用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物和使用其剥离光致抗蚀剂的方法_4

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并且其结果如下表3所示。
[0105] [表 3]
[0106 ]用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物随着时间的推移的剥离能力
[0108] 如上表3所示,证实了:实施例1和2的剥离剂组合物,即使不包含生殖毒性材料NMF 或DMAC,也显示出与含有NMF和DMAC的对比实施例1的剥离剂组合物或含有NMF的对比实施 例2的剥离剂组合物相当或更优的光致抗蚀剂剥离能力(剥离时间快)。
[0109] 2.胺含量的变化
[0110] 制备实施例1和对比实施例1和2的剥离剂组合物。之后,将其在温度为50°C下储存 10天,依据各自储存的日期通过气相色谱法分析和评估随着时间的推移胺(AIP、AEE、LGA) 含量的变化,并且其结果如下表4所示。
[0111] [表 4]
[0112] 用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物的胺含量随着时间的推移的变化
[0113]
[0114] 如表4所示,证实了 :即使实施例1的剥离剂组合物在苛刻条件下储存较长时间,其 胺含量随着时间的推移减少的水平也不大。相比之下,证实了 :对比实施例1和2的组合物的 胺含量随着时间的推移大大减少。
[0115] 由这些结果证实了:实施例1的剥离剂组合物中含有的溶剂如DEF基本上不会引起 胺的降解,而对比实施例的组合物中含有的溶剂如NMF或DMAC会引起胺的降解,因此降低了 剥离剂组合物随着时间的推移的剥离能力。
[0116] 3.冲洗能力的评估
[0117] 将500g实施例3和4以及对比实施例1和2的剥离剂组合物加热至50°C的温度,并使 用其上形成了下表5的膜的玻璃衬底。玻璃衬底用所述剥离剂组合物进行处理。然后,除去 玻璃衬底上的液体,再向其上逐滴滴加几滴超纯水,并保持50秒。所述衬底再次用超纯水洗 涤,并通过光学显微镜观察所述玻璃衬底上的污点和异物,从而按照以下标准评估冲洗能 力。
[0118] 0K:玻璃衬底上未观察到污点或异物;和
[0119] NG:玻璃衬底上观察到污点或异物。
[0120] 在上述方法中,对实施例3和4以及对比实施例1和2的剥离剂组合物随着时间的推 移的冲洗能力进行了评估,并且其结果如下表5所示。这些结果示出了分别在不同条件下随 着时间的推移评估的冲洗能力。
[0121] [表 5]
[0122] 用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物的冲洗能力
[0123]
[0124] 如上表5所示,证实了:甚至在各种膜条件下,实施例4的剥离剂组合物都长时间地 表现并保持了优异的冲洗能力。相比之下,证实了 :对比实施例1和2的剥离剂组合物显示出 降低的对形成于玻璃衬底上的膜的冲洗能力。由这些结果可以确定:实施例4的剥离剂组合 物中含有的溶剂如DEF表现并保持了优异的冲洗能力。
[0125] 此外,证实了:甚至在光致抗蚀剂组合物延长加热的苛刻条件下,考虑外观随着时 间的推移的变化,实施例3的剥离剂组合物仍长时间地表现并保持了优异的冲洗能力。由这 些结果可以确定:由于实施例3的剥离剂组合物中含有表面活性剂,其冲洗能力得到大大改 善。
【主权项】
1. 一种用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物,其包含:重均分子量大于95g/mol的链胺 化合物;重均分子量不大于90g/mol的链胺化合物;环胺化合物;其中具有1至5个碳原子的 直链或支链的烷基基团被氮单取代或双取代的基于酷胺的化合物;和极性有机溶剂, 其中所述重均分子量大于95g/mol的链胺化合物与所述重均分子量不大于90g/mol的 链胺化合物的重量比为1:1至1:10。2. 权利要求1的用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物, 其包含:〇. 1至10重量%的重均分子量大于95g/mol的链胺化合物;0.5至20重量%的重 均分子量不大于90g/mol的链胺化合物;0.1至10重量%的环胺化合物;10至85重量%的其 中具有1至5个碳原子的直链或支链的烷基基团被氮单取代或双取代的基于酷胺的化合物; 和10至85重量%的极性有机溶剂。3. 权利要求1的用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物, 其中所述重均分子量大于95g/mol的链胺化合物包括一种或多种选自W下的化合物: (2-氨基乙氧基)-1-乙醇、氨基乙基乙醇胺、甲基二乙醇胺、二乙Ξ胺、二乙醇胺、二乙基氨 基乙醇、Ξ乙醇胺和Ξ乙四胺。4. 权利要求1的用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物, 其中所述重均分子量不大于90g/mol的链胺化合物包括一种或多种选自W下的化合 物:1-氨基异丙醇、单甲醇胺、单乙醇胺、2-甲基氨基乙醇、3-氨基丙醇和N-甲基乙基胺。5. 权利要求1的用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物, 其中所述环胺化合物包括一种或多种选自W下的化合物:咪挫基-4-乙醇、氨基乙基赃 嗦和径基乙基赃嗦。6. 权利要求1的用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物, 其中,所述其中具有1至5个碳原子的直链或支链的烷基基团被氮单取代或双取代的基 于酷胺的化合物包含其中乙基基团被氮单取代或双取代的基于酷胺的化合物。7. 权利要求1的用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物, 其中所述极性有机溶剂包括一种或多种选自W下的溶剂:烧二醇单烷基酸、化咯烧酬、 讽和亚讽。8. 权利要求7的用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物, 其中所述烧二醇单烷基酸包括一种或多种选自W下的物质:二乙二醇单甲酸、乙二醇 单乙酸、乙二醇单下酸、丙二醇单甲酸、丙二醇单乙酸、丙二醇单下酸、二乙二醇单乙酸、二 乙二醇单丙酸、二乙二醇单下酸、二丙二醇单甲酸、二丙二醇单乙酸、二丙二醇单丙酸、二丙 二醇单下酸、=乙二醇单甲酸、=乙二醇单乙酸、=乙二醇单丙酸、=乙二醇单下酸、=丙二 醇单甲酸、Ξ丙二醇单乙酸、Ξ丙二醇单丙酸和Ξ丙二醇单下酸。9. 权利要求1的用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物,其还包含腐蚀抑制剂。10. 权利要求9的用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物, 其中所述腐蚀抑制剂包括基于Ξ挫的化合物或基于四挫的化合物。11. 权利要求10的用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物, 其中所述基于Ξ挫的化合物包括由W下式1或式2表示的化合物:其中化为氨或具有1至4个碳原子的烷基基团; 化0和化1彼此相同或不同,且各自独立地为具有1至4个碳原子的径基烷基基团,且 a为1至4的整数;其中,Ri劝氨或具有1至4个碳原子的烷基基团,且b为1至4的整数。12. 权利要求9的用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物, 其中所述腐蚀抑制剂的含有量基于所述组合物的总重量计为0.01至0.5重量%。13. 权利要求1的用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物, 其还包含基于娃的非离子表面活性剂。14. 权利要求13的用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物, 其中所述基于娃的非离子表面活性剂包括基于聚硅氧烷的聚合物。15. 权利要求14的用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物, 其中所述基于聚硅氧烷的聚合物包括一种或多种选自W下的物质:聚酸改性的丙締酸 官能的聚二甲基硅氧烷、聚酸改性的硅氧烷、聚酸改性的聚二甲基硅氧烷、聚乙基烷基娃氧 烧、芳烷基改性的聚甲基烷基硅氧烷、聚酸改性的径基官能的聚二甲基硅氧烷、聚酸改性的 二甲基聚硅氧烷和改性丙締酸官能的聚二甲基硅氧烷。16. 权利要求13的用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物, 其中所述基于娃的非离子表面活性剂的含有量基于所述组合物的总重量计为0.0005 至0.1重量%。17. -种用于剥离光致抗蚀剂的方法,其包括下述步骤:在其中形成了下层膜的衬底上 形成光致抗蚀剂图案;用所述光致抗蚀剂图案使所述下层膜图案化;W及,使用权利要求1 的用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物剥离所述光致抗蚀剂。
【专利摘要】本发明涉及一种用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物,其包含:重均分子量大于95g/mol的链胺化合物;重均分子量不大于90g/mol的链胺化合物;环胺化合物;其中具有1至5个碳原子的直链或支链的烷基基团被氮单取代或双取代的基于酰胺的化合物;和极性有机溶剂,其中所述重均分子量大于95g/mol的链胺化合物与所述重均分子量不大于90g/mol的链胺化合物的重量比为1∶1至1∶10;还涉及一种使用所述剥离剂组合物剥离光致抗蚀剂的方法。
【IPC分类】G03F7/42
【公开号】CN105556392
【申请号】CN201580000649
【发明人】朴泰文, 郑大哲, 李东勋, 李佑然, 李贤濬, 金周永
【申请人】株式会社Lg化学
【公开日】2016年5月4日
【申请日】2015年8月18日
【公告号】WO2016028057A1
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