专利名称：光掩膜盒的制作方法
技术领域：
本发明涉及半导体制造领域，尤其是一种光掩膜盒。
背景技术：
空气尘粒是光掩膜制造工艺中的一种非常敏感的因素。即便非常小的尘粒也可以使光掩膜报废。空气尘粒会降低光掩膜的良率，增加生产和制造成本，避免尘粒污染是制造光掩膜过程中的每一个步骤制都需要注意的。
在制作光掩膜的过程中，当从曝光机台载出光掩膜时，数片掩膜放入同一个光罩盒。但是光掩膜的显影和蚀刻过程是一片一片进行的，因此每打开一次盒盖里面的光掩膜，该光掩膜盒里的所有光掩膜就会同时暴露在空气中一次。这意味着，当制作第二片光掩膜时，盒盖已经被打开过两次，以此类推，当制作第五片光掩膜时，盒子盖则已经被打开过五次。所以在第一片光掩膜之后，其余四片被环境中的尘粒污染的几率会大大提高。
已有的光掩膜盒只有一个整体的盖子，在制作光掩膜过程中光掩膜被污染的可能性很大，大大的增加了制造光掩膜的成本，降低了光掩膜生产的效率。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种光掩膜盒，能够减少光掩膜制作过程中光掩膜被空气中的尘粒污染的几率，并且可以减少成本，提高生产效率。
为解决上述技术问题，本发明一种光掩膜盒的技术方案是，包括将该光掩膜盒等分隔开的掩膜隔板，数个沿着掩膜排列方向依次连续排列的宽度等于两个掩膜隔板之间距离的相互独立的盖子。
本发明通过掩膜隔板将光掩膜盒分成几个大小相等的可以分别放置光掩膜的部分，在两块隔板之间设有可以单独取下和盖上的小盖子，这样在进行光掩膜制作过程中，因此不管哪一片光掩膜进行显影和蚀刻的制程，只要拿掉它上面的盖子就可以拿出光掩膜，不会使其他的光掩膜也同时暴露在空气中，这样就减少了光掩膜制作过程中受尘粒的影响的几率。可以增加产品的良率，提高生产效率。
下面结合附图和实施例对本发明作进一步描述图1为本发明结构示意图。
具体实施例方式
如图1所示，本发明一种光掩膜盒，包括将该光掩膜盒等分隔开的掩膜隔板，数个沿着掩膜排列方向依次连续排列的宽度等于两个掩膜隔板之间距离的相互独立的盖子。其中掩膜隔板的个数以及独立的盖子的个数由一个光掩膜盒内放置的光掩膜的数量决定。一般来说，光掩膜盒掩膜隔板个数为大于一的自然数，而所述的光掩膜盒的盖子的个数比掩膜隔板个数多一。在本发明的实施例中，所述的光掩膜盒掩膜隔板为四个，所述的光掩膜盒的盖子为五个，其中每个掩膜隔板之间距离相等，掩膜盒盖子的宽度和长度都一致。
通过本发明的光掩膜盒，在进行光掩膜制作过程中，只需拿掉正在制作的光掩膜上面的盖子，不会使其他的光掩膜也同时暴露在空气中，减少了光掩膜制作过程中受尘粒的影响的可能性。可以增加产品的良率，提高生产效率。
权利要求
1.一种光掩膜盒，其特征在于，包括将该光掩膜盒等分隔开的掩膜隔板，沿着掩膜排列方向依次连续排列的宽度等于两个掩膜隔板之间距离的相互独立的盖子。
2.根据权利要求1所述的光掩膜盒，其特征在于，所述的光掩膜盒掩膜隔板个数为大于一的自然数，所述的光掩膜盒的盖子的个数比掩膜隔板个数多一个。
3.根据权利要求1所述的光掩膜盒，其特征在于，所述的光掩膜盒掩膜隔板为四个，所述的光掩膜盒的盖子为五个。
全文摘要
本发明公开了一种光掩膜盒，包括将该光掩膜盒等分隔开的掩膜隔板，数个沿着掩膜排列方向依次连续排列的宽度等于两个掩膜隔板之间距离的相互独立的盖子。通过本发明的光掩膜盒，在进行光掩膜制作过程中，只需拿掉正在制作的光掩膜上面的盖子，不会使其他的光掩膜也同时暴露在空气中，减少了光掩膜制作过程中受尘粒的影响的可能性。可以增加产品的良率，提高生产效率。
文档编号B65D85/00GK101063805SQ200610026248
公开日2007年10月31日 申请日期2006年4月29日 优先权日2006年4月29日
发明者周正, 丁汉有 申请人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司