镀膜装置的制作方法

本申请涉及镀膜技术领域，特别是涉及一种镀膜装置。

背景技术：

在真空环境中,将材料加热并镀到基板上称为真空蒸镀,或叫真空镀膜。蒸镀是将待镀基板置于真空中进行蒸发或升华,使之在工件或基片表面沉积的过程。

在真空镀膜过程中，基板连续从外界环境经输入口进入镀膜装置蒸镀，蒸镀完成后再由输出口输出镀膜装置。基板连续运动由常压进入真空环境，会携带部分空气进入真空镀膜装置。目前在基板连续进入及输出镀膜装置时怎样保持镀膜装置内部的真空环境，是目前亟需解决的问题。

技术实现要素：

基于此，有必要针对上述基板连续真空镀膜处理所存在的问题，提供一种镀膜装置。

一种镀膜装置，用于基板连续镀膜。所述镀膜装置包括：

顺次连通的第一缓冲室、真空蒸镀室、第二缓冲室、至少一个第一传动轮组、基板支撑轮组以及至少一个第二传动轮。

所述第一传动轮组设置于所述第一缓冲室，至少一个所述第一传动轮组与所述第一缓冲室的内壁相切，且至少有两个切点。所述第一传动轮组将所述第一缓冲室与外界隔开，且将所述基板传送至所述第一缓冲室。所述基板支撑轮组设置于所述真空蒸镀室，用于支撑传输所述基板并使其在所述真空蒸镀室内均匀镀膜。所述第二传动轮组设置于所述第二缓冲室，至少一个所述第二传动轮组与所述第二缓冲室的内壁相切，且至少有两个切点。所述第二传动轮组将所述第二缓冲室与外界隔开，且将所述基板由第二缓冲室输出。

在本公开的一个示例性实施例中，所述第一传动轮组包括两个第一传动轮。所述第一传动轮分别与所述第一缓冲室的至少一个内壁相切，且相切于第一切点。两个所述第一传动轮之间设有可供所述基板传输的缝隙，以夹持固定所述基板，所述第一传动轮相背运动以将所述基板传输至所述第一缓冲室。

在本公开的一个示例性实施例中，所述第一缓冲室的内壁包括前壁和至少一个第一侧壁，所述第一侧壁沿着所述基板的运动方向延伸，所述第一切点位于所述前壁和/或所述第一侧壁。

在本公开的一个示例性实施例中，所述第一传动轮包括轮毂和密封圈，所述密封圈套设于所述轮毂的表面。

在本公开的一个示例性实施例中，所述第二传动轮组包括两个第二传动轮，每个所述第二传动轮分别与所述第二缓冲室的至少一个内壁相切，且相切于第三切点。传输时，两个所述第二传动轮与所述基板的两个表面相切，以夹持固定并伸展所述基板。

在本公开的一个示例性实施例中，所述镀膜装置还包括至少一个第三传动轮组，所述第三传动轮组设置于所述第一缓冲室，且位于所述第一传动轮组与所述镀膜腔室之间。所述第三传动轮组用于支撑传输所述基板。所述第三传动轮组包括两个第三传动轮，两个所述第三传动轮之间设有可供所述基板通过的缝隙，以夹持固定所述基板。

在本公开的一个示例性实施例中，每个所述第三传动轮分别与所述第一侧壁相切，以将所述第三传动轮组与所述真空蒸镀室之间的第一缓冲室部分分隔为多个相邻的子腔室。

在本公开的一个示例性实施例中，所述真空蒸镀室还包括依次设置的催化蒸镀室、镀膜蒸镀室和表面处理室。所述催化蒸镀室与所述第一缓冲室连接，所述表面处理室与所述第二缓冲室相连，所述催化蒸镀室、所述镀膜蒸镀室和所述表面处理室位于所述基板的同一侧，依次对所述基板进行镀膜处理。

在本公开的一个优先的实施例中，所述真空蒸镀室还包括加热装置。所述加热装置设于所述基板的与所述催化蒸镀室、所述镀膜蒸镀室和所述表面处理室相对的一侧。

在本公开的一个示例性实施例中，所述加热装置包括依次设置的第一加热区、第二加热区和第三加热区。所述第一加热区与所述催化蒸镀室相对设置，所述第二加热区与所述镀膜蒸镀室相对设置，所述第三加热区与所述表面处理室相对设置。

在本公开的一个示例性实施例中，所述镀膜装置还包括放卷装置、第一导向装置、第二导向装置和收卷装置。所述放卷装置和所述第一导向装置依次设置于所述第一缓冲室远离所述第二缓冲室的一侧，所述放卷装置释放的所述基板通过所述第一导向装置进入所述第一缓冲室。所述第二导向装置和所述收卷装置依次设置于所述第二缓冲室远离所述第一缓冲室的一侧，所述收卷装置用以收纳经过所述第二导向装置的镀膜处理后的所述基板。

在本公开的一个示例性实施例中，所述镀膜装置还包括冷却室，设置于所述真空蒸镀室与所述第二缓冲室之间，用于冷却由所述真空蒸镀室输出的所述基板。

本申请提供一种镀膜装置，所述镀膜装置设置至少一个所述第一传动轮组、所述基板支撑轮组以及至少一个所述第二传动轮组。所述第一传动轮组与所述第一缓冲室的内壁相切，且至少有两个切点，这样，所述第一传动轮组将所述第一缓冲室空间与外界隔开，阻止空气沿所述第一缓冲室的内壁进入所述第一缓冲室。设置于所述真空蒸镀室的基板支撑轮组，用于支撑传输所述基板并使其在所述真空蒸镀室内均匀镀膜。所述第二传动轮组设置于所述第二缓冲室且与所述第二缓冲室内壁相切以对所述第二缓冲室形成密封。所述镀膜装置通过设置所述第一传动轮组与所述第一缓冲室内壁密封、所述第二传动轮组与所述第二缓冲室内壁密封，实现了所述基板整个传输过程中的腔室密封。

附图说明

图1为本申请一个实施例中提供的镀膜装置的结构示意图；

图2为本申请一个实施例中提供的第一缓冲室的局部结构示意图；

图3为本申请一个实施例中提供的第二缓冲室的局部结构示意图。

附图标号说明：

镀膜装置10

基板100

放卷装置110

第一导向装置120

收卷装置130

第二导向装置140

第一缓冲室20

第一入口201

第一出口202

子腔室210

前壁211

第一侧壁212

真空蒸镀室30

蒸镀入口301

蒸镀出口302

催化蒸镀室310

镀膜蒸镀室320

表面处理室330

第二缓冲室40

第二入口401

第二出口402

后壁411

第二侧壁412

第一传动轮组50

基板支撑轮组500

第一切点501

第二切点502

第一传动轮510

轮毂511

密封圈512

第二传动轮组60

第三切点601

第四切点602

第二传动轮610

第三传动轮组70

第五切点701

第六切点702

第三传动轮710

加热装置80

第一加热区810

第二加热区820

第三加热区830

冷却室90

具体实施方式

为了使本申请的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本申请进行进一步详细说明。应当理解，此处描述的具体实施例仅用以解释本申请，并不用于限定本申请。

请参见图1，本申请实施例提供一种镀膜装置10。所述镀膜装置10用于基板100连续镀膜。所述镀膜装置10包括：顺次连通的第一缓冲室20、真空蒸镀室30、第二缓冲室40，至少一个第一传动轮组50、基板支撑轮组500以及至少一个第二传动轮组60。所述第一传动轮组50设置于所述第一缓冲室20，至少一个所述第一传动轮组50与所述第一缓冲室20的内壁相切，且至少有两个切点，所述第一传动轮组50将所述第一缓冲室20与外界隔开，且将所述基板100传送至所述第一缓冲室20。

所述基板支撑轮组500设置于所述真空蒸镀室30，用于支撑传输所述基板100并使其在所述真空蒸镀室30内均匀镀膜。所述第二传动轮组60设置于所述第二缓冲室40，至少一个所述第二传动轮组60与所述第二缓冲室20的内壁相切，且至少有两个切点，所述第二传动轮组50将所述第二缓冲室20与外界隔开，且将所述基板100由所述第二缓冲室20输出。

本申请提供一种镀膜装置10，所述镀膜装置10设置至少一个所述第一传动轮组50、所述基板支撑轮组500以及至少一个所述第二传动轮组60。所述第一传动轮组50与所述第一缓冲室20的至少一个内壁相切，阻止空气沿所述第一缓冲室20的内壁进入所述第一缓冲室20。同时，两个所述第一传动轮210与所述基板100处于挤压贴合状态，阻止空气沿所述基板100进入所述第一缓冲室20进入所述第一缓冲室20。所述基板支撑轮组500设置于所述真空蒸镀室30，用于承接并支撑由所述第一缓冲室20传输至所述第二缓冲室40。所述第二传动轮组60设置于所述第二缓冲室40且与所述第二缓冲室40内壁相切以对所述第二缓冲室40形成密封。所述镀膜装置10通过设置所述第一传动轮组50与所述第一缓冲室20内壁密封、所述第二传动轮组60与所述第二缓冲室40内壁密封，实现了所述基板100整个传输过程中的腔室密封。

所述基板100为柔性材料，可以缠绕式收纳于辊轮。在一个实施例中，所述基板100为不锈钢基板，不锈钢基板的厚度为30-100um，宽度为1190mm。所述基板100具有良好的柔度和延展性，但强度差。在所述基板100的镀膜过程中需要传动轮的支撑和传输。

所述第一缓冲室20包括第一入口201和第一出口202。所述真空蒸镀室30包括蒸镀入口301和蒸镀出口302，所述第一出口202与所述蒸镀入口301连通。所述第二缓冲室40包括第二入口401和第二出口402，所述蒸镀出口302与所述第二入口401连通。

所述第一缓冲室20、所述真空蒸镀室30和所述第二缓冲室40通过所述第一出口202、所述蒸镀入口301、所述蒸镀出口302和所述第二入口401顺次连通。所述基板100从第一入口201进入所述第一缓冲室20，顺次通过所述第一缓冲室20、所述真空蒸镀室30和所述第二缓冲室40，再由所述第二出口402输出。所述基板100通过所述第一缓冲室20由常压环境逐渐进入真空环境，并进入所述真空蒸镀室30进行表面镀膜，再通过所述第二缓冲室40逐渐由真空环境进入常压环境。由此，所述基板100完成表面镀膜。

所述第一缓冲室20为所述基板100从常压环境进入真空环境提供缓冲空间。所述基板100从外界环境进入所述第一缓冲室20，沿着所述基板100的表面会附着空气，空气也会随所述基板100进入所述第一缓冲室20。所述第一缓冲室20可以与真空机组的抽气口相连，所述真空机组将所述第一缓冲室20中的气体抽出，使所述第一缓冲室20处于真空环境。同时，所述基板100的表面杂质也会随空气一起脱离所述基板100表面，为后续工作，提供洁净的工作面。

所述第一缓冲室20的形状可以为圆柱形、立方体等。在一个实施例中，所述第一缓冲室20的形状为立方体，所述基板100的表面平行于立方体的一个表面，且过立方体的中心。所述基板100穿过圆柱的径向截面。所述第一缓冲室20的材料可以为碳钢、不锈钢或铸铁等。在一个实施例中，所述第一缓冲室20可以为不锈钢，耐腐蚀，保证所述基板100在传输通过所述第一缓冲室20时不被污染，所述基板100表面处于洁净状态。

在一个实施例中，所述第一传动轮组50包括两个第一传动轮510。所述第一传动轮510分别与所述第一缓冲室20的至少一个内壁相切，且至少有两个切点，该切点为第一切点501。两个所述第一传动轮510之间设有可供所述基板100传输的缝隙，以夹持固定所述基板100，所述第一传动轮510相背运动以将所述基板100传输至所述第一缓冲室20。

在一个实施例中，所述第一缓冲室20的内壁包括前壁211和至少一个第一侧壁212，所述第一侧壁212沿着所述基板100的运动方向延伸，所述第一切点501位于所述前壁211或所述第一侧壁212。

所述前壁211和所述第一侧壁212包围形成所述第一缓冲室20。两个所述第一传动轮510可以与所述第一缓冲室20的前壁211相切，也可以与所述第一缓冲室20的第一侧壁212相切，还可以与所述第一缓冲室20的前壁211和第一侧壁212同时相切。在一个实施例中，两个所述第一传动轮510与所述第一缓冲室20的前壁211和第一侧壁212同时相切，多接触面的层层密封，减少空气进入所述第一缓冲室20，使所述第一缓冲室20保持良好的密封状态和真空环境。

两个所述第一传动轮510之间设有可供所述基板100通过的缝隙，两个所述第一传动轮510相背运动，以带动所述基板100进入所述第一缓冲室20，传输时，两个所述第一传动轮510与所述基板100的两个表面相切，以夹持固定并伸展所述基板100，两个所述第一传动轮510与所述基板100的切点即为第二切点502。

所述第一传动轮组50能够通过所述第一传动轮510，不但将所述基板100由外界环境导入所述第一缓冲室20，而且能与所述基板100表面紧密接触，使所述第一缓冲室20形成密闭空间。在一个实施例中，两个所述第一传动轮510对称设置于所述基板100的两侧。两个所述第一传动轮510相背转动运动，为所述基板100运动提供动力。两个所述第一传动轮510与所述基板100在所述第二切点502接触。两个所述第一传动轮510同步相背转动运动时，两个所述第一传动轮510与所述基板100的接触面会产生摩擦力，摩擦力会带动所述基板100由外界环境进入所述第一缓冲室20。由于所述第一传动轮510为主动轮，摩擦力的方向与所述基板100的运动方向相同。两个所述第一传动轮510连续转动，将所述基板100连续不断地送入所述第一缓冲室20。在上一个实施例中，所述第一传动轮组50中两个所述第一传动轮510可同时为主动轮；也可以一个所述第一传动轮510为主动轮，另一个所述第一传动轮510为从动轮。

请一并参见图2，在一个实施例中，所述第一传动轮510包括轮毂511和密封圈512，所述密封圈512套设于所述轮毂511的表面。

所述密封圈511套设于所述轮毂511的表面，不仅能密封所述第一传动轮510与所述第一缓冲室20或所述基板100的接触面，而且减少所述基板100的磨损。在一个实施例中，所述密封圈511的材质可以为丁腈橡胶、氢化丁腈橡胶或硅橡胶等橡胶材质。在一个实施例中，所述密封圈511的材质为硅橡胶，所述硅橡胶具有极佳的耐热、耐寒、耐臭氧、耐大气老化性能。硅橡胶的使用温度为-55℃-250℃。因为在所述基板100的表面镀膜的过程需要加热，所述第一缓冲室20、所述真空蒸镀室30与所述第二缓冲室40顺次连通，宽温度范围的所述密封圈511能够避免在高温的环境中老化变硬。老化变硬的所述密封圈511与所述基板100接触时，接触面会产生缝隙。空气从缝隙进入所述第一缓冲室20，降低所述基板100的接触点密封性。同时，变硬的所述密封圈511与所述基板100的接触面积变小，摩擦力也随之变小。摩擦力变小，导致所述密封圈511在所述基板100表面打滑，变硬的所述密封圈511不能为所述基板100提供足够动力,造成能源浪费。

在一个实施例中，所述密封圈511的外壁可以与所述前壁211或所述第一侧壁212相切。在一个实施例中，所述密封圈511同时与所述前壁211和所述第一侧壁212相切。所述密封圈511具有一定的弹性，通过调节所述密封圈511与所述前壁211和所述第一侧壁212的挤压程度，可以保证所述密封圈511既能够自由转动，又能够使接触面密封，减少空气进入所述第一缓冲室20。

在一个实施例中，所述第一传动轮510辅助传动，所述第一传动轮510可以只包含所述轮毂511，通过所述轮毂511与所述基板100相切接触，带动所述基板100沿转动切线方向运动。在上一个实施例中，所述轮毂511还可以与所述第一缓冲室20的前壁211或第一侧壁212相切。

请一并参见图3，在一个实施例中，所述第二传动轮组60包括两个第二传动轮610，每个所述第二传动轮610分别与所述第二缓冲室20的至少一个内壁相切，且相切于第三切点601。两个所述第二传动轮610之间设有可供所述基板100传输的缝隙，以夹持固定所述基板100，两个所述第二传动轮610相背运动，以将所述基板100由所述第二缓冲室40输出。

两个所述第二传动轮610之间设有可供所述基板100传输的缝隙，两个所述第二传动轮610相背运动，以带动所述基板100离开所述第二缓冲室40，传输时，两个所述第二传动轮610与所述基板100的两个表面相切，以夹持固定并伸展所述基板100。两个所述第二传动轮610与所述第二缓冲室40的内壁的切点为第三切点601。两个所述第二传动轮610与所述基板100的切点即为第四切点602。

所述第二传动轮组60带动所述基板100运动，使所述基板100连续不断地从所述第二缓冲室40输出。在一个实施例中，两个所述第二传动轮610对称设置于所述基板100的两侧，两个所述第二传动轮610同步相背转动运动，为所述基板100运动提供动力。两个所述第二传动轮610与所述基板100在所述第四切点602接触。两个所述第二传动轮610同步相背转动运动时，两个所述第二传动轮610与所述基板100的接触面会产生摩擦力，摩擦力会带动所述基板100由所述第二缓冲室40输出，进入常压环境。由于所述第二传动轮610为主动轮，摩擦力的方向与所述基板100的运动方向相同。两个所述第二传动轮610连续转动，使所述基板100连续不断地从所述第二缓冲室40输出。

在一个实施例中，两个所述第二传动轮610还分别与所述第二缓冲室40的内壁在所述两个所述第三切点601相切。两个所述第二传动轮610与所述第二缓冲室40相切于所述第三切点601，能够减少空气进入所述第二缓冲室40的几率。两个所述第二传动轮610分别通过两个所述第三切点601与所述第二缓冲室40的内壁相切以密封所述第二缓冲室40。

所述内壁包括所述第二出口402所在的后壁411和第二侧壁412。在一个实施例中，两个所述第二传动轮610可以与所述第二侧壁412相切，也可以与所述后壁411相切，还可以同时与所述后壁411和所述第二侧壁412内壁相切。

请一并参见图2，在一个实施例中，所述镀膜装置10还包括至少一个所述第三传动轮组70。所述第三传动轮组70设置于所述第一缓冲室20，且位于所述第一传动轮组50与所述真空蒸镀室30之间，所述第三传动轮组70用于支撑传输所述基板100。所述第三传动轮组70包括两个第三传动轮710，两个所述第三传动轮710之间设有可供所述基板100通过的缝隙，以夹持固定所述基板100。

在一个实施例中，所述两个第三传动轮710还分别与所述第一侧壁212相切，以将所述第三传动轮组70与所述真空蒸镀室30之间的所述第一缓冲室20部分分隔为多个相邻的子腔室210。

所述两个第三传动轮710还分别与所述第一侧壁212相切，以密封所述第一缓冲室20，所述两个第三传动轮710与所述第一侧壁212的切点即为第五切点701。两个所述第三传动轮710与所述基板100的切点为第六切点702。在所述第五切点701与所述第一缓冲室20之间形成密闭的所述子腔室210，即使有少数的空气经所述第二切点502进入所述第一缓冲室20，也会先进入所述第五切点701与所述第六切点702之间形成密闭的所述子腔室210。所述第五切点701与所述第六切点702之间的密闭所述子腔室210具有阻隔空气的作用。即使所述第一传动轮510与所述第一缓冲室20的内壁或所述基板100的接触面密封性不好，少量气体进入所述第五切点701与所述第六切点702之间的密闭所述子腔室210。所述第一缓冲室20与真空机组连接，对所述第五切点701与所述第六切点702之间形成密闭的空间抽真空，此时密闭空间中处于近似真空状态，与外界空气相比，真空度较高。所述第一切点501、所述第二切点502、所述第五切点701和所述第六切点702的密封作用，使得所述基板100在传动过程中，顺次经过所述子腔室210，并逐渐进入真空状态。这种逐渐递进的真空态，即能够维持所述基板100的表面物理状态，又降低真空机组的功率需求,节能环保。

在一个实施例中，所述第三传动轮710包括所述轮毂511和所述密封圈512，所述第三传动轮710的所述密封圈512与所述第一侧壁212在所述第五切点701相切，用以密封所述第三传动轮710与所述第一侧壁212。所述密封圈512与所述基板100在所述第六切点702相切，将所述第三传动轮710的转动力转换为所述基板100的传动力。通过调节所述密封圈512与所述基板100之间的挤压强度，可以使所述第六切点702之间的接触面紧密贴合。所述基板100与两个所述第三传动轮710紧密贴合，获取动力，并在所述基板100的运动方向形成密封环境，减少空气进入。在一个实施例中，所述第三传动轮710只包括所述轮毂511。所述第三传动轮710的外径与所述第一传动轮510的外径相同。所述第三传动轮组70与所述第一传动轮组50中的传动轮的排布方式相同。所述第三传动轮组70和所述第一传动轮组50中的传动轮均为主动轮。

所述第三传动轮组70可以为多个，顺次排布。在相邻的所述第三传动轮组70之间形成密闭的所述子腔室210。由于所述第三传动轮组70与所述第一缓冲室20或所述第二缓冲室40的内壁相切，所述子腔室210为真空密封状态。

在一个实施例中，所述镀膜装置10包括两个所述第三传动轮组70，设置于所述第二缓冲室40，顺次排布在所述第一传动轮组50远离所述第一入口201的一侧。通过所述第一传动组50和两个所述第三传动轮组70，所述镀膜装置10实现两级真空降压，所述基板100在通过两级真空降压环境后，进入所述真空蒸镀室30。所述真空蒸镀室30的真空度达到10mbar-5mbar。

在一个实施例中，所述镀膜装置10还可以包括至少一个所述第三传动轮组70，设置于所述第二缓冲室40，所述第三传动轮组70包括两个所述第三传动轮710，设置于所述第三传动轮组70远离所述第二出口402的一侧，所述两个第三传动轮710对称设置于所述基板100两侧，并与所述基板100相切，所述两个第三传动轮710的转动方向与两个所述第二传动轮610的转动方向分别一致，所述两个第三传动轮710同步相背转动时，所述两个第三传动轮710带动所述基板100通过所述两个第三传动轮710切点的切线沿着远离所述真空蒸镀室30的方向运动。

所述第三传动轮组70包含的两个所述第三传动轮710与所述基板100与所述第二缓冲室40的第二侧壁412相切，能够将转动力传递给所述基板100，使其沿切线方向传动。在一个实施例中，所述第三传动轮710包括所述轮毂511和所述密封圈512，所述第三传动轮710的所述密封圈512与所述基板100相切，将所述第三传动轮710的转动力转换为所述基板100的传动力。通过调节所述密封圈512与所述基板100之间的挤压强度，可以使所述第六切点702之间的接触面紧密贴合。所述基板100与两个所述第三传动轮710紧密贴合，获取动力，并沿所述基板100的运动方向形成密封环境，减少空气进入。在一个实施例中，所述第三传动轮710只包括所述轮毂511。所述第三传动轮710的外径与所述第二传动轮610的外径相同。所述第三传动轮组70与所述第二传动轮组60中的传动轮的排布方式相同。所述第三传动轮组70和所述第二传动轮组60中的传动轮均为主动轮。

在一个实施例中，所述镀膜装置10包括两个所述第三传动轮组70，设置于所述第二缓冲室40，顺次排布在所述第二传动轮组60远离所述第二出口402的一侧。通过两个所述第三传动轮组70和所述第二传动轮组60，所述镀膜装置10实现两级升压，所述基板100在通过两级升压环境后，进入常压环境。所述基板100在镀膜后，突然进入真空环境，会由于闪蒸的作用，降低膜层的粘接度。所述镀膜装置10设置两级升压，可以避免闪蒸引起的膜层脱落，保证所述基板100的镀膜质量。

在一个实施例中，所述真空蒸镀室30还包括依次设置的催化蒸镀室310、镀膜蒸镀室320和表面处理室330，所述催化蒸镀室310与所述第一缓冲室20连接，所述表面处理室330与所述第二缓冲室40相连，所述催化蒸镀室310、所述镀膜蒸镀室320和所述表面处理室330位于所述基板100的同一侧，依次对所述基板100进行镀膜处理。

所述催化蒸镀室310、所述镀膜蒸镀室320以及所述表面处理室330顺次连通。所述基板100顺次通过所述催化蒸镀室310、所述镀膜蒸镀室320以及所述表面处理室330，完成催化过程、镀膜过程以及后期处理过程。所述真空蒸镀室30包括所述催化蒸镀室310、所述镀膜蒸镀室320或所述表面处理室330中的一个或几个。在一个实施例中，所述催化蒸镀室310中放置催化剂或表面处理剂，为镀膜过程提供晶核。所述镀膜蒸镀室320放置至少一种镀膜金属，气态的镀膜金属围绕晶核在所述基板100的表面形成膜层。所述表面处理室330能够对膜层进行后期处理，使膜层表面的光洁度更高。

在一个实施例中，所述催化蒸镀室310放置naf，厚度20nm-50nm，所述naf在真空高温环境中，na参与膜层的形核和生长，使膜层的晶粒尺寸增大，膜层的晶界减少，膜层的缺陷减少，得到高质量的膜层。在上一个实施例中，所述镀膜蒸镀室320放置cu、in、ga或se中的一种或几种。在温度不同时，cu、in、ga或se的蒸发量不同，蒸镀在所述基板100表面的薄膜性能不同。在上一个实施例中，所述表面处理室330中放入后处理剂，能够改变膜层表面的形貌和化学性质，减少膜层的表面缺陷。

所述基板支撑轮组500包括至少一个支撑传动轮。在一个实施例中，所述基板支撑轮组500包括3个支撑传动轮，分别设置于所述催化蒸镀室310、所述镀膜蒸镀室320以及所述表面处理室330的入口处。所述支撑传动轮与所述基板100接触，用于支撑并为所述基板100提供动力。所述支撑传动轮中至少有一个为主动轮。

在一个实施例中，所述真空蒸镀室30还包括加热装置80。所述加热装置80设于所述基板100的与所述催化蒸镀室310、所述镀膜蒸镀室320和所述表面处理室330相对的一侧。

所述加热装置80能够使所述真空蒸镀室30的温度升至适宜的数值，以保证各个腔室中的物质能够达到饱和蒸气压，蒸发到所述真空蒸镀室30的中间中，并附着在所述基板100的表面，完成膜层的镀制。

所述加热装置80包括依次设置的第一加热区810、第二加热区820和第三加热区830。所述第一加热区810与所述催化蒸镀室310相对设置，所述第二加热区820与所述镀膜蒸镀室320相对设置，所述第三加热区830与所述表面处理室330相对设置。

对应所述催化蒸镀室310、所述镀膜蒸镀室320以及所述表面处理室330设置不同加热区域，通过调节各个区域的温度，能够加快镀膜的效率，提高镀膜质量。所述催化蒸镀室310、所述镀膜蒸镀室320以及所述表面处理室330中的物质不同，饱和蒸气压不同，适宜的温度不同。通过在所述催化蒸镀室310、所述镀膜蒸镀室320以及所述表面处理室330的敞口出对应设置不同的温度加热区，使所述催化蒸镀室310、所述镀膜蒸镀室320以及所述表面处理室330的物质处于最佳蒸发状态，加快镀膜效率。

在一个实施例中，所述加热装置80与所述催化蒸镀室310、所述镀膜蒸镀室320以及所述表面处理室330之间设置传动轮，不仅能够支撑和延展所述基板100，而且能够提供传动动力，使其顺利通过所述真空蒸镀室30。在一个实施例中，所述传动轮的个数不限，只要能保证蒸镀面积即可。所述基板支撑轮组500可以包含多个传动轮。在一个实施例中，所述基板支撑轮组500包含3个传动轮，分别设置在所述蒸镀入口301、所述催化蒸镀室310与所述镀膜蒸镀室320之间以及所述镀膜蒸镀室320与所述表面处理室330之间。所述传动轮与所述基板100远离所述加热装置340的表面相切，用于支撑所述基板100。所述传动轮中至少有一个主动轮，用于为所述基板100传动提供动力。所述传动轮靠近所述催化蒸镀室310、所述镀膜蒸镀室320以及所述表面处理室330的表面还可以设置保护装置，避免所述真空蒸镀室30中的物质粘接于所述传动轮的表面，造成资源的浪费。

在一个实施例中，所述镀膜装置10还包括放卷装置110、第一导向装置120、第二导向装置140和收卷装置130。所述放卷装置110和所述第一导向装置120依次设置于所述第一缓冲室20远离所述第二缓冲室40的一侧，所述放卷装置110释放的所述基板100通过所述第一导向装置120进入所述第一缓冲室20。所述第二导向装置140和所述收卷装置130依次设置于所述第二缓冲室40远离所述第一缓冲室20的一侧，所述收卷装置130用以收纳经过所述第二导向装置140的镀膜处理后的所述基板100。

所述基板100由所述放卷装置110放出，经所述第一导向装置120调准方向，进入所述第一缓冲室20，由常压环境逐渐变为真空环境。再通过所述真空蒸镀室30镀膜，进入所述第二缓冲室40，由真空环境逐渐变为常压环境。最后，经第二导向装置140收纳于所述收卷装置130。由此，所述基板100连续完成镀膜。

所述放卷装置110设置于所述第一缓冲室20沿所述基板100传输方向的前端，所述放卷装置110转动以放出所述基板100。所述第一导向装置120设置于所述放卷装置110与所述第一缓冲室20之间。所述放卷装置110释放的所述基板100通过所述第一导向装置120进入所述第一缓冲室20。所述收卷装置130设置于所述第二缓冲室40沿所述基板100传输方向的后端。所述收卷装置130转动以收纳所述基板100，所述收卷装置130的转动方向与所述放卷装置110的转动方向相同。所述第二导向装置140设置于所述第二缓冲室40与所述收卷装置130之间。所述第二缓冲室40输出的所述基板100通过所述第二导向装置140收纳于所述收卷装置130。

在一个实施例中，所述镀膜装置10还包括冷却室90，设置于所述真空蒸镀室30与所述第二缓冲室40之间，用于冷却由所述真空蒸镀室30输出的所述基板100。所述冷却室90的入口处可以设置传动轮，用于支撑所述基板100.

所述冷却室90能够将处于高温状态的所述基板100冷却到100℃。所述基板100经所述真空蒸镀室30完成镀膜后，温度可达到350℃-450℃。如果所述基板100直接进入所述收卷装置130进行收纳，层层堆叠放置，只靠热传导作用，很难降温。所述基板100持续处于高温环境，表面膜层容易脱落。通过设立所述冷却室90能够将处于高温状态的所述基板100冷却到100℃，以保证所述基板100的平面度和膜层的稳定性。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本申请的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本申请的保护范围。因此，本申请专利的保护范围应以所附权利要求为准。