可翻转式的抛光装置的制作方法

文档序号:14954439发布日期:2018-07-17 23:16阅读:311来源:国知局

本实用新型涉及一种抛光装置,特别是涉及一种可翻转式的抛光装置。



背景技术:

抛光是借助粘有磨料的特制抛光轮(或带)的旋转,以切削金属零件表面的过程。抛光可去掉零件表面的毛刺、锈蚀、划痕、焊瘤、焊缝、砂眼、氧化皮等各种宏观缺陷,以提高零件的平整度和电镀质量。

抛光适用于加工一切金属材料和部分非金属材料。抛光效果主要取决于磨料的特性、磨料的质量,抛光轮的刚性韧性和轮轴的旋转速度。

目前,市面上对零件进行抛光操作,主要是通过人工捏持零件靠近抛光轮,以切削零件表面的过程。但是这种通过人工捏持零件方式,不仅抛光效率低,并且由于人工直接碰触零件,容易对零件造成破损,从而影响零件破损率,以及由于人工手动抛光,影响抛光的平滑程度,另外,工人直接靠近抛光轮进行抛光操作,具有一定的危险性。

因此,如何设计一种抛光装置,是本领域人员需要解决的问题。



技术实现要素:

本实用新型的目的是克服现有技术中的不足之处,提供一种可翻转式的抛光装置,从而提高抛光效率与抛光的平滑程度,降低零件破损率以及提高工人进行抛光操作的安全性。

一种可翻转式的抛光装置,包括:工作台、翻转组件及抛光组件,所述翻转组件安装在所述工作台上,所述抛光组件安装在所述工作台上;

所述翻转组件包括升降驱动部、连接轴、连接板、翻转驱动部、输出轴及定位部,所述升降驱动部安装在所述工作台上,所述升降驱动部与所述连接轴驱动连接,所述翻转驱动部安装在所述连接板上,所述输出轴与所述翻转驱动部驱动连接,所述输出轴设置于所述定位部上;

所述定位部包括第一定位板、第二定位板、压紧囊体及压紧螺丝,所述第一定位板及所述第二定位板分别设置于所述输出轴上,所述第一定位板及所述第二定位板形成定位凹槽,所述压紧螺丝与所述第一定位板螺纹连接,所述压紧螺丝具有捏持部及压紧部,所述压紧囊体套设置于所述压紧部,所述捏持部与所述压紧部连接;

所述抛光组件包括抛光底座、抛光驱动部、转动轴及抛光轮,所述抛光底座安装在所述工作台上,所述抛光驱动部安装在所述抛光底座上,所述抛光驱动部与所述转动轴驱动连接,所述抛光底座上开设有凹槽,所述抛光轮与所述转动轴连接。

在本实施例一实施方式中,所述升降驱动部为气缸。

在本实施例一实施方式中,所述翻转驱动部为步进电机。

在本实施例一实施方式中,所述凹槽具有“U”型横截面。

在本实施例一实施方式中,所述抛光轮为磨光轮。

在本实施例一实施方式中,所述压紧螺丝设置有三个,三个所述压紧螺丝分别间隔分布在所述第一定位板上。

在本实施例一实施方式中,所述工作台为长方体结构。

在本实施例一实施方式中,所述压紧螺丝上开设有螺帽。

在本实施例一实施方式中,所述抛光底座为长方体结构。

在本实施例一实施方式中,所述定位凹槽具有“U”型横截面。

与现有技术相比,本实用新型具有以下优点:

本实用新型的具有可翻转式的抛光装置,通过设置的工作台、翻转组件及抛光组件,代替传统人工手动抛光方式,实现机械自动抛光,从而避免工人手动进行抛光操作,提高安全性,翻转组件能够对零件起到较好的定位效果,以及能够实现将零件自动翻转,以使得抛光组件能够对零件多个面进行抛光操作,从而提高抛光的平滑程度与抛光效率,抛光组件能够降低零件表面的粗糙度。

附图说明

图1为本实用新型一实施例的可翻转式的抛光装置的结构示意图;

图2为本实用新型一实施例的可翻转式的抛光装置的局部结构示意图。

具体实施方式

为了便于理解本实用新型,下面将参照相关附图对本实用新型进行更全面的描述。附图中给出了本实用新型的较佳实施方式。但是,本实用新型可以以许多不同的形式来实现,并不限于本文所描述的实施方式。相反地,提供这些实施方式的目的是使对本实用新型的公开内容理解的更加透彻全面。

需要说明的是,当元件被称为“固定于”另一个元件,它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件,它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的,并不表示是唯一的实施方式。

除非另有定义,本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的,不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

一实施方式中,一种可翻转式的抛光装置,包括:工作台、翻转组件及抛光组件,所述翻转组件安装在所述工作台上,所述抛光组件安装在所述工作台上;所述翻转组件包括升降驱动部、连接轴、连接板、翻转驱动部、输出轴及定位部,所述升降驱动部安装在所述工作台上,所述升降驱动部与所述连接轴驱动连接,所述翻转驱动部安装在所述连接板上,所述输出轴与所述翻转驱动部驱动连接,所述输出轴设置于所述定位部上;所述定位部包括第一定位板、第二定位板、压紧囊体及压紧螺丝,所述第一定位板及所述第二定位板分别设置于所述输出轴上,所述第一定位板及所述第二定位板形成定位凹槽,所述压紧螺丝与所述第一定位板螺纹连接,所述压紧螺丝具有捏持部及压紧部,所述压紧囊体套设置于所述压紧部,所述捏持部与所述压紧部连接;所述抛光组件包括抛光底座、抛光驱动部、转动轴及抛光轮,所述抛光底座安装在所述工作台上,所述抛光驱动部安装在所述抛光底座上,所述抛光驱动部与所述转动轴驱动连接,所述抛光底座上开设有凹槽,所述抛光轮与所述转动轴连接。这样,具有可翻转式的抛光装置通过设置的工作台、翻转组件及抛光组件,代替传统人工手动抛光方式,实现机械自动抛光,从而避免工人手动进行抛光操作,提高安全性,翻转组件能够对零件起到较好的定位效果,以及能够实现将零件自动翻转,以使得抛光组件能够对零件多个面进行抛光操作,从而提高抛光的平滑程度与抛光效率,抛光组件能够降低零件表面的粗糙度。

为了更好地对上述简易型冲压装置进行说明,以更好地理解上述简易型冲压装置的构思。如图1所示,其为本实用新型一实施例的可翻转式的抛光装置的结构图。

一种可翻转式的抛光装置10,包括:工作台100、翻转组件200及抛光组件300,翻转组件200安装在工作台100上,抛光组件300安装在工作台100上。翻转组件200用于对零件起到定位作用以及翻转作用。抛光组件300用于对零件进行抛光操作。在本实施例中,工作台100为长方体结构。

请再次参阅图1所示,翻转组件200包括升降驱动部210、连接轴220、连接板230、翻转驱动部240、输出轴250及定位部260,升降驱动部210安装在工作台100上,升降驱动部210与连接轴220驱动连接,翻转驱动部240安装在连接板230上,输出轴250与翻转驱动部240驱动连接,输出轴250设置于定位部260上。翻转驱动部240为步进电机。

要说明的是,升降驱动部210驱动连接轴220作升降运动,连接轴220带动连接板230升降,从而带动安装在连接板230上的翻转驱动部240作升降。在本实施例中,升降驱动部210为气缸。

进一步要说明的是,翻转驱动部240驱动输出轴250转动,输出轴250带动定位部260转动。

请再次参阅图2所示,定位部260包括第一定位板261、第二定位板262、压紧囊体263及压紧螺丝264,第一定位板261及第二定位板262分别设置于输出轴250上,第一定位板261及第二定位板262形成定位凹槽265,压紧螺丝264与第一定位板261螺纹连接,压紧螺丝264具有捏持部264a及压紧部264b,压紧囊体263套设置于压紧部264b,捏持部264a与压紧部264b连接。在本实施例中,压紧螺丝264设置有三个,三个压紧螺丝264分别间隔分布在第一定位板261上。压紧螺丝264上开设有螺帽。定位凹槽265具有“U”型横截面。

要说明的是,将零件放置在第一定位板261及第二定位板262形成的定位凹槽265内,然后通过人工拧转压紧螺丝264,使得压紧螺丝264对零件进一步的压紧,从而使零件稳固定位在定位凹槽265内。其中,压紧螺丝264压紧零件时,通过设置的压紧囊体263,从而减少压紧螺丝264与零件之间的摩擦。

请再次参阅图1所示,抛光组件300包括抛光底座310、抛光驱动部320、转动轴330及抛光轮340,抛光底座310安装在工作台100上,抛光驱动部320安装在抛光底座310上,抛光驱动部320与转动轴330驱动连接,抛光底座310上开设有凹槽311,抛光轮340与转动轴330连接。在本实施例中,凹槽311具有“U”型横截面。在本实施例中,抛光轮340为磨光轮。抛光底座310为长方体结构。

要说明的是,抛光驱动部320驱动转动轴330转动,转动轴330带动抛光轮340转动。将零件靠近转动的抛光轮340,从而实现抛光操作。其中,通过升降驱动部210带动定位部260升降,从而能够调节定位部260上的零件与抛光轮之间的距离。

与现有技术相比,本实用新型至少具有以下优点:

本实用新型的具有可翻转式的抛光装置10,通过设置的工作台100、翻转组件200及抛光组件300,代替传统人工手动抛光方式,实现机械自动抛光,从而避免工人手动进行抛光操作,提高安全性,翻转组件200能够对零件起到较好的定位效果,以及能够实现将零件自动翻转,以使得抛光组件300能够对零件多个面进行抛光操作,从而提高抛光的平滑程度与抛光效率,抛光组件300能够降低零件表面的粗糙度。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本实用新型的保护范围。因此,本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

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