一种磁隔板及蒸镀腔室、蒸镀装置的制作方法

本发明涉及蒸镀技术领域，尤其涉及一种磁隔板及蒸镀腔室、蒸镀装置。

背景技术：

oled(organiclightemittingdiode，有机发光二极管)显示面板具有自发光、反应快、亮度高、轻薄等诸多优点，已经逐渐成为显示领域的主流。

oled按驱动方式可分为pmoled(passivematrixdrivingoled，无源矩阵驱动有机发光二极管)和amoled(activematrixdrivingoled，有源矩阵驱动有机发光二极管)两种，由于amoled采用制备有tft(thinfilmtransistor，薄膜晶体管)图案的背板作为显示基板，因此，amoled显示器不但具有低制造成本、高应答速度、节省功耗、可用于便携式设备的直流驱动、工作温度范围大等等优点，还可以获得更大的显示容量、更优的显示质量以及更长的寿命，因此，amoled被认为是最有发展前景的下一代平板显示技术之一。

oled显示面板包括阵列排布的多个子像素单元，每一个子像素单元包括阳极、发光层和阴极，其中，发光层采用有机电致发光材料形成，尤其对于amoled而言，目前主要的制作方式即是采用掩膜板并通过有机蒸镀工艺将高分子材料制作在amoled显示面板上。

在有机蒸镀腔室内，对待蒸镀基板进行蒸镀操作前需要在待蒸镀基板的待蒸镀面将掩模版贴合对位，掩模版与待蒸镀基板之间对位完成后，通过设置在蒸镀腔室顶部的磁隔板对掩模版进行吸附，由于磁隔板设置在待蒸镀基板背离掩模版的一侧，这样就通过磁力吸附掩模版的同时，使得位于磁隔板和掩模版之间的待蒸镀基板也一同被吸附固定，同时，磁隔板磁吸力的作用，使得待蒸镀基板与掩模版之间对位固定。

现有技术的磁隔板，如图1所示，在基底00上加工多个相互平行且间距相等的沟槽01，在沟槽01内以相同的极性设置方向分别设置条状磁铁02构成，如图2所示，由于条状磁铁02的磁感线方向(如图2中的虚线环所示)为由条状磁铁02的一端向另一端的圆弧形，而磁隔板与掩模版是相互平行的平面(掩模版在图2中未示出)，而且磁隔板在靠近吸附掩模版的过程中，磁隔板与掩模版之间始终各处距离相等，这就使得掩模版上各处受到的来自磁隔板的磁吸力大小不均匀，对应磁隔板中心位置的磁吸力较强、对应磁隔板边缘位置的磁吸力较弱，整体磁吸附效果较差。

技术实现要素：

本发明实施例提供一种磁隔板及蒸镀腔室、蒸镀装置，能够解决现有技术中的磁隔板对掩模版上各个部分的磁吸力大小不均匀、磁吸附效果较差的问题。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

本发明实施例的一方面提供一种磁隔板，包括：底板。多组条形磁铁组，条形磁铁组设置在底板上，多组条形磁铁组并列设置且相互平行。其中，条形磁铁组包括多个条形磁铁，多个条形磁铁沿垂直于其长度方向间隔设置，且多个条形磁铁设置相同的极性方向。

优选的，每一组条形磁铁组中的条形磁铁的设置数量均相同，多组条形磁铁组中的条形磁铁在底板上呈矩阵形式设置。

进一步的，在底板上还设置有多个并列设置且相互平行的辅助条形磁铁组，辅助条形磁铁组的设置方向与条形磁铁组的设置方向相互垂直，且辅助条形磁铁组设置在条形磁铁组中相邻两个条形磁铁之间。

进一步的，辅助条形磁铁组包括多个辅助条形磁铁，多个辅助条形磁铁沿垂直于其长度方向间隔设置，且多个辅助条形磁铁设置相同的极性方向。

优选的，辅助条形磁铁组中相邻两个辅助条形磁铁之间的间隔位置位于条形磁铁组内。

进一步的，在磁隔板上划分有多个窗口区域，以及位于相邻两个窗口区域之间的支撑区域，在对应支撑区域的底板上还设置有加强磁铁组。

进一步的，加强磁铁组包括在支撑区域内沿对应支撑区域的各个延伸方向分别设置的磁条。

进一步的，底板包括多个子底板，每一个子底板对应于一个窗口区域，相邻两个子底板之间在对应于支撑区域的位置相互拼接。

本发明实施例的另一方面提供一种蒸镀腔室，包括上述任一项的磁隔板。

本发明实施例的再一方面提供一种蒸镀装置，包括上述的蒸镀腔室。

本发明实施例提供一种磁隔板及蒸镀腔室、蒸镀装置，包括：底板。多组条形磁铁组，条形磁铁组设置在底板上，多组条形磁铁组并列设置且相互平行。其中，条形磁铁组包括多个条形磁铁，多个条形磁铁沿垂直于其长度方向间隔设置，且多个条形磁铁设置相同的极性方向。通过间隔设置多个极性方向相同的条形磁铁作为条形磁铁组，在每一个条形磁铁的两极之间均形成环形的磁场方向，使得一组条形磁铁组包括多个环形磁场，从而避免由于单个环形磁场的中心部分磁场作用力较强、靠近环形磁场的两极位置的磁场作用力较弱，而导致的条形磁铁组上各个位置处磁场作用力差异较大的问题，提高了磁隔板对掩模版以及设置在磁隔板与掩模版之间的待蒸镀基板的吸附能力，并使得磁隔板对掩模版以及待蒸镀基板上各个位置处的吸附效果较为均衡，提高了待蒸镀基板的蒸镀效果。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有技术中的磁隔板的结构示意图；

图2为图1的a-a剖视图；

图3为本发明实施例提供的一种磁隔板的结构示意图之一；

图4为图3的b-b剖视图；

图5为本发明实施例提供的一种磁隔板的结构示意图之二；

图6为本发明实施例提供的一种磁隔板的结构示意图之三；

图7为本发明实施例提供的一种磁隔板的结构示意图之四；

图8为本发明实施例提供的一种磁隔板的结构示意图之五；

图9为图8的c-c剖视图；

图10为本发明实施例提供的一种蒸镀腔室的结构示意图。

附图标记：

00-基底；01-沟槽；02-条状磁铁；10-底板；11-子底板；20-条形磁铁组；21-条形磁铁；30-辅助条形磁铁组；31-辅助条形磁铁；40-加强磁铁组；41-磁条；50-磁隔板；60-真空腔室；70-蒸镀源；t-支撑区域；w-窗口区域。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明实施例提供一种磁隔板，如图3所示，包括：底板10。多组条形磁铁组20，条形磁铁组20设置在底板10上，多组条形磁铁组20之间并列设置，且多组条形磁铁组20之间相互平行。其中，条形磁铁组20包括多个条形磁铁21，多个条形磁铁21沿垂直于其长度方向间隔设置，且多个条形磁铁21设置相同的极性方向。

需要说明的是，第一，如图3所示，条形磁铁组20设置在底板10上，且多组条形磁铁组20之间并列设置，其中，以图3中的位置关系为例，条形磁铁组20中的多个条形磁铁21可以如图3中所示的，横向延伸排列设置，多组条形磁铁组20之间纵向并排设置，或者，条形磁铁组20中的多个条形磁铁21还可以纵向延伸排列设置，多组条形磁铁组20之间横向并列设置。本发明对此不作具体限定，二者仅是排列方向的不同，其他排列条件均相同。

第二，如图1所示，现有技术中的基底00上加工有沟槽01，条状磁铁02设置在沟槽01中，这样一来，可以使得制作成型的磁隔板的吸附表面为平面，从而提高与待蒸镀基板表面之间的贴合度。同样的，本领域技术人员应当知晓，在本发明实施例的磁隔板上同样也可以设置凹槽(图3中未示出)，并将条形磁铁组20对应设置在凹槽内。同样的，在以下示例中，当磁隔板中还包括有辅助条形磁铁组，或者还包括有加强磁铁组等时，均可同样设置相应的凹槽，以使得制作完成的磁隔板的吸附表面为平面。

第三，如图3所示，每一组条形磁铁组20中均包括多个条形磁铁21，多个条形磁铁21以相同的极性方向首尾连线排列，即沿垂直于条形磁铁21的长度方向排列，相邻的两个条形磁铁21之间具有间隙。其中，对于每组条形磁铁组20中的条形磁铁21的具体数量本发明实施例中不做具体限制。每一个条形磁铁21的两端分别为n极和s极，在条形磁铁21的两极之间会形成闭合的环形磁场，其中，在靠近两极位置处磁场作用力较弱，在中心位置处磁场作用力较强，两极之间相距越远，中心位置和两极位置处的磁场作用力差异越大。因此，设置多个条形磁铁21排列组成条形磁铁组20，能够降低条形磁铁组20的延伸方向上的各个位置处磁场作用力的大小差异，从而提高磁隔板的整体吸附效果。

本发明实施例提供一种磁隔板及蒸镀腔室、蒸镀装置，包括：底板。多组条形磁铁组，条形磁铁组设置在底板上，多组条形磁铁组并列设置且相互平行。其中，条形磁铁组包括多个条形磁铁，多个条形磁铁沿垂直于其长度方向间隔设置，且多个条形磁铁设置相同的极性方向。通过间隔设置多个极性方向相同的条形磁铁作为条形磁铁组，在每一个条形磁铁的两极之间均形成环形的磁场方向，使得一组条形磁铁组包括多个环形磁场，从而避免由于单个环形磁场的中心部分磁场作用力较强、靠近环形磁场的两极位置的磁场作用力较弱，而导致的条形磁铁组上各个位置处磁场作用力差异较大的问题，提高了磁隔板对掩模版以及设置在磁隔板与掩模版之间的待蒸镀基板的吸附能力，并使得磁隔板对掩模版以及待蒸镀基板上各个位置处的吸附效果较为均衡，提高了待蒸镀基板的蒸镀效果。

优选的，如图3所示，每一组条形磁铁组20中的条形磁铁21的设置数量均相同，多组条形磁铁组20中的条形磁铁21在底板10上呈矩阵形式设置。

如图3所示，由于磁隔板上的所有条形磁铁21呈矩阵形式排布，一方面，如图4所示，整个磁隔板上每一组条形磁铁组中的多个环形磁场的位置和大小相同，能够使得整个磁隔板上的磁场分布也成矩阵形式，而且，相邻两个条形磁铁21的磁极相反，在相邻两个条形磁铁21之间还能够形成一个环形磁场，有效的保证了各个位置的磁场作用力的大小较为均衡；另一方面，每一组条形磁铁组20中的条形磁铁21的设置数量相同，相邻两组条形磁铁组20中的条形磁铁21的设置位置纵向对应，还能够避免相邻两条形磁铁组20中纵向对应位置的两个条形磁铁21的环形磁场之间发生互相干扰的问题。

进一步的，如图5所示，在底板10上还设置有多个并列设置且相互平行的辅助条形磁铁组30，辅助条形磁铁组30的设置方向与条形磁铁组20的设置方向相互垂直，且辅助条形磁铁组30设置在条形磁铁组20中相邻两个条形磁铁21之间。

需要说明的是，第一，由于条形磁铁组20是由多个条形磁铁21首尾排列间隔设置的，因此，本发明实施例中条形磁铁组20的设置方向，指的是多个条形磁铁21的排列延伸方向，同样的，辅助条形磁铁组30的设置方向也指的是辅助条形磁铁组30的延伸方向，当辅助条形磁铁组30为如图5所示的长条状磁铁时，设置方向指长条状磁铁的长度延伸方向，若与条形磁铁组20相同的，辅助条形磁铁组30也为多个条形磁铁排列组成时，设置方向即指多个组成条形磁铁组30的条形磁铁的排列延伸方向。

第二，辅助条形磁铁组30在底板10上相互平行的设置有多组，具体的设置数量以及设置位置本发明实施例中不做限定。示例的，如图5所示，可以为每相隔两个条形磁铁21设置一组，以对磁隔板提供辅助的磁场吸附。又例如，可以在每两个条形磁铁21之间均设置一组，或者，当两个条形磁铁21之间的间隔位置足够大时，还可以在每两个条形磁铁21之间平行设置多组。

第三，本发明实施例中对于多组辅助条形磁铁组30极性设置方向未作限定。但是，考虑到在对待蒸镀面板的实际蒸镀操作过程中，需要磁隔板对掩模版以及待蒸镀面板的中心区域的磁吸附力略大于边缘区域(大5％左右为最优)，因此，为了避免相邻两组辅助条形磁铁组30的极性设置相反时，相邻两组辅助条形磁铁组30在边缘区域由于异性相吸的作用导致边缘区域的磁吸附力增大，较为优选的，如图4所示，与条形磁铁组20同样的，多组辅助条形磁铁组30之间也按照相同的极性方向设置。

由于相互平行设置的多个条形磁铁组20之间相隔有一定空白距离，而且，在同一条形磁铁组20内，相邻的两个条形磁铁21之间也设置有间隔，在磁隔板的上述空白距离处，由于没有磁铁在此处直接形成的磁场，其对掩模版的磁吸附力较低，进一步的，为了平衡磁隔板上各个位置处的磁吸附力，如图5所示，在与条形磁铁组20的设置方向相垂直的方向，位于相邻两个条形磁铁21之间的位置设置辅助条形磁铁组30。以对磁隔板上条形磁铁组20的磁场吸附作用未能覆盖的位置进行辅助吸附。从而使得整个磁隔板上各个位置处受到的磁吸附力较为均衡。

进一步的，如图6所示，辅助条形磁铁组30包括多个辅助条形磁铁31，多个辅助条形磁铁31沿垂直于其长度方向间隔设置，且多个辅助条形磁铁31设置相同的极性方向。

这样一来，如图6所示，由多个沿相同极性方向且首尾间隔设置的辅助条形磁铁31组成的辅助条形磁铁组30，在内部能够形成多个闭合的环形磁场，使得在辅助条形磁铁组30内的磁吸附力各处较为均衡。在上述对多个沿相同极性方向且首尾间隔设置的条形磁铁21组成的条形磁铁组20的设置方式、磁场作用原理等已经进行了详细的说明，辅助条形磁铁组30与条形磁铁组20的设置方式也磁场作用原理相类似，此处不再赘述。

优选的，如图7所示，辅助条形磁铁组30中相邻两个辅助条形磁铁31之间的间隔位置位于条形磁铁组20内。

如图7所示，当辅助条形磁铁组30中包括多个沿相同极性方向且首尾间隔设置的辅助条形磁铁31，且在每相邻两组的条形磁铁组20的对应位置的条形磁铁21之间均设置有辅助条形磁铁组30时，将辅助条形磁铁31设置在相邻两组条形磁铁组20之间的空白距离内，以使得辅助条形磁铁31形成的环形磁场中，磁场作用力最强的中间位置位于空白距离处，提高空白距离处的磁场作用力，使得各处磁场作用力的大小均衡，而且，同一组辅助条形磁铁组30中相邻两个辅助条形磁铁31之间，同时也为相邻两组条形磁铁组20的对应位置的条形磁铁21之间(如图7中圆圈所示的位置)，在此位置，能够利用两条形磁铁21之间以及两辅助条形磁铁31之间异性相吸的作用而形成环形磁场，弥补了磁极位置处相对较弱的磁场作用力，使得磁隔板上各位置处的磁场作用力更为均匀。

进一步的，如图8所示，在磁隔板上划分有多个窗口区域w，以及位于相邻两个窗口区域w之间的支撑区域t，在对应支撑区域t的底板10上还设置有加强磁铁组40。

以oled显示面板为例，oled显示面板包括阵列排布的多个子像素单元，每一个子像素单元包括阳极、发光层和阴极，其中，发光层采用有机电致发光材料形成，掩模版上具有构图图案，随着屏幕ppi(pixelsperinch，每英寸内拥有的像素数目)的增多，掩模版上的构图图案区域也进一步精细化，形成精细金属掩模版(fmmmask)。

精细金属掩模版通常为长条形的金属薄片，在精细金属掩模版上包括有多个掩膜图案区，每一个掩膜图案区的四周由无效掩膜区包围，精细金属掩模版上除掩膜图案区以外的部分均为无效掩膜区。精细金属掩模版的掩膜图案区对应于待蒸镀基板上的待形成图案区。在进行蒸镀操作时，蒸镀材料透过精细金属掩模版上的掩膜图案区附着在待蒸镀基板上的对应位置，以在待蒸镀基板上形成所需的图案。因此，如图8所示，以一块待蒸镀基板上包括四个待形成图案区为例，在磁隔板上划分四个窗口区域w，对应于掩模版的掩膜图案区，而位于相邻两个窗口区域w之间的支撑区域t即对应于掩模版的无效掩膜区。在对应掩模版的无效掩膜区内设置加强磁铁组40，对掩模版的无效掩膜区进行加强吸附，以保证掩模版上每个掩膜图案区的边缘位置的吸附效果较强，从而提高了蒸镀操作时，待蒸镀基板上每个待形成图案区内所形成的图案的蒸镀效果。

进一步的，如图8所示，加强磁铁组40包括在支撑区域t内沿对应支撑区域t的各个延伸方向分别设置的磁条41。

由于精细金属掩模版的厚度非常薄，在通过磁隔板对精细金属掩模版施加以及移除磁吸附力的过程中，若直接施加在无效掩膜区的金属条上的作用力存在一定大小的差异，极易导致精细金属掩模版上发生褶皱，甚至使无效掩膜区的金属条折损，导致精细金属掩模版报废。因此，如图8所示，优选的，加强磁铁组40设置为对应支撑区域t的各个延伸方向的完整的磁条41，这样一来，在一条完整的磁条41上产生的磁场作用力，其磁吸附力强度由磁条41中心向两端均匀的减小，避免了精细金属掩模版上相邻的两个位置由于受到磁吸附作用力的大小差异变化较大而发生褶皱或折损的问题。

进一步的，如图9所示，底板10包括多个子底板11，每一个子底板11对应于一个窗口区域w，相邻两个子底板11之间在对应于支撑区域t的位置相互拼接。

这样一来，如图9所示，当本发明实施例的磁隔板设置在蒸镀腔室内，用于蒸镀装置的蒸镀操作时，能够通过单独为对应于每个底板11设置驱动装置，使得分别驱动每个支撑区域w与待蒸镀基板以及掩模版之间的距离，以分别对磁隔板上每个支撑区域w的整体磁吸附力大小进行调节。此外，还能够在移除磁隔板时，通过控制驱动装置对支撑区域w分别移除，避免磁隔板整体移除时，作用在精细金属掩模版上各个位置的磁吸附力消除的速度不同而导致精细金属掩模版上发生褶皱或折损的问题。

本发明实施例的另一方面提供一种蒸镀腔室，如图10所示，包括上述任一项的磁隔板50。

如图10所示，本发明实施例提供的蒸镀腔室，包括设置在真空腔室60内的磁隔板50，还包括蒸镀源70。在使用本发明的蒸镀腔室进行真空操作时，首先，将待蒸镀基板以及掩模版通过机械手等移动装置送入真空腔室60内，并通过对位装置对待蒸镀基板与掩模版之间的相对位置进行校对，在对位完成后，通过磁隔板50对掩模版进行磁吸附固定，设置在掩模版与磁隔板50之间的待蒸镀基板由于磁隔板50的磁力吸附作用，与磁隔板50及掩模版之间相贴附。然后对真空腔室60进行加热，使得蒸镀源70向上蒸发，并透过掩模版上的镂空图案沉积在待蒸镀基板上的对应位置形成蒸镀膜层。

由于本发明实施例的磁隔板50能够对掩模版及待蒸镀基板提供各处均匀的磁吸附力，使得掩模版与待蒸镀基板之间的贴合较好，进而提高了蒸镀膜层良率，降低了制成的显示面板发生像素混色、像素边缘混色、像素点位偏移等问题的可能性，提高显示效果。

本发明实施例的再一方面提供一种蒸镀装置，包括上述的蒸镀腔室。

使用本发明实施例的蒸镀装置在待蒸镀基板上蒸镀特定图案的膜层，首先需要将待蒸镀基板以及掩模版置入真空腔室60中，在对待蒸镀基板与掩模版完成对位后，通过磁隔板50对掩模版以及待蒸镀基板吸附固定，由于磁隔板50能够提供较为均衡的磁力吸附面，从而使得待蒸镀基板与掩模版之间的贴合效果较好，这种情况下在待蒸镀基板上沉积的膜层图案与掩模版上的镂空图案的一致性好高，大大降低了由于沉积图案出错而可能导致的制得的显示面板上发生像素混色、像素边缘混色、像素点位偏移等显示问题。此外，尤其是对于高ppi要求的oled显示面板而言，通过精细金属掩模版在待蒸镀基板上进行蒸镀膜层时，由于精细金属掩模版的金属图案非常细小，通过磁隔板50对精细金属掩模版上各个位置提供大小均匀的磁吸附力，大大降低了精细金属掩模版上掩膜图案区的金属线或无效掩膜区的金属条由于受到磁吸附力大小不一而可能发生褶皱或折损的情况的发生。此外，为了进一步能够调整磁隔板上对应掩模版上各个镂空图案区域内的整体磁吸附力大小，还可以通过将磁隔板50划分为多个窗口区域w，其中，将底板10划分为多个子底板11，每一个子底板11对应于待蒸镀基板上的一个图案区域，在蒸镀装置中设置分别控制每一个子底板11的驱动装置，从而使得磁隔板50能够对应不同的窗口区域w进行单独控制或个别微调，以及在磁隔板50向掩模版施加磁吸附力和移除磁吸附力时能够分别进行，避免整体同时在施加和移除磁吸附力的过程中，由于掩模版上各处受到的磁场作用力不同而导致掩模版上发生褶皱或折损的问题。

上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。