蚀刻装置的制作方法

文档序号:11179072阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种蚀刻装置,该蚀刻装置包括:

蚀刻区(1),该蚀刻区(1)允许待蚀刻物件在其中进行蚀刻处理,且该蚀刻区(1)的上部呈突起状,所述突起的外侧面与所述蚀刻装置的外壁内侧是间隔开的;

水封区(2),该水封区(2)由所述蚀刻装置的外壁内侧、所述突起的外侧面和所述蚀刻区(1)的顶部所形成,该水封区(2)用于捕获由所述蚀刻区(1)外逸的蚀刻液和/或蚀刻气。

2.根据权利要求1所述的蚀刻装置,其特征在于,所述突起为锥体状、圆柱状或多面体状。

3.根据权利要求1所述的蚀刻装置,其特征在于,所述水封区(2)通过流体入口(3)和流体出口(4)被持续的供给用于捕获外漏的蚀刻液和/或蚀刻气的流体。

4.根据权利要求3所述的蚀刻装置,其特征在于,所述水封区(2)还包括溢流口(5),该溢流口(5)用于外排过量的流体,以使得所述水封区(2)内的流体的高度等于或低于所述突起的高度。

5.根据权利要求1-4中任意一项所述的蚀刻装置,其特征在于,所述水封区(2)还包括抽气孔(21),该抽气孔(21)用于外排由所述蚀刻区(1)外逸的蚀刻气和/或蚀刻液,且其高度高于水封区(2)中流体的高度。

6.根据权利要求1-4中任意一项所述的蚀刻装置,其特征在于,所述蚀刻装置还包括内盖(6),该内盖(6)用于封闭位于所述蚀刻区(1)上部突起的开口。

7.根据权利要求6所述的蚀刻装置,其特征在于,所述内盖(6)是蚀刻气和/或蚀刻液可透过的。

8.根据权利要求1-4中任意一项所述的蚀刻装置,其特征在于,所述蚀刻装置还包括外盖(7),该外盖(7)用于封闭及气密整个蚀刻装置。

9.根据权利要求8所述的蚀刻装置,其特征在于,所述外盖(7)是蚀刻气和/或蚀刻液不可透过的。

10.根据权利要求8所述的蚀刻装置,其特征在于,所述外盖(7)呈水平状或中间高两端低的折角状。

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