专利名称：多弧型离子镀膜机的制作方法
技术领域：
本实用新型为多弧型离子镀膜机。属于真空等离子体表面沉积技术。
现有离子镀膜机多采用单筒式结构。镀膜室的筒壁上装有蒸发离化源，顶上装有上盖，上盖上装有传动装置和工件架。这种镀膜机筒壁上的蒸发离化源，只能实现单向镀膜，镀膜空间未能充分利用，产量较低，在人力、物力上是不经济的。
本实用新型的目的在于克服了上述不足，提供了一种新型的由内外两个同轴放置的圆柱状筒壁构成的环形镀膜空间，在内外筒体上同时装有离化源，因而能在正反两个表面上同时进行镀膜，显著提高了设备利用率。
本实用新型的上述目的由以下技术方案实现该多弧离子镀膜机包括镀膜室、镀膜室底座、转架传动装置、工件架、蒸发离化源及扩散泵机组。镀膜室为由内、外两个同轴的圆柱状筒壁构成的环形筒体结构，镀膜室主于镀膜室底架上，外筒壁与镀膜室底架焊接，内筒壁与镀膜室底架的联接可采用焊接或螺钉联接。镀膜室顶部有上盖，上盖上装有转架传动装置和工件架。镀膜室内筒壁和外筒壁上装有多个蒸发离化源，外筒壁与扩散泵机组相连。
本实用新型的特点是降低了成本，提高了生产效率，可直接镀制大型管状和环状工件的内外表面，结构简单巧妙。
本实用新型的具体结构由附
图1-3给出
图1为多弧型离子镀膜机筒体的局部剖视图图2为多弧型离子镀膜机外形图图3多弧型离子镀膜机俯视图图中主要结构是转架传动装置1、外筒壁蒸发离化源2、工件架3、镀膜室4、高阀5、气路组件6、节流阀7、扩菜泵8、维修孔9、镀膜室底架10、观察孔11、外筒壁12、内筒壁13、内筒壁蒸发离化源14、上盖15、加热器16。
以下结合附图对本实用新型加以详细说明。
这种多弧型离子镀膜机，包括镀膜室4、镀膜室底架10、转架传动装置1、工件架3、蒸发离化源、扩散泵8及气路组件6，镀膜室为由内外两个同轴的圆柱状筒壁构成的环形筒体结构，镀膜室立于镀膜室底架上，镀膜室的外筒壁与镀膜室底架焊接内筒壁与镀膜室底架焊接或螺钉联接。镀膜室的内筒壁13与外筒壁12上均装有数个内、外壁蒸发离化源14，2，镀膜室内装有加热器16，镀膜室顶部装有上盖15，上盖上装有转架传动装置和工件架，真空排气系统中的扩散泵8和机械泵与外筒壁联接。镀膜室的内、外筒壁上的离化源的数量随镀膜室4的尺寸增大而增多，真空排气系统与外筒壁13联接。镀膜室上开有观察孔11，上盖15上装有多速电机和减速箱，使转架具有多个转动速度，转架传动装置1和工件架3可与上盖15一起吊出镀膜室4之外，架设在炉外的装载支架上，同时将另一上盖架到镀膜室4上，以此实现连续作业，由于该镀膜室为环形筒体结构，因此工件架上所镀的工件可同时两面被镀，这种镀膜室的结构实现了对管状或环状工件的镀膜工艺，多弧型离子镀膜机带有控制柜，控制柜上装有总电源开关及机械泵与扩散泵、转架、加热器、轰偏电源和蒸发离化源电源按扭
权利要求1一种多弧型离子镀膜机，包括镀膜室、镀膜室底架、转架传动装置、工件架、蒸发离化源、扩散泵机组及气路组件，其特征在于镀膜室为由内外两个同轴的圆柱状筒壁构成的环形筒体结构，镀膜室立于镀膜室底架上，镀膜室的内筒壁与外筒壁上均装有数个蒸发离化源，镀膜室内装有加热器，镀膜室顶部设有上盖，上盖上装有转架传动装置和工件架，扩散泵机组与外筒壁联接。
2.如权利要求1所述的多弧型离子镀膜机，其特征在于镀膜室的外筒壁与镀膜室底架焊接，内筒壁与镀膜室底架焊接或螺钉联接。
专利摘要一种多弧型离子镀膜机，其镀膜室由内外两同轴放置的圆柱状筒壁构成的环形镀膜空间，在筒体内外壁上均装有蒸发离化源。镀膜室内装有加热器，镀膜室顶部装有带传动装置和工件架的上盖。这种镀膜机装机容量大，生产效率高，适用于镀制不锈钢板及其制品等，也适用于镀制大尺寸环状或筒状大型工件的表面。
文档编号C23C14/30GK2255434SQ9522867
公开日1997年6月4日 申请日期1995年12月22日 优先权日1995年12月22日
发明者王殿儒 申请人:北京长城钛金技术联合开发公司