本发明涉及反光涂层材料技术领域，具体涉及一种非晶合金反光镜及其制备方法。
背景技术：
利用银的高反射率，可以通过真空镀膜或者化学还原反应制造银反光镜。虽然银反光镜具有较高的反射率，但银反射层存在价格贵，硬度低，抗氧化、硫化能力及耐腐蚀能力不强。通过在银反射层表面涂覆保护层来提高银层的物理、化学性能，是一种有效的改善方式，如中国专利cn102419459b采用的聚氨酯保护层以及中国专利cn101776778b采用的siox保护层。
技术实现要素：
本发明提供一种非晶态反光涂层材料，用以取代传统的银及银合金，解决现有技术中存在的缺陷。本发明同时还提供了一种非晶合金反光镜及其制备方法。本发明提供的反光涂层材料不仅具有高的反射率，而且硬度高、耐磨、耐腐蚀、抗氧化、抗硫化，用其制造非晶态合金反光镜，表面无需保护层，制造成本也低于纯银及银合金反光镜，适合于各种场合尤其适合在沙漠、高寒等恶劣环境下使用。
本发明提供的非晶反光涂层材料，是一种zr基非晶合金体系，其组成为zr-ti-cu-ni-al-ag-re，按原子百分比计：48-58%的zr，0-2%的ti,27-34%的cu，3-8%的ni，6-12%的al，0.05-2％的ag，0.1-2%的re；re表示稀土元素，为y、er、sc或其组合，实际中将按照公知的相应公式折算重量配比。将上述材料应用现有工艺涂覆在不锈钢、玻璃、陶瓷、亚克力(pmma)、聚酰亚胺(pet)或聚碳酸酯(pc)基板上，即可制得非晶态合金反光镜。在基板和反光涂层之间设置一层以ti、ni、cr或al为靶材，采用磁控溅射或蒸发方式制备的过渡层，能取得更好的技术效果。
具体实施方式
非晶态合金反光镜的制造方法，包括如下步骤：
（1）制备zr-ti-cu-ni-al-ag-re合金非晶靶材，其中各元素原子百分比：48-58%的zr，0-2%的ti,27-34%的cu，3-8%的ni，6-12%的al，0.05-2％的ag，0.1-2%的re；稀土元素re可以是y、er、sc或其组合。
（2）采用超声方式清洗基板，并进行紫外臭氧表面处理；基板材料可以是不锈钢、玻璃、陶瓷、亚克力(pmma)、聚酰亚胺(pet)或聚碳酸酯(pc)。
（3）以金属ti、ni、cr或al为靶材，采用磁控溅射或蒸发方式在基板上制备过渡层，基板温度可以为25-800℃。
（4）以步骤1制得的zr-ti-cu-ni-al-ag-re非晶合金为靶材，采用磁控溅射或蒸发方式在过渡层上制备非晶层反光涂层，基板温度可以为25-400℃。
下面给出的是具体的实施例。
实施例1：
采用丙酮、酒精、纯水超声清洗玻璃基板，采用直径60mm的ti靶材在玻璃基板上进行直流磁控溅射镀膜得到过渡层，然后采用zr-cu-ni-al-ag-y非晶合金靶材(其中的原子百分比：58%zr，27%cu，3%ni，11.85%al，0.05％ag，0.1%y)在过渡层上进行直流磁控溅射镀膜得到非晶反光涂层，溅射功率为80w、氩气压强为0.6pa、基板温度为室温，过渡层和非晶层的厚度分别约为10nm和400nm。反光镜的硬度为12gpa，反射率为0.86，耐刮擦次数为30次，盐雾测试(盐雾浓度为5%，温度为35℃，湿度为60%)大于500h。
实施例2：
采用丙酮、酒精、纯水超声清洗不锈钢基板，采用直径60mm的ni靶材在不锈钢基板上进行直流磁控溅射镀膜得到过渡层，然后采用zr-cu-ni-al-ag-er非晶合金靶材(其中的原子百分比：58%zr，27%cu，3%ni，11.85%al，0.05％ag，0.1%er)在过渡层上进行直流磁控溅射镀膜得到非晶反光涂层，溅射功率为80w、氩气压强为0.6pa、基板温度为室温，过渡层和非晶层的厚度分别约为20nm和1000nm。反光镜的硬度为14gpa，反射率为0.89，耐刮擦次数为82次，盐雾测试大于800h。
实施例3：
采用丙酮、酒精、纯水超声清洗抛光氧化铝基板，采用直径60mm的cr靶材在氧化铝基板上进行直流磁控溅射镀膜得到过渡层，然后采用zr-cu-ni-al-ag-sc非晶合金靶材(其中的原子百分比：58%zr，27%cu，3%ni，11.85%al，0.05％ag，0.1%sc)在过渡层上进行直流磁控溅射镀膜得到非晶反光涂层，溅射功率为80w、氩气压强为0.6pa、基板温度为室温，过渡层和非晶层的厚度分别约为28nm和5000nm。反光镜的硬度为15gpa，反射率为0.91，耐刮擦次数160次，盐雾测试大于1200h。
实施例4：
采用丙酮、酒精、纯水超声清洗抛光亚克力基板，采用直径60mm的al靶材在亚克力基板上进行直流磁控溅射镀膜得到过渡层，然后采用zr-cu-ni-al-ag-y-er非晶合金靶材(其中的原子百分比：58%zr，27%cu，3%ni，11.85%al，0.05％ag，0.05%y，0.05%er)在过渡层上进行直流磁控溅射镀膜得到非晶反光涂层，溅射功率为80w、氩气压强为0.6pa、基板温度为室温，过渡层和非晶层的厚度分别约为10nm和400nm。反光镜的硬度为10gpa，反射率为0.86，耐刮擦次数为31次，盐雾测试大于500h。
实施例5：
采用丙酮、酒精、纯水超声清洗抛光玻璃基板，采用直径60mm的cr靶材在玻璃基板上进行直流磁控溅射镀膜得到过渡层，然后采用zr-cu-ni-al-ag-y-sc非晶合金靶材(其中的原子百分比：58%zr，27%cu，3%ni，11.85%al，0.05％ag，0.05%y，0.05%sc)在过渡层上进行直流磁控溅射镀膜得到非晶反光涂层，溅射功率为80w、氩气压强为0.02pa、基板温度为室温，过渡层和非晶层的厚度分别约为10nm和400nm。反光镜的硬度为13gpa，反射率为0.88，耐刮擦次数为42次，盐雾测试大于500h。
实施例6：
采用丙酮、酒精、纯水超声清洗抛光玻璃基板，采用直径60mm的cr靶材在玻璃基板上进行直流磁控溅射镀膜得到过渡层，然后采用zr-cu-ni-al-ag-er-sc非晶合金靶材(其中的原子百分比：58%zr，27%cu，3%ni，11.85%al，0.05％ag，0.05%er，0.05%sc)在过渡层上进行直流磁控溅射镀膜得到非晶反光涂层，溅射功率为80w、氩气压强为0.02pa、基板温度400℃，过渡层和非晶层的厚度分别约为10nm和400nm。反光镜的硬度为13gpa，反射率为0.89，耐刮擦次数为45次，盐雾测试大于500h。
实施例7：
采用丙酮、酒精、纯水超声清洗抛光玻璃基板，采用直径60mm的ti靶材在玻璃基板上进行直流磁控溅射镀膜得到过渡层，然后采用zr-cu-ni-al-ag-er非晶合金靶材(其中的原子百分比：48%zr，34%cu，8%ni，8%al，1％ag，1%er)在过渡层上进行直流磁控溅射镀膜得到非晶反光涂层，溅射功率为100w、氩气压强为0.5pa、基板温度为300℃，过渡层和非晶层的厚度分别约为12nm和500nm。反光镜的硬度为12gpa，反射率为0.87，耐刮擦次数为50次，盐雾测试大于800h。
实施例8：
采用丙酮、酒精、纯水超声清洗抛光陶瓷基板，采用直径60mm的ti靶材在陶瓷基板上进行直流磁控溅射镀膜得到过渡层，然后采用zr-cu-ni-al-ag-y非晶合金靶材(其中的原子百分比：48%zr，34%cu，8%ni，6%al，2％ag，2%y)在过渡层上进行直流磁控溅射镀膜得到非晶反光涂层，溅射功率为100w、氩气压强为0.5pa、基板温度为300℃，过渡层和非晶层的厚度分别约为12nm和500nm。反光镜的硬度为15gpa，反射率为0.89，耐刮擦次数为110次，盐雾测试大于800h。
实施例9：
采用丙酮、酒精、纯水超声清洗抛光聚碳酸酯基板，采用直径60mm的ni靶材在聚碳酸酯基板上进行直流磁控溅射镀膜得到过渡层，然后采用zr-cu-ni-al-ag-sc非晶合金靶材(其中的原子百分比：48%zr，34%cu，8%ni，6%al，2％ag，2%sc)在过渡层上进行直流磁控溅射镀膜得到非晶反光涂层，溅射功率为100w、氩气压强为0.5pa、基板温度为400℃，过渡层和非晶层的厚度分别约为12nm和500nm。反光镜的硬度为13gpa，反射率为0.86，耐刮擦次数为45次，盐雾测试大于800h。
实施例10：
采用丙酮、酒精、纯水超声清洗抛光聚酰亚胺基板，采用直径60mm的ti靶材在聚酰亚胺基板上进行直流磁控溅射镀膜得到过渡层，然后采用zr-cu-ni-al-ag-y非晶合金靶材(其中的原子百分比：50%zr，30%cu，6%ni，12%al，1％ag，1%y)在过渡层上进行直流磁控溅射镀膜得到非晶反光涂层，溅射功率为100w、氩气压强为0.5pa、基板温度为200℃，过渡层和非晶层的厚度分别约为13nm和500nm。反光镜的硬度为12gpa，反射率为0.86，耐刮擦次数为36次，盐雾测试大于800h。
实施例11：
采用丙酮、酒精、纯水超声清洗抛光聚酰亚胺基板，分别采用直径60mm的ti和cr靶材在聚酰亚胺基板上进行直流磁控溅射镀膜得到过渡层，然后采用zr-ti-cu-ni-al-ag-y非晶合金靶材(其中的原子百分比：50%zr，2％ti，34.9%cu，5%ni，7.5%al，0.1％ag,0.5%y)在过渡层上进行直流磁控溅射镀膜得到非晶反光涂层，溅射功率为100w、氩气压强为0.5pa、基板温度为200℃，过渡层和非晶层的厚度分别约为13nm和5000nm。反光镜的硬度为13gpa，反射率为0.86，耐刮擦次数为78次，盐雾测试大于1300h。