一种基板及其制作方法、显示面板、显示装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种基板及其制作方法、显示面板、显示装置。
【背景技术】
[0002]薄膜晶体管液晶显不面板(ThinFilm Transistor Liquid Crystal Display,TFT-LCD)是目前常用的平板显示器，液晶显示面板以其体积小、功耗低、无辐射、分辨率高等优点，被广泛地应用于现代数字信息化设备中。
[0003]随着产品的分辨率越来越高，像素的尺寸越来越小，产品的开口率越来越小，一般设计者通过减小黑矩阵的宽度来提升开口率，但是黑矩阵宽度的降低会导致串色不良的产生。另外，随着产品的色域提升，彩膜膜层越来越厚，导致光源和黑矩阵之间的距离越来越远，这进一步加剧了串色风险。
[0004]现有技术的串色现象如图1所示，液晶显示面板包括相对设置的阵列基板11和彩膜基板12，其中，阵列基板11包括衬底基板13、数据线14和有机膜15 ;彩膜基板12包括衬底基板13、黑矩阵16、彩膜层17和保护层18，彩膜层17包括红色(R)彩膜171、绿色(G)彩膜172和蓝色(B)彩膜173。当观察者从正面观看时，光线从R彩膜171的区域射出，此时观察者看到的图像颜色为红色，而当观察者以一定的侧视角从侧面观看时，部分光线很容易进入周边的像素区域，如图中的光线10从G彩膜172的区域射出，观察者看到的图像颜色为红色和绿色，即此时观察者看到的图像会发生串色。
[0005]综上所述，现有技术观察者以不同的侧视角观看液晶显示面板时，看到的颜色不同，现有技术的液晶显示面板会导致串色不良的产生。
【发明内容】
[0006]本发明实施例提供了一种基板及其制作方法、显示面板、显示装置，用以预防侧视角串色不良的产生。
[0007]本发明实施例提供的一种基板，包括位于衬底基板上的第一有机膜和第二有机膜，所述第一有机膜和所述第二有机膜用作平坦层，所述第一有机膜的折射率与所述第二有机膜的折射率不同；
[0008]所述第一有机膜和所述第二有机膜用于使得倾斜入射到所述基板的入射光线经过该第一有机膜和所述第二有机膜的界面后，该入射光线的出射光线向远离所述基板的方向偏转。
[0009]由本发明实施例提供的基板，包括第一有机膜和第二有机膜，第一有机膜和第二有机膜用作平坦层，第二有机膜的折射率与第一有机膜的折射率不同。当采用本发明实施例提供的基板形成显示面板时，观察者以一定的侧视角观看显示面板时，由于本发明实施例提供的基板包括的第一有机膜和第二有机膜用于使得倾斜入射到所述基板的入射光线经过该第一有机膜和所述第二有机膜的界面后，该入射光线的出射光线向远离所述基板的方向偏转，与现有技术的显示面板相比，倾斜入射到本发明实施例中的基板的大部分的光线会照射到黑矩阵上，从而能够有效预防侧视角串色不良的产生。
[0010]较佳地，所述基板为阵列基板或彩膜基板。
[0011]较佳地，所述第一有机膜和所述第二有机膜同层间隔接触设置；或，
[0012]所述第一有机膜和所述第二有机膜叠层设置。
[0013]较佳地，当所述基板为阵列基板，所述第一有机膜和所述第二有机膜同层间隔接触设置时，
[0014]所述第二有机膜的区域与像素区对应设置，所述第一有机膜的区域与所述像素区外的区域对应设置。
[0015]较佳地，所述第一有机膜的截面形状为倒梯形或矩形，所述第一有机膜和所述第二有机膜的接触面与水平面之间的夹角为30度到90度。
[0016]较佳地，当所述基板为彩膜基板，所述第一有机膜和所述第二有机膜同层间隔接触设置时，
[0017]所述第二有机膜的区域与黑矩阵区域对应设置，所述第一有机膜的区域与所述黑矩阵区域外的区域对应设置。
[0018]较佳地，所述第一有机膜的截面形状为梯形或矩形，所述第一有机膜和所述第二有机膜的接触面与水平面之间的夹角为30度到90度。
[0019]本发明实施例还提供了一种显示面板，所述显示面板包括上述的基板。
[0020]本发明实施例还提供了一种显示装置，所述显示装置包括上述的显示面板。
[0021]本发明实施例还提供了一种基板的制作方法，所述方法包括在衬底基板上制作第一有机膜和第二有机膜的方法，所述第一有机膜和所述第二有机膜用作平坦层，所述第一有机膜的折射率与所述第二有机膜的折射率不同；
[0022]所述第一有机膜和所述第二有机膜用于使得倾斜入射到所述基板的入射光线经过该第一有机膜和所述第二有机膜的界面后，该入射光线的出射光线向远离所述基板的方向偏转。
[0023]较佳地，所述基板为阵列基板或彩膜基板。
[0024]较佳地，当所述基板为阵列基板时，制作第一有机膜和第二有机膜的具体方法包括:
[0025]在制作有栅极线和数据线的衬底基板上沉积一层第二有机膜层；
[0026]对所述第二有机膜层进行曝光和显影，去除像素区外的区域对应区域的第二有机膜层，形成第二有机膜；其中，去除的第二有机膜层的截面形状呈倒梯形或矩形；
[0027]在完成上述步骤的衬底基板上沉积一层第一有机膜层；
[0028]对所述第一有机膜层进行曝光和显影，去除像素区对应区域的第一有机膜层，形成第一有机膜。
[0029]较佳地，当所述基板为阵列基板时，制作第一有机膜和第二有机膜的具体方法包括:
[0030]在制作有栅极线和数据线的衬底基板上沉积一层第一有机膜层，形成第一有机膜；
[0031]在完成上述步骤的衬底基板上沉积一层覆盖所述第一有机膜的第二有机膜层，形成第二有机膜。
[0032]较佳地，当所述基板为彩膜基板时，制作第一有机膜和第二有机膜的具体方法包括:
[0033]在制作有黑矩阵、彩膜层和保护层的衬底基板上沉积一层第二有机膜层；
[0034]对所述第二有机膜层进行曝光和显影，去除黑矩阵区域外的区域对应区域的第二有机膜层，形成第二有机膜；其中，去除的第二有机膜层的截面形状呈梯形或矩形；
[0035]在完成上述步骤的衬底基板上沉积一层第一有机膜层；
[0036]对所述第一有机膜层进行曝光和显影，去除黑矩阵区域对应区域的第一有机膜层，形成第一有机膜。
[0037]较佳地，当所述基板为彩膜基板时，制作第一有机膜和第二有机膜的具体方法包括:
[0038]在制作有黑矩阵、彩膜层和保护层的衬底基板上沉积一层第二有机膜层，形成第二有机膜；
[0039]在完成上述步骤的衬底基板上沉积一层覆盖所述第二有机膜的第一有机膜层，形成第一有机膜。
【附图说明】
[0040]图1为现有技术显示面板的截面结构示意图；
[0041]图2为本发明实施例提供的一种阵列基板的截面结构示意图；
[0042]图3为本发明实施例提供的第一种显示面板的截面结构示意图；
[0043]图4为本发明实施例提供的另一阵列基板的截面结构示意图；
[0044]图5为本发明实施例提供的第二种显示面板的截面结构示意图；
[0045]图6为本发明实施例提供的一种彩膜基板的截面结构示意图；
[0046]图7为本发明实施例提供的第三种显示面板的截面结构示意图；
[0047]图8为本发明实施例提供的另一彩膜基板的截面结构示意图；
[0048]图9为本发明实施例提供的第四种显示面板的截面结构示意图；
[0049]图10为本发明实施例提供的第五种显示面板的截面结构示意图；
[0050]图11(a)和图11 (b)为本发明实施例提供的基板为阵列基板时制作第一有机膜和第二有机膜的制作方法流程图；
[0051]图12-图15分别为本发明实施例提供的一种阵列基板在制作过程中的不同阶段的结构示意图；
[0052]图16(a)和图16 (b)为本发明实施例提供的基板为彩膜基板时制作第一有机膜和第二有机膜的制作方法流程图。
【具体实施方式】
[0053]本发明实施例提供了一种基板及其制作方法、显示面板、显示装置，用以预防侧视角串色不良的产生。
[0054]为了使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
[0055]附图中各膜层厚度和区域大小、形状不反应各膜层的真实比例，目的只是示意说明本
【发明内容】
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[0056]下面结合附图详细介绍本发明具体实施例提供的基板。
[0057]本发明具体实施例提供的基板为阵列基板或彩膜基板，下面分别以阵列基板和彩膜基板为例进行具体介绍。
[0058]实施例一:
[0059]如图2和图4所示，本发明具体实施例提供了一种基板，该基板为阵列基板，包括位于衬底基板13上的数据线14、第一有机膜21和第二有机膜22，第一有机膜21和第二有机