专利名称：用于光掩膜版的防尘保护装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及rop、FED、IXD等平板显示，CRT用荫罩、印刷电路板、半导体等领域，尤其涉及一种光掩膜版(Photo mask blanks)防尘保护装置。
背景技术：
在曝光制程中，若光掩膜版上被微尘颗粒所污染，则会形成一个失真的影像在晶圆上，如此即产生一个瑕疵在晶片上。为了增加晶片生产良率，同时减少光掩膜版使用时清洁和检验的次数，通常会在光掩膜版表面覆盖上一层防尘保护膜，用以防止微尘 颗粒直接掉落于光掩膜版表面。在利用贴合胶和框架将防尘保护膜罩在光掩膜版表面时，受环境、机器、人员等各方面因素的影响，个别微尘颗粒会被覆盖在防尘保护膜里面，从而吸附在光掩膜版表面。此时，就需要将防尘保护膜拆除，将微尘颗粒除去，然后重新清洗光掩膜版，再贴覆上新的防尘保护月吴。具体请参考图I和图2，现有技术中用于保护光掩膜版10的防尘保护装置通常包括防尘保护膜20以及用于固定防尘保护膜20的框架60，防尘保护膜20和框架60限定的空间60’覆盖光掩膜版10的图案区域；当有微尘颗粒30被覆盖在防尘保护膜20与光掩膜版10限定的空间60’内时，需要先将防尘保护膜20拆除。拆除时是使用一根金属撬棒50作为工具放在撬棒支点40上，利用杠杆原理将防尘保护膜20翘起，然后移走。在这一过程中，撬棒支点40可能对光掩膜版10上的图形造成刮伤，从而引起光掩膜版10的报废。另一方面，防尘保护膜20拆除后，需要重新清洗，然后再贴覆上新的防尘保护膜20，这一过程将延长光掩膜版10的制作周期，延误晶片生产，严重的会引起客户投诉。
实用新型内容本实用新型提出一种用于光掩膜版的防尘保护装置，其目的在于更加方便的去除防尘保护膜与光掩膜版之间的微尘颗粒。为了实现上述目的，本实用新型提出的用于光掩膜版的防尘保护装置，所述光掩膜版具有图案区域，所述防尘保护装置包括防尘保护膜以及用于固定所述防尘保护膜的框架，所述防尘保护膜和所述框架限定的空间覆盖所述图案区域；所述防尘保护装置还包括至少一个移动窗，所述框架上开设有至少一个开孔，所述移动窗滑动安装在所述开孔处。进一步的，还包括一通过所述开孔伸入到所述空间内的吸尘管。进一步的，还包括设置于所述框架上的卡槽，所述移动窗通过所述卡槽滑动安装在所述开孔处。进一步的，所述框架包括多个首尾相连的边框。进一步的，所述框架包括四个首尾相连的边框。进一步的，所述四个边框均为矩形长条状。进一步的,所述框架的高度为3mnT7mm。[0013]进一步的，每个边框上至少开设有一个开孔。进一步的，其中两个相邻的边框上各开设一个开孔。进一步的，所述开孔的形状为长方形、圆形或三角形。进一步的，所述防尘保护膜为长方形。与现有技术相比，本实用新型的有益效果主要体现在在框架的开孔上添加可滑动的移动窗，当光掩膜版和防尘保护膜之间存在微尘颗粒时，打开移动窗，通过吸尘原理使用吸尘管从开孔伸入将微尘颗粒吸出并移走，避免了去除防尘保护膜并重新清洗防尘保护膜的步骤，节约了清理时间，还可以避免去除防尘保护膜时对光掩膜版上图案的伤害。
图I为微尘颗粒在光掩膜版上的结构示意图；图2为现有技术中去除防尘保护膜的结构示意图；图3为本实用新型一实施例的用于光掩膜版的防尘保护装置的结构示意图。
具体实施方式
为了便于了解，下面结合具体实施例来对本实用新型进行一步的描述。请参考图3，在本实用新型中，提出一种用于光掩膜版的防尘保护装置，所述光掩膜版11具有图案区域(图中未示出)，所述防尘保护装置包括防尘保护膜21以及用于固定所述防尘保护膜21的框架61，所述防尘保护膜21通过粘合剂贴在所述框架61上，所述防尘保护膜21和所述框架61限定的空间覆盖所述图案区域，所述框架61通过粘合剂贴在所述光掩膜版11上；所述防尘保护装置还包括至少一个移动窗71，所述框架61上开设有至少一个开孔81，所述移动窗71滑动安装在所述开孔81处。当光掩膜版11和防尘保护膜21之间存在微尘颗粒31时，打开移动窗70，即可通过吸尘原理从开孔81将微尘颗粒31吸出并移走。在本实施例中，所述的用于光掩膜版的防尘保护装置还包括一通过所述开孔81伸入到所述空间内的吸尘管90，用手控制吸尘管90接触微尘颗粒31，根据吸附原理微尘颗粒31粘附在吸尘管90上，再用手拿出吸尘管90，从而移除微尘颗粒31。在本实施例中，所述的用于光掩膜版的防尘保护装置还包括设置于所述框架61上的卡槽(图中未示出)，所述移动窗71通过所述卡槽滑动安装在所述开孔81处。在本实用新型的其他实施例中，移动窗71也可以通过其他方式安装在所述开孔81处，例如是顶针安装，需要注意的是，顶针安装需确保移动窗71是可以打开和关闭的。本实施例中，所述框架61包括四个首尾相连的边框，四个边框均为矩形长条状，与光掩模版11的图案区域的形状相匹配。当然，在本实用新型的其他实施例中，所述框架61的形状也可以根据光掩模版11上的图案区域的形状作适应性变化，例如，所述框架61也可以包括五个首尾相连的边框，亦或是，所述框架61为圆环形，只要保证防尘保护膜21能够覆盖图案区域，防止微尘颗粒31直接掉落于光掩膜版11表面即可。其中，每个边框的形状也可以适应性变化，不仅仅局限于矩形长条状。本实施例中，仅在其中两个相邻的边框上各开设一个开孔81，另外两个相邻的边框不开设开孔，降低制作成本。在本实用新型的其他实施例中，也可以在每个边框上均开设一个开孔81，便于吸尘管90对所述光掩膜版21的图案区域各个地方进行清理。所述框架61的高度例如为4mm、5_或6_。本实施例中，所述开孔81的形状为长方形。可以理解的是，框架61上的开孔81和移动窗71不限形状，可以为圆形、矩形及三角形等形状。只要保证移动窗71与开孔81的尺寸匹配，保证其密封性，在移动窗71遮住开孔81时不能让微尘颗粒进入即可，这样才能保证光掩膜版11不被污染。本实施例中，所述防尘保护膜21为长方形，由透明的高分子聚合物制成，便于光线的透过。当然，所述除尘保护膜21可以根据工艺的要求设置为其他形状，或者由其它透明材料制成。结合图3所示，所述的用于光掩膜版的防尘保护装置的工作原理如下在使用过程中，正常情况下，移动窗71是关闭的，开孔81不让微尘颗粒31进入，当微尘颗粒31进入并且粘附在光掩膜版11的表面时，就需要把移动窗71拉动打开，伸入吸尘管90，让吸尘管 90接触微尘颗粒31，基于吸附原理，微尘颗粒31会吸附在吸尘管90上，随后移走吸尘管90，再关闭移动窗71，从而达到洁净光掩膜版11的目的。本实用新型提出的用于光掩膜版的防尘保护装置，通过在框架的开孔上添加可滑动的移动窗，当光掩膜版和防尘保护膜之间存在的微尘颗粒时，打开移动窗，通过吸尘原理使用吸尘管从开孔伸入将微尘颗粒吸出并移走，避免了去除防尘保护膜并重新清洗防尘保护膜的步骤，节约了清理时间，还可以避免去除防尘保护膜时对光掩膜版上图案的伤害。综上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不对本实用新型起到任何限制作用。任何所属技术领域的技术人员，在不脱离本实用新型的技术方案的范围内，对本实用新型揭露的技术方案和技术内容做任何形式的等同替换或修改等变动，均属未脱离本实用新型的技术方案的内容，仍属于本实用新型的保护范围之内。
权利要求1.一种用于光掩膜版的防尘保护装置，所述光掩膜版具有图案区域，所述防尘保护装置包括防尘保护膜以及用于固定所述防尘保护膜的框架，所述防尘保护膜和所述框架限定的空间覆盖所述图案区域；其特征在于，所述防尘保护装置还包括至少一个移动窗，所述框架上开设有至少一个开孔，所述移动窗滑动安装在所述开孔处。
2.如权利要求I所述的用于光掩膜版的防尘保护装置，其特征在于，还包括一通过所述开孔伸入到所述空间内的吸尘管。
3.如权利要求I所述的用于光掩膜版的防尘保护装置，其特征在于，还包括设置于所述框架上的卡槽，所述移动窗通过所述卡槽滑动安装在所述开孔处。
4.如权利要求I所述的用于光掩膜版的防尘保护装置，其特征在于，所述框架包括多个首尾相连的边框。
5.如权利要求4所述的用于光掩膜版的防尘保护装置，其特征在于，所述框架包括四个首尾相连的边框。
6.如权利要求4所述的用于光掩膜版的防尘保护装置，其特征在于，所述四个边框均为矩形长条状。
7.如权利要求4所述的用于光掩膜版的防尘保护装置，其特征在于，所述框架的高度为 3mm 7mmο
8.如权利要求4所述的用于光掩膜版的防尘保护装置，其特征在于，每个边框上至少开设一个开孔。
9.如权利要求4所述的用于光掩膜版的防尘保护装置，其特征在于，其中两个相邻的边框上各开设一个开孔。
10.如权利要求I所述的用于光掩膜版的防尘保护装置，其特征在于，所述开孔的形状为长方形、圆形或三角形。
11.如权利要求I至10中任一项所述的用于光掩膜版的防尘保护装置，其特征在于，所述防尘保护膜为长方形。
专利摘要本实用新型提出一种用于光掩膜版的防尘保护装置，通过在框架的开孔上添加可滑动的移动窗，当光掩膜版和防尘保护膜之间存在微尘颗粒时，打开移动窗，通过吸尘原理使用吸尘管从开孔伸入将微尘颗粒吸出并移走，避免了去除防尘保护膜并重新清洗防尘保护膜的步骤，节约了清理时间，还可避免去除防尘保护膜时对光掩膜版上图案的伤害。
文档编号G03F1/64GK202794840SQ20122052048
公开日2013年3月13日 申请日期2012年10月11日 优先权日2012年10月11日
发明者朱丹遗 申请人:中芯国际集成电路制造(北京)有限公司