技术特征：
技术总结
提供一种形成化学机械抛光垫抛光层的方法，其包括：提供具有基底的模具，所述基底具有凹槽图案的阴纹；提供聚侧(P)液体组分；提供异侧(I)液体组分；提供加压气体；提供轴向混合装置；将所述聚侧(P)液体组分、所述异侧(I)液体组分和所述加压气体引入到所述轴向混合装置，以形成组合；以5到1,000m/s的速度从所述轴向混合装置朝向所述基底排放所述组合；使所述组合凝固成饼状物；从所述饼状物得到所述化学机械抛光垫抛光层；其中所述化学机械抛光垫抛光层具有抛光表面，其中所述凹槽图案形成于所述抛光表面中；并且其中所述抛光表面适宜于抛光衬底。
技术研发人员：D·M·韦内齐亚莱;B·钱;T·布鲁加罗拉斯布鲁福;J·考兹休克;Y·童;J·B·米勒;D·卢戈;G·C·雅各布;M·W·德格罗特;A·旺克;F·叶
受保护的技术使用者：陶氏环球技术有限责任公司;罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
技术研发日：2016.06.23
技术公布日：2018.02.16