一种设有降温装置的曝光机的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及曝光机领域，尤其涉及一种设有降温装置的曝光机。
【背景技术】
[0002]当前电路板行业所使用的曝光机，对光的强度要求很高，在曝光过程中，会因灯管过热，会造成曝光质量不好，既无法保证曝光的质量，还大大降低灯管的使用寿命，因此要对其光源部分的曝光灯进行散热，目前曝光灯的散热方式普遍采用对光源组件增加散热板之类的来达到散热的目的，虽然能起到一定的作用，但是在长期作业下，无法保证散热的效果，曝光灯温度过高，严重影响到曝光的质量，因此一种结构简单、能降低曝光灯发光温度的降温装置显得尤为必要。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型针对现有技术中的不足，提供一种设有降温装置的曝光机，结构简单，用于冷却曝光机的光源部分，保证光源部分的温度适中，以生产高质量的曝光片。
[0004]为了解决上述技术问题，本实用新型通过下述技术方案得以解决:
[0005]一种设有降温装置的曝光机，包括机架、设置在机架上的至少一个光源装置和用于给光源装置降温的降温装置，所述降温装置包括风扇组件，所述风扇组件包括至少一个风扇，通过风扇的冷却风被吹入来冷却光源装置，并且吹向光源装置的空气通过排风口排出到曝光机的外部。
[0006]优选的，所述降温装置还包括与风扇组件相对应的冷凝器，所述外部空气通过入风口吸入到冷凝器中，通过冷凝器降温形成冷却风。
[0007]优选的，所述降温装置还包括完全覆盖住冷凝器和风扇组件的盖板，所述盖板上设有若干的通孔，所述若干的通孔形成所述的入风口。
[0008]优选的，所述降温装置还包括导风结构，所述导风结构一端与风扇的出风口相连，另一端与光源装置的进风口相连，所述导风结构中部设有导风通道，所述冷却风通过导风通道自风扇流入到光源装置中。
[0009]优选的，所述降温装置还包括与冷凝器循环连接的冷水机、将冷水机中的冷却水排入到冷凝器中的进水管和将冷凝器中的排出水排入到冷水机中的出水管。
[0010]优选的，所述进水管上还设有调节冷却水流量的调节阀。
[0011]优选的，还包括冷却调节装置，所述冷却调节装置包括安装于光源装置的底部并用于测量光源装置温度的温度传感器和用于控制调节阀的温度控制器，所述温度传感器信号输出端与温度控制器信号输入端相连，所述温度控制器信号输出端与调节阀的控制信号输入端相连。
[0012]优选的，所述冷凝器优选表冷器。
[0013]优选的，所述风扇优选恒流风扇。
[0014]本实用新型取得如下的有益效果:
[0015]本实用新型的曝光机，包括用于给光源装置降温的降温装置，并通过冷却调节装置来根据光源装置的温度自动调节冷却风的流量，保证光源部分的温度适中，以生产高质量的曝光片。
[0016]本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本实用新型的实践了解到。
【附图说明】
[0017]此处所说明的附图用来提供对本实用新型的进一步理解，构成本申请的一部分，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中:
[0018]图1为本实用新型一种设有降温装置的曝光机的结构示意图一；
[0019]图2为图1中A处的局部放大图；
[0020]图3为本实用新型一种设有降温装置的曝光机的结构示意图二 ；
[0021]图4为本实用新型导风结构的结构示意图；
[0022]图5为本实用新型冷却调节装置的结构示意图。
【具体实施方式】
[0023]为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例的附图，对本实用新型实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本实用新型的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
[0024]在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底” “内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
[0025]在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
[0026]在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
[0027]除非另作定义，此处使用的技术术语或者科学术语应当为本实用新型所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本实用新型专利申请说明书以及权利要求书中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。同样，“一个”或者“一”等类似词语也不表示数量限制，而是表示存在至少一个。
[0028]如图1-4所示，作为本实用新型的实施例，一种设有降温装置的曝光机，包括机架1、设置在机架I上的上下两个曝光室100、设置在机架I上且位于曝光室100