利用混合多层真空沉积法进行沉积及固化的披覆薄膜的制作方法
【专利摘要】本发明揭露一种利用混合多层真空沉积法进行沉积及固化的披覆薄膜，包含有：一高分子膜基材；一有机黏结层，是形成于该膜基材的一表面，该黏结层具有介于大约0.25μm及20μm之间的厚度；以及一有机智能型披覆层，是形成于该黏结层的一表面，该智能型披覆层具有介于大约0.25μm及20μm之间的厚度。
【专利说明】利用混合多层真空沉积法进行沉积及固化的披覆薄膜
【技术领域】
[0001]本发明是有关于披覆薄膜，特别是一种利用混合多层真空沉积法进行沉积及固化的披覆薄膜。
【背景技术】
[0002]在各式各样用途中所见到的披覆薄膜传统上是通过喷洒或铸造溶液或乳液法于一表面上，而后溶剂蒸发。披覆薄膜典型地涂布于基材以提供黏性、抗化学性、抗刮性、抗磨蚀性、防斑/防指纹性、防反射性、防微生物性、氧气及水蒸气阻隔性、防静电性、化学整平及平面化、亲水性、疏水性及超疏水性、或其它表面特性的保护性高分子层。现有披覆薄膜的厚度可介于大约0.1 μ m至大约200 μ m,依据所使用的高分子及应用技术。
[0003]传统上，如上所述的这类智能型披覆层是利用溶剂基或水基配方而沉积，以第一次形成一湿涂层于基材上。此湿涂层接着通过热能除去水或溶剂及/或利用辐射源(诸如UV或电子辐射)而固化。关于沉积法及后续干燥或溶剂基智能披覆层固化有许多已知的问题。一些普遍的缺点包含坑洞、刮痕、气泡、卷曲、贝纳马兰戈尼细胞、橘色脱皮、图案框架、气杆摩擦、泥浆破裂、网状形成、脱层、薄雾、斑点、干燥条纹。此外，自环境的观点来看，溶剂基智能型披覆层会产生废弃产物，其可包含危险废弃物的处理及回收过程。进一步而言，利用溶剂基智能型涂层，典型的大气中包含许多的杂质，因此对于灰尘控制其需要对于涂层工艺设备所使用的清洁空间。因此，存在有智能型涂层及智能型涂层的制备方法的需求，以期能改进现有技术的缺陷和缺点。
【发明内容】
[0004]本发明的主要目的在于提供一种利用混合多层真空沉积法进行披覆薄膜的沉积及固化的方法所制成的披覆薄 膜。
[0005]具体而言，本发明的方法是形成于膜基材表面的有机薄膜将下列特性引导至膜基材或其它表面上:改良的黏性、抗化学性、抗刮性、抗磨蚀性、防斑/防指纹性、防反射性、防微生物性、氧气及水蒸气阻隔性、防静电性、化学整平及平面化、亲水性、疏水性及超疏水性。本发明的方法的实施是通过:在真空环境下沉积一第一有机材料于一表面上，以及通过沉积一第二有机材料于黏结层上而形成一有机功能层于该黏结层的一表面上。较佳地，该等层是在沉积过程之后分别固化。该黏结层具有介于大约0.25 μ m及20 μ m之间的厚度，且该智能型披覆层具有介于大约0.25 μ m及50 μ m之间的厚度。该披覆薄膜可选择性的包含有形成于黏结层及智能型披覆层之间的一无机层。
【专利附图】
【附图说明】
[0006]为了详细说明本发明的构造及特点所在，以下结合较佳实施例并配合【专利附图】
【附图说明】如后，其中:
[0007]图1为本发明所揭露的披覆薄膜的一实施例的截面图；[0008]图2为本发明所揭露的披覆薄膜的另一实施例的截面图；
[0009]图3为本发明所揭露的披覆薄膜的再一实施例的截面图；以及
[0010]图4为本发明所揭露的披覆薄膜的制造方法的流程示意图。
【具体实施方式】
[0011]本发明的一方面是关于一披覆薄膜，其包括一高分子膜基材、一形成于该膜基材的一表面上的有机黏结层、以及一形成于该黏结层的一表面上的有机智能型披覆层。在一实施例中，该黏结层及智能型披覆层是分别固化。该黏结层具有介于大约0.25 μ m及20 μ m之间的厚度，且该智能型披覆层具有介于大约0.25 μ m及50 μ m之间的厚度。该披覆薄膜可以选择性地包含有一形成于该黏结层及该智能型披覆层之间的无机层。
[0012]本发明的另一方面是关于一披覆薄膜，其包括一高分子膜基材、一于真空下通过在真空下沉积一第一有机材料于该膜基材的一表面上而形成于该膜基材的一表面上的有机黏结层、以及一通过在真空下沉积一第二有机材料于该膜基材的一表面上而形成于该黏结层的一表面上的有机智能型披覆层。该黏结层及智能型披覆层是分别固化，接着进行沉积过程。该黏结层具有介于大约0.25 μ m及20 μ m之间的厚度，且该智能型披覆层具有介于大约0.1 μ m及50 μ m之间的厚度。该披覆薄膜可以选择性地包含有一形成于该黏结层及该智能型披覆层之间的无机层。
[0013]本发明的这些及其他方面及优点由下列详细叙述并参照所附附图将更易于了解。应了解的是，然而，附图仅仅是为了阐述本发明并做为所附权利要求的参考，而非限制本发明的范围。此外，附图并非必定要符合真实比例，且除非有特别指出，它们仅是概念性地阐述此处所述的结构和过程。
[0014]请参照图1所示，本发明所揭露的披覆薄膜10是以截面附图意其堆叠的层状结构。该披覆薄膜10包括一高分 子膜基材2，其形成该披覆薄膜的基底。一有机黏结层4是形成于该膜基材2的一表面。一有机智能型披覆层6是形成于该黏结层4的一表面,并对于该披覆薄膜10的堆叠多层状结构提供保护性表面。在其中一种用途中，该披覆薄膜10适合用于显示设备或其他类似装置作为保护性覆盖物。
[0015]在一较佳实施例中，所揭露的披覆薄膜10是通过利用真空沉积涂层工艺将多个且分离的选用材料的有机及/或无机层状结构沉积于该膜基材2的一个或一个以上的表面。该披覆薄膜10的多层状结构的涂层工艺及固化下面再进一步讨论。
[0016]该高分子膜基材2是典型地为一透明高分子膜，其随着时间透明度不会变质，或者仅造成可忽略的透明度变质。适用于该披覆薄膜10各种用途时，该高分子膜基材2较佳的材料的例子包括:纤维酯(例如:三乙酰基纤维素、二乙酰基纤维素、丙酰基纤维素、丁酰基纤维素、乙酰丙酰基纤维素、硝化纤维素)、聚酰胺、聚碳酸酯、聚酯(例如:聚对苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚1，4_环己烷二甲醇对苯二甲酸乙二醇酯、聚-1，2-二苯氧基乙烷-4，4’_ 二羧酸二甲酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯)、聚苯乙烯(例如:间同立构的聚苯乙烯)、聚烯烃(例如:聚丙烯、聚乙烯、聚甲基戊烯)、聚砜、聚醚砜、聚芳香酯、聚醚酰亚胺、聚甲基丙烯酸甲酯及聚醚酮。三乙酰基纤维素、聚碳酸酯、聚对苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二醇酯。
[0017]在本发明的披覆薄膜10的一较佳实施例中，该膜基材2是为双向延伸的聚对苯二甲酸乙二酯膜，其具有高机械强度(在20°C时，杨氏模数为3-4GPa，且在150°C时为IGPa)以及立体稳定性(在机械方向上的皱缩少于大约0.1%,且热膨胀系数(coefficient ofthermal expansion, CTE)大约为20_50ppm/°C )。该高分子膜基材2的例子包括:纤维素酯(例如:三乙酰基纤维素、二乙酰基纤维素、丙酰基纤维素、丁酰基纤维素、乙酰丙酰基纤维素、硝化纤维素)、聚酰胺、聚碳酸酯、聚酯(例如:聚对苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚1，4_环己烷二甲醇对苯二甲酸乙二醇酯、聚-1，2-二苯氧基乙烷-4，4’_ 二羧酸二甲酯、聚对苯二甲酸丁二醇)、聚苯乙烯(例如:间同立构的聚苯乙烯)、聚烯烃(例如:聚丙烯、聚乙烯、聚甲基戊烯)、聚砜、聚醚砜、聚芳香酯、聚醚酰亚胺、聚甲基丙烯酸甲酯及聚醚酮。三乙酰基纤维素、聚碳酸酯、聚对苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二醇酯)是为较佳的。
[0018]该披覆薄膜10的平顺度和延续度可通过在黏结层4沉积于其上时对该膜基材2进行预处理而增强。膜基材2的预处理可帮助确保膜基材的表面能接收后续涂布其上方的层状结构。可通过已知的乳浆处理法增进该高分子膜基材2的润湿和摩擦性，乳浆处理法可依据该膜基材的高分子调整气体种类及乳浆型态。其他已知预处理方法亦可用来处理膜基材2表面，为了用于包括本发明的披覆薄膜的多层状结构的用途。
[0019]有机黏结层4是提供以附着该智能型披覆层6及/或其他中间层至该膜基材2。该有机黏结层4典型地是为一较膜基材2更软的材料，且是较佳地被选用来湿润沉积有有机黏结层的基材表面。在沉积该黏结层4于膜基材2上之前，该膜基材的表面是经过预处理。
[0020]有机黏结层4亦可作为整平层以填补任何空虚处，诸如抓痕或其他可能出现在膜基材2的表面上的缺陷，以提供平顺的水平及具黏性的表面，用于沉积该披覆薄膜10上额外的层状结构。该黏结层4的厚度是通过应用工艺而控制。该披覆薄膜10的各种实施例中，该黏结层4的厚度介于大约0.25 μ m至大约I μ m的范围，用以填满膜基材2中的空虚处及缺陷。
[0021]由于基材缺陷，该黏结层4用来减少该膜基材2的表面上的光散射。雾度及反射的减少光散射效应的移除可测 量出光散射效应的移除。
[0022]在该披覆薄膜10的较佳实施例中，该有机黏结层4包括自甲基丙烯酸及/或其酯类的成分。例如，该黏结层4可包含下列成分及/或其混合物:三聚丙烯乙二醇甲基丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸苯氧基乙基酯、新戊二醇二甲基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷甲基丙烯酸酯、季戊四醇三甲基丙烯酸酯、三乙二醇二乙烯基醚、1，6_己二醇二甲基丙烯酸酯、二季戊四醇己烷甲基丙烯酸酯、四乙二醇二乙烯基醚、丙烯酸异癸酯、氧烷化二丙烯酸、乙氧基乙酯、聚乙二醇、二丙烯酸、二乙二醇二丙烯酸、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、四甘醇二丙烯酸酯、氰基-乙基单丙烯酸酯、十八烷基丙烯酸、二腈基丙烯酸酯、硝基苯基丙烯酸酯、四氢呋喃基呋喃丙烯酸、1，4_ 丁二醇二甲基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三乙烷氧丙烯酸、三(2-羟乙基)异氰脲酸酯三甲基丙烯酸酯、异冰片基丙烯酸、丙氧基化新戊基乙二醇二丙烯酸酯、乙氧基化二酚二丙烯酸。
[0023]再参阅图1所示,该披覆薄膜10包含一有机智能型披覆层6沉积于该黏结层4的一上表面的上方，且通过热辐射或离子化辐射固化过程进行固化。该智能型披覆层6是典型地为有机材料的混合物及反应性稀释剂，其设计为可提供适用于该披覆薄膜10的保护层。该智能型披覆层6的有机材料可与黏结层4的有机材料相同或相异。依据披覆薄膜的理想特性，该反应性稀释剂可包括一树脂成分，该树脂成分包含各种单体、寡体及其组合物。该智能型披覆层6的理想表现特性是为黏性、抗化学性、、抗刮性、抗磨蚀性、防斑/防指纹性、防反射性、防微生物性、氧气及水蒸气阻隔性、防静电性、化学整平及平面化、亲水性、疏水性及超疏水性。
[0024]在该披覆薄膜10的较佳实施例中，该智能型披覆层6包括衍生自甲基丙烯酸及/或其酯类。例如，该智能型披覆层6可包含下列成分及/或其混合物:三聚丙烯乙二醇甲基丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸苯氧基乙基酯、新戊二醇二甲基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷甲基丙烯酸酯、季戊四醇三甲基丙烯酸酯、三乙二醇二乙烯基醚、1，6_己二醇二甲基丙烯酸酯、二季戊四醇己烷甲基丙烯酸酯、四乙二醇二乙烯基醚、丙烯酸异癸酯、氧烷化二丙烯酸、乙氧基乙酯、聚乙二醇、二丙烯酸、二乙二醇二丙烯酸、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、四甘醇二丙烯酸酯、氰基-乙基单丙烯酸酯、十八烷基丙烯酸、二腈基丙烯酸酯、硝基苯基丙烯酸酯、四氢呋喃基呋喃丙烯酸、1，4_ 丁二醇二甲基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三乙烷氧丙烯酸、三(2-羟乙基)异氰脲酸酯三甲基丙烯酸酯、异冰片基丙烯酸、丙氧基化新戊基乙二醇二丙烯酸酯、乙氧基化二酚二丙烯酸。
[0025]在智能型披覆层6中反应性稀释剂的例子包含有双功能或更多功能的单体或寡体，诸如:1，6_己二醇二甲基丙烯酸酯、三丙二醇二甲基丙烯酸、二乙二醇二甲基丙烯酸、己烷二醇二甲基丙烯酸、五丁四醇四甲基丙烯酸、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸、二五丁四醇六甲基丙烯酸、新戊基二醇二甲基丙烯酸及其他类似物。其所使用过的例子进一步包括:丙烯酸酯，诸如:N-乙烯基吡咯烷酮、乙基丙烯酸及丙基丙烯酸、乙基甲基丙烯酸、丙基甲基丙烯酸、异丙基甲基丙烯酸、丁基甲基丙烯酸、己基甲基丙烯酸、异辛基甲基丙烯酸、2-羟乙基甲基丙烯酸、环己烷基甲基丙烯酸、壬苯基甲基丙烯酸、四氢呋喃基呋喃丙烯酸、己内酯、苯乙烯、a-甲基苯乙烯、以及丙烯酸。
[0026]智能型披覆所形成的材料的固化可通过热固化或离子辐射进行固化，诸如:紫外线固化，且各种聚合起始剂可在紫外线用作为固化手段时使用。其例子包括:安息香(bezoin)及其烧醚类,诸如安息香胶(benzoin)、安息香甲醚(benzoin methyl ether)、安息香乙醚(benzoin ethyl ether)、安息香异丙醚(benzoin isopropyl ether)、N, N, N,N-四甲基-4，4-二胺基二苯甲酮、苄基甲基缩酮；苯乙酮类，诸如:苯乙酮、3-甲基苯乙酮、
4-氯二苯甲酮、4，4_二甲氧基二苯甲酮、2，2-二甲氧基-2-苯基二苯甲酮以及1-羟基环己烷基苯基酮；蒽醌类，诸如:甲基蒽醌、2-乙基蒽醌及2-戊烷基蒽醌；黄药(xanthae);硫化苍耳烷类，诸如:硫化苍耳烷、2，4-二乙基硫化苍耳烷、2，4-二异丙基硫化苍耳烷；缩酮类，诸如苯乙酮二甲基缩酮及苄基二甲基缩酮；二苯甲酮类，诸如:二苯甲酮及4，4_双甲基胺基二苯甲酮；及其他诸如:1-(4-异丙基苯基)-2-羟基-2-甲基丙烷-1-酮。这些物质可被单独使用或混合两种或两种以上物质而使用。光聚合起始剂的使用量是较佳地为大约5重量份或以下，且较佳地介于I重量份至4重量份，相对于在智能型披覆形成材料中所有树脂成分。 [0027]该披覆薄膜10的多层状结构皱缩及卷曲是通过导引柔韧性及弹性至整体的多层状堆叠结构形成该披覆薄膜。此过程是通过 该黏结层4的软材料而完成部分，该软材料能吸收智能型披覆层6在固化中施加于膜基材2上的应力，以提供位于硬质的膜基材2及硬质的智能型披覆层6之间的缓冲。[0028]再请参阅图1所示，在该披覆薄膜10的一实施例中，包括仅有膜基材2、黏结层4及智能型披覆层6。该有机黏结层4用于整平该膜基材2且附着于该智能型披覆层6至该膜基材是提供介于大约0.25 μ m至大约2 μ m的厚度。该有机智能型披覆层包括一有机材料的分离层或多个有机材料的混合层，且前述的反应性稀释剂是介于大约0.1 μ m至大约20 μ m的厚度。
[0029]图2所示为一披覆薄膜20，包含有如上所述的关于该披覆薄膜10的膜基材2、黏结层4及智能型披覆层6。一无机层8是形成于该黏结层4及该智能型披覆层6之间。依据此用途，该无机层8是可为任何钙、钛、硅、铝、锌、锡、锆、铟的氧化物。该无机层8导引硬度及抗磨蚀性至该披覆薄膜20的多层堆叠结构。该无机层8的厚度是通过应用过程所控制且介于大约5nm至大约500nm。
[0030]图3所示为一披覆薄膜30，包含有如上所述的关于该披覆薄膜10、20的膜基材2、黏结层4及智能型披覆层6。二无机层8、8是分离地形成于该黏结层4及该智能型披覆层6之间。依据此用途，该无机层8是可为任何钙、钛、硅、铝、锌、锡、锆、铟的氧化物。该无机层8导引硬度及抗磨蚀性至该披覆薄膜30的多层堆叠结构。
[0031 ] 该披覆薄膜10、20、30包括分离的有机层，其包含有黏结层4、智能型披覆层6以及无机层8，其可分别沉积及固化，避免许多黏附、皱缩及卷曲等经常出现于溶剂铸造智能型涂层的过程的缺陷。
[0032]该披覆薄膜10、20、30的个别的层状结构及对于各层所选用的多数有机及无机材料及其混合物的柔韧性与其厚度可让所选的材料的功能可提供至此堆叠状披覆薄膜的个别的层状结构。每一独立层状结构的组成及厚度，包括膜基材2、黏结层4、无机层8及智能型披覆层6分别控制的过程可让披覆薄膜10、20、30的设计【技术领域】的人士事实上对于披覆薄膜的功能和表现非限定的能力。
[0033]各黏结层4、无机层8及智能型披覆层6的厚度是可介于大约0.25 μ m至大约50 μ m,其可经由在真空中较佳 的蒸散过程、沉积过程及/或溅镀工艺而精确地受到调控。使用较佳的工艺于真空中涂布披覆材料(如下所述)可确保该披覆薄膜20的各种层状结构是精准地于膜基材的网状物的方向上及跨越膜基材2的网状物上涂布成具有理想且变量为+/-2/%的厚度。(膜方向相对于膜基材2的方向移动通过一辊对辊蒸散器工艺，如此处下方所述)该披覆薄膜10、20、30的跟分离层状结构的精确厚度是通过反应性气体流动的等离子体发射监测(plasma emission monitoring,PEM)所调控。因此,披覆薄膜10、20、30的各实施例是适用于许多用途及大部分的工业及用途(例如:用于电池及燃料电池用途的聚电解质膜、光伏特涂层、透明导电氧化物、及许多其他物质)。
[0034]图4是为表示形成本发明所揭露的披覆薄膜10、20、30的方法的一实施例的步骤流程图。本发明的方法为提供一高分子膜基材。提供一有机黏结层，是形成于该膜基材的一表面，该黏结层具有介于大约0.25 μ m及20 μ m之间的厚度；以及提供一有机智能型披覆层，是形成于该黏结层的一表面，该智能型披覆层具有介于大约0.25 μ m及20 μ m之间的厚度。此方法40提供膜基材2于高沉积速率下通过在真空腔室(图中未示)中蒸散一披覆材料。真空帮浦(图中未示)抽离腔室空气至适当的压力。典型地，使用于所揭露的方法在腔室内的真空是维持压力介于大约2x10-4至大约2x10-5托。
[0035]如图4所示，一蒸散器(图中未示)包含有被发动的展开及倒带辊42、44，分别乘载膜基材2于一桶状物46周围且通过该蒸散器的许多接续的涂层过程及固化站点。该高分子膜基材是自该展开辊22进料至旋转的桶状物46，该桶状物是于所示的箭头方向旋转。该高分子膜基材2通过数个站点且通过倒带辊44带出而成为经涂层的披覆薄膜10、20、30。该旋转的桶状物46是依据涂层工艺及材料而于大约_20°C至大约50°C的温度下冷却。该桶状物的温度是典型地相当于所使用的特定材料而调控以帮助材料自蒸气挥发状态凝结成液态，以在膜基材2上形成涂层。典型地，此方法包括桶状物于一相等于薄膜移动的速率而旋转在该展开及倒带辊42、44之间，且每分钟大约0.1至大约1000米，较佳是在200米/分钟至大约1000米/分钟，或是在500米/分钟至大约1000米/分钟最佳是在750米/分钟至大约1000米/分钟。由于涂层材料的挥发速率及膜基材2移动通过涂层站点的速度，该黏结层4、该智能型披覆层6及该无机层8的厚度是部分调控。在其他实施例中，该方法包括涂布一涂层材料至该膜基材2的第二侧上，其中一第二桶状物及额外的辊可提供至腔室中，用于该膜基材2的第二侧上后续的加工。
[0036]在附图的实施例中，涂层过程40包括预处理膜基材2的第一步骤48。可以通过已知的等离子体处理法增进高分子膜基材2的润湿性和摩擦特性，相对于气体的类型和等离子体条件，取决于高分子膜基材2进行调整。等离子体预处理的膜基材2的表面暴露被涂装物，在等离子体中，以除去吸附的水，氧，水分和任何低分子量物种的有机涂层的表面上的沉积之前。通常情况下，等离子源中使用的预处理步骤48可以是低频直流，交流，RF或高频RF。等离子预处理任选地包括水蒸汽和氮气。
[0037]在步骤50A的高分子膜基材2上沉积的有机前驱物，使用一个源蒸发器，用于提供在薄膜基板的表面上形成的黏结层的有机材料蒸气4在披覆薄膜10，20，30上面所讨论的。在一个实施例中，有机前驱物是通过加热的蒸发器箱的高分子膜基材2上淀积与液体供给的前驱物，其中的单体液体瞬间汽化，从而防止任何聚合之前被沉积在高分子膜基材上的。蒸发的前驱物表面上凝结的高分子膜基材2是对冷却后的感光桶状物46，它形成了一个薄的有机膜涂层形成披覆薄膜10，20，30的黏接层4。
[0038]在步骤52A中，通过一个辐射源固化交联的有机前驱物和有机前驱物高分子材料。冷凝后的液体前驱物，然后辐射固化的辐射固化。辐射固化可以是受激发的自由基形成的公众已知的方法中的一个或其组合；可接受的装置的例子包括一个装置，其发射电子束，或紫外线辐射。较佳的固化方法的一是通过电子束枪。电子束枪的流动的导向到有机层上的电子材料固化，形成交联膜。固化的影响通过电子束定向的有机前驱物上的高分子的厚度的基础上的电压膜。6至12千电子伏之间的电压会治好的有机前体的液层约Iym厚度。电子束固化的有机材料(例如，粘接层4)几乎是瞬时(通常少于10毫微秒)。通过辐射固化得到的固化速度快的本发明的方法大大降低了在在成品薄膜如针孔的缺陷的发生，龟裂，冰壶，和附着力差，经常出现在溶剂型涂料的方法，其中差分蒸发可能会发生。
[0039]继续进行流程40，一个可选的步骤54包括用于沉积的一个或多个站点沉积无机层(例如，无机层8的黏接层4的顶部)。无机层8可包括铝，钛，硅，锌，钙锆和各自的氧化物，氮化物和碳化物可以淀积上的固化的有机层。通常情况下，该无机材料沉积使用溅镀技术在真空腔室中，如磁控溅镀或金属溅镀的过程。可替换地，可以采用其他类型的蒸发过程，对于无机材料，包括热和电子束蒸发技术。
[0040]选择性地，在流程40包括一个第二 50B和相应的有机沉积过程的沉积单元，然后由第二辐射固化过程52B和手段。第二个上面所讨论的有机沉积和固化过程中通常会提供的智能型披覆层6与对于披覆薄膜10，20，30。第二有机沉积过程50B是用来应用披覆薄膜10，20，30的多个层的堆叠的顶部的另一个层上。该组成物在第二有机沉积过程50B所使用的材料可以是相同的或作为上面所讨论的第一有机沉积过程50A不同。
[0041]虽然许多上述的过程的优点对于本领域技术人员将是显而易见的，本发明的技术的主要优点包括以下内容:
[0042]a)大于95%的化学的沉积材料的利用率，因此，有最小的废物公开的原料，用于
制造披覆薄膜；
[0043]b) 一个范围广泛的表面性能，并如上文所述的功能；
[0044]c)该涂层过程包含在真空腔室中，因此不存在对环境的影响，特别是当与现有技术的溶剂为基础的涂层技术相比；
[0045]d)在沉积过程中提供了完美的分子水平分散在气相中；
[0046]e)在沉积过程中提供了一个独特的平滑和沉积的有机表面平整材料提供的针孔等缺陷的表面自由往往存在于表面形成使用另一种方法。
[0047]因此，虽然本发明的基本的新颖特征为应用于示例性实施例，其将会理解，在形式和细节上的各种省略，替换和改变装置示出，并在他们的操作，也可以由在本【技术领域】的技术人员作出，而不背离从本发明的精神。此外，它明确地意在将所有这些组合元件和/或方法步骤的执行基本上相同的功能基本上相同的的方式来实现相同的结果，是在本发明的范围的内的。此外，它应该是确认的结构和/或元素和/或方法的步骤示出和/或描述的连接的任何公开形式或实施例，可纳入本发明的任何其他公开或描述的或建议的形式或实施例的作为一般设计选择问题。它的意图，因此，应当只限于如由所附的权利要求的范围表示。
【权利要求】
1.一种利用混合多层真空沉积法进行披覆薄膜的沉积及固化的披覆薄膜，包括: 一高分子膜基材； 一有机黏结层，形成于该膜基材的一表面，该黏结层具有介于0.25 μ m及20 μ m之间的厚度；以及 一有机智能型披覆层，形成于该黏结层的一表面，该智能型披覆层具有介于0.25 μ m及20 μ m之间的厚度。
2.如权利要求1所述的利用混合多层真空沉积法进行沉积及固化的披覆薄膜，进一步包括提供一无机层，形成于黏结层及智能型披覆层之间，该无机层具有介于5nm及500nm之间的厚度。
3.如权利要求1所述的利用混合多层真空沉积法进行沉积及固化的披覆薄膜，其中该黏结层具有介于0.25 μ m及2 μ m之间的厚度。
4.如权利要求1所述的利用混合多层真空沉积法进行沉积及固化的披覆薄膜，其中该黏结层具有介于0.25μ m及2μ m±2百分比之间的厚度。
5.如权利要求1所述的利用混合多层真空沉积法进行沉积及固化的披覆薄膜，其中该智能型披覆层具有介于0.25 μ m及20 μ m之间的厚度。
6.如权利要求1所述的利用混合多层真空沉积法进行沉积及固化的披覆薄膜，其中该智能型披覆层具有介于0.25 μ m及2 μ m± 2百分比之间的厚度。
7.如权利要求1所述的利用混合多层真空沉积法进行沉积及固化的披覆薄膜，其中该黏结层位在跨越网格的方向上的厚度为一致，并具有小于±2百分比之间的变化。
8.如权利要求1所述的利用混合多层真空沉积法进行沉积及固化的披覆薄膜，其中该智能型披覆层在网格的方向上的厚度为一致，并具有小于±2百分比之间的变化。
9.如权利要求1所述的利用混合多层真空沉积法进行沉积及固化的披覆薄膜，其中该黏结层及该智能型披覆层是依顺序沉积工艺涂布于该膜基材上于一单一通道中，其中该膜基材的进料速率是介于0.1米/分钟至1000米/分钟。
10.如权利要求1所述的利用混合多层真空沉积法进行沉积及固化的披覆薄膜，其中该膜基材的进料速率是介于200米/分钟至1000米/分钟。
11.如权利要求1所述的利用混合多层真空沉积法进行沉积及固化的披覆薄膜，其中该膜基材的进料速率是介于500米/分钟至1000米/分钟。
12.如权利要求1所述的利用混合多层真空沉积法进行沉积及固化的披覆薄膜，其中该膜基材的进料速率是介于750米/分钟至1000米/分钟。
【文档编号】C23C14/58GK103805943SQ201210442464
【公开日】2014年5月21日 申请日期:2012年11月8日 优先权日:2012年11月8日
【发明者】吉姆·迪贝提斯塔 申请人:大永真空科技股份有限公司