技术总结
本发明涉及一种碳化硅硬质膜的制备方法及玻璃，该方法以碳原子数为1～4的有机气体为反应气体，以含有氩气的气体为工艺气体，采用硅靶作为溅射靶材，控制反应温度为100℃～300℃，在衬底上磁控溅射沉积碳化硅硬质膜。这种方法能够制备厚度为以下的较薄的碳化硅硬质膜，膜层厚度远小于纳米级别，可明显提升玻璃表面的硬度，改善玻璃表面抗划伤性能，有效保护玻璃基板。
技术研发人员：何建军;魏宇新;方凤军;江涛;陈多;洪蒙
受保护的技术使用者：宜昌南玻显示器件有限公司
文档号码：201611104056
技术研发日：2016.12.05
技术公布日：2017.03.22