层的实施例13的光掩膜版和比较例12的光掩膜版。2.光掩膜版的评价(1)感光度评价将以上得到的实施例和比较例的各光掩膜版(10cmX10cm)，用VIOLD(大日本斯库林(》々'j一>)制造(股份)生产)(激光器输出350mW，光源是405nm紫色激光)作为激光绘图机进行曝光。接着将曝光后的各光掩膜版于3(TC浸渍于下述组成的碱性显影液1L中15秒进行显影，水洗后干燥。再在18(TC加热处理30分钟，得到所希望的光掩膜。曝光感光度是通过不断变化曝光量找到再现该光掩膜的线/间隙20iim/20iim的曝光量作为最适曝光量进行评价的。该数值越小越能以高感光度形成图像。结果示于下述表3。显影、加热处理后的光掩膜在365nm的吸光度约为4.0。40[O420]另外，用东京精密(股份)公司制造的萨胡扣母(寸一7-)480A测定的遮光层的膜厚为1.5iim。〈碱性显影液组成>包含下述组成的pHll.95的水溶液氢氧化钾0.1K硅酸钾2.4g(Si02/K20=1.9)下述化合物5.0g乙二胺四乙酸4Na盐0.lg.水91.3g[化40](2)分辨率测定、图像边缘部分直线性评价将实施例和比较例的各光掩膜版(10cmX10cm)，用VI0LD(大日本斯库林制造(股份)生产)(激光器输出350mW，光源是405nm紫色激光)作为激光绘图机进行曝光。接着将曝光后的各光掩膜版于3(TC浸渍于下述组成的碱性显影液1L中15秒进行显影，水洗后干燥。再在18(TC加热处理30分钟，得到所希望的光掩膜。不断变化曝光量形成图像，将再现光掩膜的线/间隙20iim/20iim时的曝光量定为最适曝光量，同时描绘同条件下4、6、8、15、20、25、30iim的线/间隙，将可以再现的线/间隙中最细的线宽定为分辨率。再用(股份)凯安斯(*一工>》)公司制造的显微镜对20iim线的边缘部分摄影，将边缘部分的直线性的偏差表示为标准偏差o。o值越小表示直线性越优良。(3)保存稳定性评价曝光量变化率评价将实施例和比较例的各光掩膜版在高温条件下(60°C)保存3天，然后与上述(1)感光度评价同样，变化曝光光量，寻找线/间隙20iim/20iim再现时的曝光量。上述(1)感光度评价的结果所示的初期最适曝光量(X°)与保存3天后的曝光量(X3)的差(X°_X3)很小，将下述式所示的曝光量变化率(％)定为保存稳定性的值，该值如果在10%以内，则评价为保存稳定性良好。曝光量变化率(％)=(X°_X3)/X°X100[表3]最合适光量(mj/cm2)分辨率(um)直线性o保存稳定性实施例180152.95.5<table>tableseeoriginaldocumentpage42</column></row><table>[O440](1000t表示在1000mJ/cm2以下的曝光量下，线/间隙20ym/20ym不能再现。)由表3可知各实施例的光掩膜版感光度高，而且保存稳定性优良，由此得到的光掩膜的分辨率高，图像边缘部分的直线性出色。权利要求一种光掩膜版，其在基板上具有包含(A)下述式(I-1)～下述式(I-15)所示的至少一种光学增白剂、(B)聚合引发剂、(C)具有乙烯性不饱和键的化合物、(D)粘合剂聚合物和(E)遮光材料的感光性组合物层，其中，式(I-1)～式(I-15)所示的化合物可以具有取代基，也可以不具有取代基，式中X表示选自以下所示的结构中的2价连结基，下述结构中的*表示与式(I-6)和式(I-13)中的杂环的结合位置，F200910164560XC0000011.tif,F200910164560XC0000021.tif,F200910164560XC0000022.tif2.根据权利要求l所述的光掩膜版，其中，所述(A)光学增白剂的取代基为选自烷基、芳基、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、酰氧基、羧基、腈基、氨基、羟基、烷基磺酰基、氨基磺酰基和卤素原子中的至少一种。3.根据权利要求l所述的光掩膜版，其中，所述(A)光学增白剂的摩尔吸光系数(O在1000以上。4.根据权利要求l所述的光掩膜版，其中，所述(A)光学增白剂的分子量为200以上且2000以下。5.根据权利要求l所述的光掩膜版，其中，所述(A)光学增白剂的含量在感光性组合物层的全部固体成分中为O.110质量％。6.根据权利要求l所述的光掩膜版，其中，所述感光性组合物层上还具有25。C下的氧透过性为50ml/m2'day'atm以上且500m1/m2dayatm以下的氧阻挡层。7.根据权利要求6所述的光掩膜版，其中，所述氧阻挡层中含有水溶性高分子化合物。8.根据权利要求6所述的光掩膜版，其中，所述氧阻挡层的膜厚为0.05iim以上且1.5iim以下。9.根据权利要求l所述的光掩膜版，其中，所述基板为厚0.lmm以上且20mm以下的透明玻璃。10.根据权利要求l所述的光掩膜版，其中，所述(B)聚合引发剂为选自六芳基双咪唑化合物、茂金属化合物、三嗪化合物、肟酯化合物和有机硼酸盐中的至少一种聚合引发剂。11.根据权利要求l所述的光掩膜版，其中，所述(B)聚合引发剂在感光性组合物层中的含量相对于构成感光性组合物层的全部固体成分100质量份为0.120质量份。12.根据权利要求l所述的光掩膜版，其中，所述(D)粘合剂聚合物的分子量以重均分子量计为5，000300，000。13.根据权利要求l所述的光掩膜版，其中，所述(E)遮光材料的含量在感光性组合物层的全部固体成分中为10质量％50质14.一种光掩膜，其具有通过对权利要求113中任意一项所述的光掩膜版所具有的感光性组合物层进行图像曝光后显影形成的遮光层。15.根据权利要求14所述的光掩膜，其中，利用350nm以上且450nm以下的光进行所述曝光。16.根据权利要求14所述的光掩膜，其中，所述遮光层中的线和间隙(L/S)的线宽为0.liim以上且20iim以下。全文摘要本发明提供一种光掩膜版及光掩膜，所述光掩膜版在基板上具有感光性组合物层，该感光性组合物层含有(A)下述式(I-1)～(I-3)所示的至少一种光学增白剂、(B)聚合引发剂、(C)具有乙烯性不饱和键的化合物、(D)粘合剂聚合物和(E)遮光材料。式(I-1)～(I-3)所示的化合物可以被烷基、芳基、烷氧基取代。文档编号G03F7/004GK101713913SQ200910164560公开日2010年5月26日申请日期2009年7月20日优先权日2008年9月30日发明者松本洋介申请人:富士胶片株式会社