振片的偏振方向垂直，用于遮挡数据线与公共电极线之间的缝隙所产生的漏光。其中，该绝缘偏振层可以通过沉积工艺形成，或直接贴附到阵列基板的相应膜层上。
[0057]步骤52:提供一彩膜基板。
[0058]该步骤52具体操作为:
[0059]首先，提供第一基底，其中，该第一基底可以是玻璃基底、石英基底、金属基底等。该第一基底的材质并不做限定。
[0060]其次，在第一基底之上形成彩色光阻层，与现有技术不同的是，此处不需要为黑矩阵留下空隙，而是完全覆盖整个第一基底。
[0061]然后，在所述彩色光阻层之上形成第一保护层，其中，该第一保护层与现有技术中的保护膜层的作用材质同，在此不做赘述。
[0062]最后，在所述第一保护层之上形成第一透明电极，该第一透明电极一般为铟锡氧化物IT0。
[0063]此外，还需要在第一透明电极之上形成隔垫物，用以在对位贴合时起到支撑作用。
[0064]步骤53:将所述阵列基板与所述彩膜基板对位贴合，并在所述阵列基板中远离彩膜基板的一侧面设置第一偏振片，在所述彩膜基板中远离所述阵列基板的一侧面设置第二偏振片，所述第一偏振片与所述第二偏振片的偏振方向垂直，
[0065]一种较佳的实施例，所述阵列基板的制作方法具体包括:提供第二基底；在所述第二基底之上形成图案化的公共电极线，所述公共电极线限定出多个像素显示区域和像素显示区域所夹的走线区域；在所述走线区域，形成位于所述公共电极线之间的绝缘偏振层；形成覆盖整个第二基底的第二保护层；在所述第二保护层之上形成位于所述走线区域的数据线；形成第三保护层及第二透明电极。
[0066]另一种较佳的实施例，所述阵列基板的制作方法具体包括:提供第二基底；在所述第二基底之上形成图案化的公共电极线，所述公共电极线限定出多个像素显示区域和像素显示区域所夹的走线区域；形成覆盖整个第二基底的第二保护层；在所述第二保护层之上形成位于所述走线区域的数据线；在所述走线区域上方形成覆盖所述数据线的绝缘偏振层；形成第三保护层及第二透明电极。
[0067]实施例二:ADS模式下的液晶显示面板
[0068]如图6所示，为本发明实施例提供的一种TN模式下的液晶显示面板的结构示意图，该液晶显示面板主要包括:阵列基板61、相对设置的彩膜基板62、以及位于所述阵列基板61与所述彩膜基板62之间的液晶层63、设置在所述阵列基板61中远离所述彩膜基板62的一侧面的第一偏振片64、设置在所述彩膜基板62中远离所述阵列基板61的一侧面的第二偏振片65，所述第一偏振片64与所述第二偏振片65的偏振方向垂直。
[0069]其中，本发明实施例所涉及的所述彩膜基板62按照距离所述阵列基板61由远及近的顺序依次设置有:第一透明电极624，第一基底621，彩色光阻层622，第一保护层623。阵列基板61设置有绝缘偏振层611，所述绝缘偏振层611的偏振方向与所述第一偏振片64的偏振方向垂直，用于遮挡数据线与公共电极线之间的缝隙所产生的漏光。
[0070]与TN模式的液晶显示面板的结构类似，ADS模式下的液晶显示面板中绝缘偏振层的设置至少有以下两种结构。
[0071]结构3:如图7 (a)所示，为本发明实施例提供的阵列基板的第一种结构，该阵列基板7按照距离彩膜基板由远及近的顺序依次设置有:第二基底71，公共电极线72，绝缘偏振层73，第二保护层74，数据线75，第三保护层76，第二透明电极77。其中，公共电极线72为透明导电材料，其位于像素显示区域，而绝缘偏振层73填充公共电极线72之间的位于走线区域的空隙，以遮挡后续形成的数据线75与公共电极线72之间的缝隙产生的漏光。其中，该阵列基板7在远尚彩膜基板侧还贴附有第一偏振片78，该第一偏振片78的偏振方向与绝缘偏振层73的偏振方向垂直，从而，该第一偏振片78与绝缘偏振层73共同作用，形成用于遮挡透过该阵列基板的遮光层。
[0072]结构4:如图7(b)所示，为本发明实施例提供的阵列基板的另一种结构，该阵列基板8按照距离彩膜基板由远及近的顺序依次设置有:第二基底81，公共电极线82，第二保护层83，数据线84，绝缘偏振层85，第三保护层86，第二透明电极87。其中，绝缘偏振层85位于数据线84之上，被第三保护层86覆盖。该结构中的公共电极线82也是透明导电材料。其中，该阵列基板8在远尚彩膜基板侧还贴附有第一偏振片88，该第一偏振片88的偏振方向与绝缘偏振层85的偏振方向垂直，从而，该第一偏振片88与绝缘偏振层85共同作用，形成用于遮挡透过该阵列基板的遮光层。
[0073]在本发明实施例中，优选地，所述绝缘偏振层的材料为吸附有碘分子的单向取向性优异的树脂材料。具体地，所述绝缘偏振层的材料为拉伸后的聚乙烯醇PVA。
[0074]通过上述实施例可知，本发明通过在阵列基板上设置绝缘偏振层，并同时取消设置在彩膜基板上的黑矩阵，该绝缘偏振层的偏振方向与阵列基板侧的第一偏振片的偏振方向垂直，与彩膜基板侧的第二偏振片的偏振方向平行，从而，在阵列基板侧该绝缘偏振层与第一偏振片共同作用充当彩膜基板侧的黑矩阵的遮光作用，减少了由于对位贴合对位偏差而带来的数据线所在走线区域漏光，以及像素显示区域透过率降低的缺陷。同时，由于彩膜基板侧未设置黑矩阵，就不会存在段差以及表面不均一的情况，从而，在一定程度上减少了对位贴合造成的偏差。
[0075]对应上述实施例—所提供的液晶显不面板，本发明实施例还提供了一种液晶显不面板的制作方法。
[0076]如图8所示，为本发明实施例提供的一种液晶显示面板的制作方法的流程图，该方法主要包括以下步骤:
[0077]步骤91:提供一阵列基板；
[0078]该步骤91具体包括:在阵列基板上形成绝缘偏振层，所述绝缘偏振层的偏振方向与所述第一偏振片的偏振方向垂直，用于遮挡数据线与公共电极线之间的缝隙所产生的漏光。其中，该绝缘偏振层可以通过沉积工艺形成，或直接贴附到阵列基板的相应膜层上。
[0079]步骤92:提供一彩膜基板。
[0080]该步骤92具体操作为:
[0081]首先，提供第一基底，其中，该第一基底可以是玻璃基底、石英基底、金属基底等。该第一基底的材质并不做限定。
[0082]其次，在第一基底的一侧面形成第一透明电极，该第一透明电极一般为铟锡氧化物 ITOo
[0083]然后，在第一基底的另一侧面形成彩色光阻层，与现有技术不同的是，此处不需要为黑矩阵留下空隙，而是完全覆盖整个第一基底。从而，避免了由于段差带来的表面均一性较差的问题。
[0084]最后，在所述彩色光阻层之上形成第一保护层，其中，该第一保护层与现有技术中的保护膜层的作用材质同，在此不做赘述。
[0085]此外，还需要在第一保护层之上形成隔垫物，用以在对位贴合时起到支撑作用。
[0086]步骤93:将所述阵列基板与所述彩膜基板对位贴合，并在所述阵列基板中远离彩膜基板的一侧面设置第一偏振片，在所述彩膜基板中远离所述阵列基板的一侧面设置第二偏振片，所述第一偏振片与所述第二偏振片的偏振方向垂直。
[0087]—种较佳的实施例，所述阵列基板的制作方法具体包括:提供第二基底；在所述第二基底之上形成图案化的公共电极线，所述公共电极线覆盖的区域为像素显示区域；在相邻像素显示区域之间的走线区域，形成覆盖整个走线区域的绝缘偏振层；形成覆盖整个第二基底的第二保护层；在所述第二保护层之上形成位于所述走线区域的数据线；形成第三保护层及第二透明电极。
[0088]另一种较佳的实施例，所述阵列基板的制作方法具体包括:提供第二基底；在所述第二基底之上形成图案化的公共电极线，所述公共电极线覆盖的区域为像素显示区域；形成覆盖整个第二基底的第二保护层；在所述第二保护层之上形成位于相邻像素显示区域之间的走线区域的数据线；在所述走线区域上方形成覆盖所述数据线的绝缘偏振层；形成第三保护层及第二透明电极。
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