液晶面板及其制作方法与流程

本发明涉及液晶显示技术领域，尤其涉及一种液晶面板及其制作方法。

背景技术：

随着材料技术的不断开发，新的面板材料对产品工艺、生产效率的提升起到了很大的促进作用。例如，近期各面板企业积极研发的用一道新的黑色矩阵代替传统的bm(blackmatrix，黑色矩阵)和ps(photospacer，隔垫物)两道制程，该技术被命名为bcs、bps等。

多层灰阶(gray-tone)光罩制备bcs、bps的制程稳定性较差，制程窗口较窄，单一灰阶(1tone)光罩制备具备较大的开发前景。但由于该黑色矩阵(bps)需在平坦层(pfa)上制备，1tone制程中rgb像素之间的bps膜层较厚(约2～3um以上)。那么在cellpi(液晶盒的光配向)制程中，像素间较高的bps(bm)成为了pi液扩散流平的阻碍，致使部分像素未覆盖pi膜层，从而造成像素亮点，而且其随机性严重影响产品的良率，不利于量产。

技术实现要素：

鉴于现有技术存在的不足，本发明提供了一种液晶面板及其制作方法，使得像素间的bps膜层降低，改善基板表面的平坦性，提高显示面板的良率。

为了实现上述的目的，本发明采用了如下的技术方案：

一种液晶面板，包括第一基板、第二基板和填充在所述第一基板和所述第二基板之间的液晶，所述第一基板包括第一衬底、设于所述第一衬底上的子像素区域的色阻、覆盖在所述色阻表面的平坦层以及形成在所述平坦层上的bps膜层，所述平坦层在位于所述色阻之间的非子像素区域开设有第一凹槽，位于所述子像素区域的所述bps膜层凸出而抵接所述第二基板内表面，位于所述非子像素区域的所述bps膜层位于所述第一凹槽内。

作为其中一种实施方式，所述第一基板还包括设于所述第一衬底与所述平坦层之间的第二金属层和设于所述平坦层表面的第一像素电极层，所述平坦层上开设有贯穿的通孔，所述第一像素电极层部分设于所述通孔内并与正下方的所述第二金属层接触。

作为其中一种实施方式，所述第一基板还包括设于所述非子像素区域的由至少两层颜色不同的色阻堆叠形成的第一增高层，所述第一增高层及其上方的所述平坦层、所述bps膜层形成与所述第二基板接触的主隔垫物。

作为其中一种实施方式，所述第一基板还包括设于所述非子像素区域的单层色阻形成的第二增高层，所述第二增高层及其上方的所述平坦层、所述bps膜层形成朝向所述第二基板凸起并与所述第二基板间隔设置的副隔垫物。

作为其中一种实施方式，正对所述第一凹槽上方的所述bps膜层的表面凹陷设置形成第二凹槽。

本发明的另一目的在于提供一种液晶面板的制作方法，包括：

提供一第一衬底；

在所述第一衬底上方制作色阻层；

在所述色阻层和所述第一衬底表面涂布平坦层；

对所述平坦层刻蚀处理，在位于所述色阻层的色阻之间的非子像素区域的所述平坦层上形成第一凹槽；

在所述平坦层表面制作第一像素电极层；

在所述第一像素电极层和所述平坦层表面制作bps膜层，并刻蚀去除位于子像素区的全部bps材料，形成第一基板；

将第二基板与所述第一基板对位组立。

作为其中一种实施方式，在所述第一衬底上方制作色阻层前，还包括：在所述第一衬底自下而上依次制作相互绝缘的图案化的第一金属层、第二金属层，所述色阻层的图案形成在所述第一金属层、所述第二金属层的正上方；对所述平坦层刻蚀处理时，还包括：在所述平坦层上开设贯穿的通孔，所述第一像素电极层部分制作在所述通孔内并与正下方的所述第二金属层接触。

作为其中一种实施方式，在所述第一衬底上方制作色阻层时，包括分别制作位于子像素区域的色阻和位于非子像素区域的由至少两层颜色不同的色阻堆叠形成的第一增高层；所述第一增高层上方的所述bps膜层与所述第二基板接触。

作为其中一种实施方式，在所述第一衬底上方制作色阻层时，还包括制作位于非子像素区域的单层色阻形成的第二增高层，所述第二增高层上方的所述bps膜层朝向所述第二基板凸起并与所述第二基板间隔设置。

作为其中一种实施方式，在所述第一像素电极层和所述平坦层表面制作bps膜层后，在正对所述第一凹槽上方的所述bps膜层的表面制作第二凹槽。

本发明通过在平坦层制作工艺中，在平坦层对应于色阻之间的非子像素区域开设有第一凹槽，使得在后续制备bps膜层时可以使得黑色矩阵所在区域的高度降低，从而改善了基板表面的平坦性，提高了显示面板的良率。

附图说明

图1为本发明实施例的液晶面板沿非像素区域剖切的一个剖面结构示意图；

图2为本发明实施例的液晶面板沿像素区域剖切的一个剖面结构示意图；

图3为本发明实施例的液晶面板的制作方法流程图；

图4为本发明实施例的液晶面板的制作工艺过程图。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

参阅图1和图2，本发明实施例的液晶面板包括第一基板10、第二基板20和填充在第一基板10和第二基板20之间的液晶30，第一基板10包括第一衬底11、设于第一衬底11上的子像素区域的色阻12、覆盖在色阻12表面的平坦层13以及形成在平坦层13上的bps膜层14，平坦层13在位于色阻12之间的非子像素区域开设有第一凹槽130，位于子像素区域的bps膜层14凸出而抵接第二基板20内表面，位于非子像素区域的bps膜层14位于第一凹槽130内。

由于第一凹槽130的存在，其上方的bps膜层14可以嵌入其中，使得bps膜层14在该处的厚度可以做得很薄，即位于子像素区域的色阻12外围的黑色遮光的bps膜层14得以减薄，因此改善了第一基板10表面的平整度，当在第一基板10表面涂布配向液时，bps膜层14对于配向液流平的阻碍明显减小。

在制作色阻12前，首先还要在第一衬底11上制作出导电的第一金属层m1和第二金属层m2，具体是先在第一衬底11表面制作出图案化的第一金属层m1，然后在第一金属层m1上覆盖一层第一绝缘层g1，然后在第一绝缘层g1上制作图案化的第二金属层m2，使得第二金属层m2的图案与下方的第一金属层m1正对，然后在第二金属层m2的上方覆盖一层第二绝缘层g2，平坦层13形成在第二绝缘层g2表面。具体地，该第一金属层m1可以是栅极层，第二金属层m2可以是源/漏极层m2。

第一基板10还具有设于平坦层13表面的透明的第一像素电极层15，第二基板20包括第二衬底21和设于第二衬底21内侧的透明的第二像素电极层22，第一像素电极层15、第二像素电极层22用于配合而在子像素区域形成显示的子像素画面。平坦层13上开设有贯穿的通孔131，第一像素电极层15部分设于通孔131内并贯穿该通孔131后与正下方的第二金属层m2接触，从而实现电信号的导通。可以理解的是，第一基板10内表面、第二基板20内表面各设有一层配向膜层，以使液晶分子依照预定的顺序排列。

本实施例的bps膜层14位于色阻12之间的非子像素区域，包括位于第一凹槽130内的黑色矩阵、与黑色矩阵相邻的主隔垫物和副隔垫物，其中，第一基板10在非子像素区域具有由至少两层颜色不同的色阻堆叠形成的第一增高层16，第一增高层16及其上方的平坦层13、bps膜层14作为与第二基板20接触的主隔垫物，第一基板10在非子像素区域还具有单层色阻形成的第二增高层17，第二增高层17及其上方的平坦层13、bps膜层14构成朝向第二基板20凸起并与第二基板20间隔设置的副隔垫物。正对第一凹槽130上方的bps膜层14(即黑色矩阵)的表面凹陷设置形成第二凹槽140，使得第二凹槽140所在部位的bps膜层14的厚度得以减薄，以改善对于配向液涂布过程的阻碍，同时，第二金属层m2、通孔131正上方的bps膜层14的表面也凹陷形成第三凹槽141，使得该处的bps膜层14也得以减薄。

由于在第一衬底11上方利用了多个颜色不同的色阻堆叠形成第一增高层16，利用单层色阻形成第二增高层17，第一增高层16、第二增高层17制备方便，可以与位于子像素区域的色阻12一同制备，制作方便，第一增高层16及其上方的平坦层13、bps膜层14形成与第二基板20接触的主隔垫物、第二增高层17及其上方的平坦层13、bps膜层14形成朝向第二基板20凸起并与第二基板20间隔设置的副隔垫物，主隔垫物、副隔垫物分别由多层结构复合而成，二者的各层结构可以同时进行，逐层制作，非常方便，简化了制作工艺。

如图3和图4所示，本发明的液晶面板的制作方法主要包括：

s01、提供一第一衬底11，并在第一衬底11自下而上依次制作相互绝缘的图案化的第一金属层m1、第二金属层m2，色阻层的图案形成在第一金属层m1、第二金属层m2的正上方，具体是先在第一衬底11表面制作出图案化的第一金属层m1，然后在第一金属层m1上覆盖一层第一绝缘层g1，然后在第一绝缘层g1上制作图案化的第二金属层m2；

s02、在第一衬底11上方制作色阻层，包括：

分别制作位于子像素区域的色阻12和位于非子像素区域的由至少两层颜色不同的色阻堆叠形成的第一增高层16，并制作位于非子像素区域的单层色阻形成的第二增高层17。

s03、在色阻层和第一衬底11表面涂布平坦层13；

s04、对平坦层13刻蚀处理，在位于色阻层的色阻之间的非子像素区域的平坦层13上形成第一凹槽130，在平坦层13上开设贯穿的通孔131，第一像素电极层15部分制作在通孔131内并与正下方的第二金属层m2接触；

s05、在平坦层13表面制作第一像素电极层15；

s06、在第一像素电极层15和平坦层13表面制作bps膜层14，然后刻蚀去除位于子像素区的全部bps材料，形成第一基板10，同时，在正对第一凹槽130上方的bps膜层14的表面制作第二凹槽140；

s07、将第二基板20与第一基板10对位组立。第一增高层16上方的bps膜层14与第二基板20接触，第二增高层17上方的bps膜层14朝向第二基板20凸起并与第二基板20间隔设置。

本实施例的bps膜层14位于色阻12之间的非子像素区域，包括位于第一凹槽130内的黑色矩阵、与黑色矩阵相邻的主隔垫物和副隔垫物，其中，第一基板10在非子像素区域具有由至少两层颜色不同的色阻堆叠形成的第一增高层16，第一增高层16及其上方的平坦层13、bps膜层14作为与第二基板20接触的主隔垫物，第一基板10在非子像素区域还具有单层色阻形成的第二增高层17，第二增高层17及其上方的平坦层13、bps膜层14构成朝向第二基板20凸起并与第二基板20间隔设置的副隔垫物。正对第一凹槽130上方的bps膜层14(即黑色矩阵)的表面凹陷设置形成第二凹槽140，使得第二凹槽140的厚度得以减薄，以改善对于配向液涂布过程的阻碍。

综上所述，本发明通过在平坦层制作工艺中，在平坦层对应于色阻之间的非子像素区域开设有第一凹槽，使得在后续制备bps膜层时可以使得黑色矩阵所在区域的高度降低，从而改善了基板表面的平坦性，提高了显示面板的良率。

以上所述仅是本申请的具体实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本申请的保护范围。