1.一种多弧离子镀的复合结构靶，其特征在于,包括靶材主体(1)和连接部分(2)，所述靶材主体(1)通过紧固件(3)与连接部分(2)固定连接。
2.根据权利要求1所述的一种多弧离子镀的复合结构靶，其特征在于，所述靶材主体(1)采用以确保蒸发出的原子或离子在工件表面成膜的材料，所述连接部分(2)可以采用与靶材主体相同材质的材料，且连接部分(2)也可以采用与靶材不同材质的材料，选择不同材质材料时应保证靶座与靶材主体之间的导热导电，所述紧固件(3)采用与靶材主体(1)相同材质的材料，且紧固件(3)也可以采用异质材料。
3.根据权利要求1所述的一种多弧离子镀的复合结构靶，其特征在于，靶材主体(1)为圆柱形，靶材主体(1)上端面加工有一沟槽，沟槽外侧为边缘凸起，沟槽内部为同轴锥台；锥台与边缘凸起之间的环形沟槽截面为v字型，v字形沟槽底可有一段平面区，v字形与靶边缘的侧壁与靶平面呈九十度垂直，v字形与锥台侧壁呈30-60度角，使得锥台到靶的边缘有一个坡度。
4.根据权利要求1所述的一种多弧离子镀的复合结构靶，其特征在于，所述靶材主体(1)底部设有多个第一安装闭孔，所述连接部分(2)上加工有与靶材主体(1)底部对应的第二安装通孔，所述连接部分(2)和靶材主体(1)相对的端面均经过机加工平整处理。
5.根据权利要求4所述的一种多弧离子镀的复合结构靶，其特征在于，所述紧固件(3)和第一安装通孔以及第二安装通孔均匹配。
6.一种多弧离子镀的复合结构靶的制造方法，其特征在于：
s1、将靶材主体(1)加工成圆柱形；
s2、在靶材主体(1)上端面加工出v型环状沟槽，沟槽外部为外圈，内部为具有坡度的锥台，沟槽深度为0.5到5毫米，锥体上端面与靶材主体1上端面同高，锥台侧面坡度为15-75度；
s3、靶材主体(1)下端面加工为光洁平面；
s4、在靶材主体(1)下端面加工出一圈均布的带内螺纹的第一安装闭孔，第一安装闭孔深度3到10毫米；
s5、根据靶材主体(1)加工出连接部分(2)，连接部分(2)上端面加工成光洁平面，连接部分(2)加工有与靶材主体(1)底部多个第一安装孔对应的第二安装通孔；
s6、采用紧固件(3)固定靶材主体(1)与连接部分(2)，紧固件3的数量和分布应确保靶材主体(1)在工作时的良好导电导热，并确保靶材主体(1)不发生变形；
s7、将经过装配的靶材产品置于真空、惰性气体不会引起化学反应的环境中保存。
7.根据权利要求6所述的多弧离子镀的复合结构靶的制造方法，其特征在于：所述的s2沟槽深度为3毫米。
8.根据权利要求6所述的多弧离子镀的复合结构靶的制造方法，其特征在于：所述的s2坡度选择为30到60度。
9.根据权利要求6所述的用于多弧离子镀的复合结构靶的制造方法，其特征在于：所述的步骤s4第一安装闭孔深度不大于5毫米。