技术总结
本实用新型公开了一种多基片溅射真空电子束蒸镀装置，该装置包括真空溅射室、布置在真空溅射室底部上的阳极和环状阴极靶材，布置在真空溅射室顶部的多基片支座，多基片支座的下方固定设置有多个基片；环状阴极靶材的中心设置有惰性气体入口管，惰性气体入口管与设置在真空溅射室的外部的水箱连接，水箱中装有水，水箱的底部与氢气瓶或臭氧源连接；惰性气体入口管还与设置在真空溅射室的外部的氩气瓶连接；多基片支座的一侧设置有基片机械臂；基片机械臂的末端插在真空溅射室内部；真空溅射室的一侧设置有基片储存盒；基片储存盒内设置有多个新基片；基片储存盒通过其侧壁上的门与真空溅射室连通；真空溅射室的底部还设置有涡轮泵。
技术研发人员：田守文
受保护的技术使用者：天津市大阳光大新材料股份有限公司
文档号码：201720366030
技术研发日：2017.04.10
技术公布日：2017.11.14