技术总结
本实用新型公布了一种用于平面圆形磁控溅射阴极靶的磁场源，该磁场源是由若干组串联的平行且同轴的平面径向螺旋线圈沿轴向层叠而成，每组平面径向螺旋线圈由承载电流不低于80A的漆包线沿同样的方向紧密绕制而成，每组平面径向螺旋线圈的半径和匝数相等。当通以电流时，该磁场源能够在平面圆形溅射靶表面产生沿径向辐射状且在很大范围内均匀分布的水平磁场分量。相比于传统磁控溅射靶的磁场源设计，本实用新型能够显著提高溅射靶表面“跑道环”面积，进而显著提高溅射靶材的利用率和薄膜制备的均匀性。
技术研发人员：谢东;冷永祥;黄楠
受保护的技术使用者：西南交通大学
文档号码：201621097978
技术研发日：2016.09.30
技术公布日：2017.05.17