的腐蚀抑制剂可被吸收并残留在下层膜上，从而降 低含铜下层膜等的电特性。
[0061] 另一方面，用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物还可包含基于硅的非离子表面活 性剂。由于基于硅的非离子表面活性剂包括胺化合物等，因此甚至在具有高碱性的剥离剂 组合物中，其也能保持稳定而不会产生化学变化、变性或降解。并且，基于硅的非离子表面 活性剂可显示出与上述非质子极性溶剂或质子有机溶剂等优异的相容性。因此，基于硅的 非离子表面活性剂可与其他成分很好地混合，因此其可降低剥离剂组合物的表面张力，并 且能使所述剥离剂组合物对待除去的光致抗蚀剂和其下层膜显示出优异的利湿 (dampness)和润湿能力。因此，本发明的一个实施方案的含有基于娃的非离子表面活性剂 的剥离剂组合物对下层膜可显示出优异的光致抗蚀剂剥离能力以及优异的冲洗能力。因 此，甚至在剥离剂组合物处理之后，污点和异物也基本上不会存在，也不会残留在下层膜 上，因此可有效地除去污点和异物。
[0062] 此外，虽然基于硅的非离子表面活性剂以极低的量加入，但其仍可显示出上述效 果，并且可使由于它的变性或降解而产生的副产物减到最少。
[0063] 上述基于硅的非离子表面活性剂可包含基于聚硅氧烷的聚合物。更具体而言，在 本文中使用的基于聚硅氧烷的聚合物的实例可包括:聚醚改性的丙烯酸官能的聚二甲基硅 氧烷、聚醚改性的硅氧烷、聚醚改性的聚二甲基硅氧烷、聚乙基烷基硅氧烷、芳烷基改性的 聚甲基烷基硅氧烷、聚醚改性的羟基官能的聚二甲基硅氧烷、聚醚改性的二甲基聚硅氧烷、 改性丙烯酸官能的聚二甲基硅氧烷，或其两种以上的混合物等。
[0064] 基于硅的非离子表面活性剂的含有量可为0.0005至0.1重量％，或0.001至0.09重 量％，或0.001至0.01重量％，基于组合物的总重量计。当基于硅的非离子表面活性剂的含 量基于组合物的总重量计小于0.0005重量％时，由于表面活性剂的加入而引起的改善剥离 剂组合物的剥离和冲洗能力的效果可能不能充分实现。此外，如果基于硅的非离子表面活 性剂的含量基于组合物的总重量计超过0.1重量％，则在使用剥离剂组合物的剥离过程中， 可在高压下产生气泡，从而导致在下层膜上产生污点或导致设备传感器故障。
[0065] 如果需要，用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物还可包含常规的添加剂。所述添 加剂具体的类型和量无特别限制。
[0066] 此外，用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物可按照使上述成分混合的常规方法制 备。制备所述用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物的具体方法无特别限制。用于除去光致 抗蚀剂的光致抗蚀剂剥离剂组合物，即使不使用生殖毒性物质如NMF和DMAC，也能显示出优 异的剥离和冲洗能力。此外，其能随着时间的推移保持优异的剥离能力，因此可用于除去残 留在下层膜上的光致抗蚀剂图案。
[0067] 同时，根据本发明的另一实施方案，可提供一种用于剥离光致抗蚀剂的方法，其包 括下述步骤:在其中形成了下层膜的衬底上形成光致抗蚀剂图案;使用所述光致抗蚀剂图 案使所述下层膜图案化；以及，使用上述一个实施方案的用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组 合物剥离所述光致抗蚀剂。
[0068] 用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物的相关描述包括与上述一个实施方案相关 的详细描述。
[0069] 用于剥离光致抗蚀剂的方法可包括下述步骤:通过光刻法在其上形成有待图案化 的下层膜的衬底上形成光致抗蚀剂图案;用所述光致抗蚀剂图案作为掩模使所述下层膜图 案化；以及，使用上述剥离剂组合物剥离所述光致抗蚀剂。在该用于剥离光致抗蚀剂的方法 中，形成光致抗蚀剂图案和使下层膜图案化的步骤可使用常规装置的生产工艺，并且对此 具体的生产方法无特别限制。
[0070] 同时，通过使用用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物剥离光致抗蚀剂的步骤的实 例无特别限制，但可使用下述步骤，例如:将用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物施用到其 中残留有光致抗蚀剂图案的衬底，然后用碱性缓冲液洗涤，接着用超纯水洗涤，并进行干 燥。由于上述剥离剂组合物显示出优异的剥离能力和有效除去下层膜上污点的冲洗能力， 以及除去天然氧化膜的能力，因此其可在有效地除去残留在下层膜上的光致抗蚀剂膜同 时，令人满意地保持下层膜的表面状态。因此，随后的步骤可在图案化的下层膜上适当地进 行以形成装置。
[0071] 发明的效果
[0072] 根据本发明，可提供用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物以及使用其剥离光致抗 蚀剂的方法，所述剥离剂组合物即使在不含显示出生殖毒性的溶剂的情况下，也能对光致 抗蚀剂显示出优异的剥离和冲洗能力，并且能够将其物理性能随着时间的推移的降低减到 最小。
【具体实施方式】
[0073] 在下文中，本公开将根据以下实施例进行详细地阐述。然而，这些实施例仅用于阐 述发明构思，而非限制发明构思的范围。
[0074] 〈实施例1至4、对比实施例1和2:用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物的制备〉
[0075] 根据下表1所示的组合物，将各组分混合以制备实施例1至4和对比实施例1和2的 用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物。由此制备的用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物的 具体组成比例总结在下表1中。
[0076][表1]
[0077 ]用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物的组成比例
[0078]
[0079] *LGA:咪唑基-4-乙醇（BE)
[0080] *AEE: (2-氨基乙氧基）-1-乙醇
[0081] *41?:(1-氨基)_异丙醇
[0082] *DMAC:二甲基乙酰胺
[0083] *nMF:n-甲基甲酰胺
[0084] *DCA:二乙基羧酰胺
[0085] *BDG:二乙二醇单丁基醚
[0086] *EDG:二乙二醇单乙基醚
[0087] *MDG:二乙二醇单甲基醚
[0088] *表面活性剂:聚醚-改性的聚二甲基硅氧烷
[0089] 〈试验实施例:实施例和对比实施例中获得的用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合 物的物理性能的测试〉
[0090] 实施例和对比实施例中获得的用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物的物理性能 通过以下方法进行测试，并且结果如下表所示。
[0091] 1.剥离能力
[0092] 1-1 ·剥离剂新液的剥离能力的评估
[0093] 首先，将3.5ml光致抗蚀剂组合物(商品名:JC-800)逐滴滴加在lOOmmXIOOmm的玻 璃衬底上，并将所述光致抗蚀剂组合物以400rpm的速度在旋转涂布装置中涂布10秒。该玻 璃衬底装配有加热板，并将其在温度为140°C下烘烤12分钟，以形成光致抗蚀剂。
[0094]将其上形成了光致抗蚀剂的玻璃衬底在室温下风冷，然后切成30mmX 30mm的大 小，以制备用于评估剥离剂新液剥离能力的样品。
[0095]准备500g实施例和对比实施例中获得的剥离剂组合物。在温度升至50°C的状态 下，用所述剥离剂组合物处理玻璃衬底上的光致抗蚀剂。测定完全剥离和除去光致抗蚀剂 所需的时间以评估剥离剂新液的剥离能力。此时，通过观察在紫外光照射下玻璃衬底上是 否残留有光致抗蚀剂来确定光致抗蚀剂的剥离是否完全。
[0096] 在上述方法中，对实施例1和2以及对比实施例1和2的剥离剂组合物的新液剥离能 力进行了评估，并且其结果如下表2所示。
[0097] [表 2]
[0098] 用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物的新液剥离能力
[0099]
[0100]如上表2所示，证实了：实施例1和2的剥离剂组合物，即使不含生殖毒性材料NMF或 DMAC，也显示出与含有NMF和DMAC的对比实施例1的剥离剂组合物或含有NMF的对比实施例2 的剥离剂组合物相当的光致抗蚀剂剥离能力(剥离时间快）。
[0101] 1-2.随着时间的推移的剥离能力
[0102] 用于评估剥离能力的样品以与试验实施例1-1相同的方法制备。准备500g实施例 和对比实施例中获得的剥离剂组合物。将光致抗蚀剂组合物以相对于全部组合物计为1重 量％的量在温度升至50°C的状态下溶解。将所述剥离剂组合物加热48小时以使其在苛刻条 件下随着时间的推移产生变化。
[0103] 所述剥离剂组合物随着时间推移的剥离能力以与试验实施例1-1相同的方法进行 评估。
[0104] 在实施例和对比实施例中获得的剥离剂组合物随着时间的推移的剥离能力通过 上述方法进行评估，