本实用新型涉及一种类金刚石薄膜装置，具体地说本实用新型涉及一种沉积类金刚石薄膜装置。
背景技术：
类金刚石薄膜（Diamond-like Carbon films， 简称 DLC 薄膜）是含有 sp2和sp3键的非晶态碳膜的总称，兼具金刚石和石墨的双重性能，包括：高硬度和弹性模量、低摩擦系数、高耐磨性、高导热率、高电阻率、良好的光学透过性、化学惰性以及良好的生物相容性等，在机械、电子、光学、医学等领域具有广阔的应用前景；现有的类金刚石薄膜装置主要采用气体离子源技术，但是该技术沉积速度慢，含氢气，且金刚石薄膜应力比较大，不能做厚。
技术实现要素：
为了克服背景技术中的不足，本实用新型公开了一种沉积类金刚石薄膜装置，通过采用平面矩形弧源沉积技术，实现了不含氢的类金刚石薄膜，达到了金刚石含量高、应力小、能做厚的目的。
为实现上述发明目的，本实用新型采用如下技术方案：
一种沉积类金刚石薄膜装置，包括真空室、工件台和真空系统，在真空室的上部设有与真空室连接的真空系统，在真空室内设有工件台，在真空室的外部两侧分别设有矩形平面弧石墨靶与矩形平面弧铬靶，在真空室的顶部两侧分别设有柱状弧源清洗装置与柱状弧靶，在真空室上、柱状弧靶的一侧设有加热系统。
由于采用了上述技术方案，本实用新型具有如下优越性：
本实用新型所述的沉积类金刚石薄膜装置，通过设置矩形平面弧石墨靶，金刚石原料为石墨，比传统的甲烷成本低；通过设置矩形平面弧靶，所得到的涂层颜色厚度等一致性好，且沉积均匀；本实用新型采用矩形平面靶沉积类金刚石薄膜，达到了金刚石含量高、膜层能做厚、涂层均匀、致密高的目的。
【附图说明】
图1是本实用新型的结构示意图；
在图中：1、柱状弧源清洗装置；2、柱状弧靶；3、矩形平面弧石墨靶；4、矩形平面弧铬靶；5、真空室；6、加热系统；7、工件台；8、真空系统。
【具体实施方式】
通过下面的实施例可以更详细的解释本实用新型，本实用新型并不局限于下面的实施例；
结合附图1所述的沉积类金刚石薄膜装置，包括真空室5、工件台7和真空系统8，在真空室5的上部设有与真空室5连接的真空系统8，在真空室5内设有工件台7，在真空室5的外部两侧分别设有矩形平面弧石墨靶3与矩形平面弧铬靶4，在真空室5的顶部两侧分别设有柱状弧源清洗装置1与柱状弧靶2，在真空室5上、柱状弧靶2的一侧设有加热系统6。
实施本实用新型所述的沉积类金刚石薄膜装置，在使用时，先采用真空系统8将真空室5抽至工作真空，开启加热系统6，开启柱状弧源清洗装置1对工件台7进行清洗，清洗好后，打开矩形平面弧铬靶4进行打底层，然后打开矩形平面弧石墨靶3沉积类金刚石薄膜，本实用新型采用矩形平面靶沉积类金刚石薄膜，达到了金刚石含量高、膜层能做厚、涂层均匀、致密高的目的。
本实用新型未详述部分为现有技术。
为了公开本实用新型的发明目的而在本文中选用的实施例，当前认为是适宜的，但是，应了解的是，本实用新型旨在包括一切属于本构思和实用新型范围内的实施例的所有变化和改进。