一种改善化学气相沉积加热均匀度的装置的制作方法

文档序号:15693930发布日期:2018-10-19 18:43阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明公开一种改善化学气相沉积加热均匀度的装置,包括放置台、限位卡板、沉积机构和升降加热机构;限位卡板的板面上设置有限位槽孔,放置台的侧壁设置有取放槽道。本技术方案将晶圆通过取放槽道放置于限位槽孔上,此时升降加热机构对限位槽孔上的晶圆进行加热处理,在达到预设定的温度时,再通过沉积机构将导入的化学气体在晶圆上沉积,在沉积结束后,再通过取放槽道将晶圆取出,完成对晶圆的气相沉积。由于限位槽孔可以将晶圆限制放置因此晶圆不会发生偏移的状况,因此通过正下方的升降加热机构对晶圆进行全方位的加热,加上升降加热机构的加热面积与晶圆相近,所以可以达到对晶圆均匀加热的目的,继而使得在沉积时晶圆的品质较高。

技术研发人员:陈焕榕;苏育生
受保护的技术使用者:福建省福联集成电路有限公司
技术研发日:2018.07.05
技术公布日:2018.10.19
当前第2页1 2 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1