一种抛光装置的制作方法

本实用新型涉及机械加工设备技术领域，尤其是涉及一种抛光装置。

背景技术：

抛光装置是用于工件表面处理的设备，传统的抛光装置垂直方向运动平衡一般使用链轮配上等重的重物来平衡，这种平衡方式制造复杂、安装体积大、噪音大、平衡反应速度慢、维修率高。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种抛光装置，获得更佳平衡效果，提升抛光加工效率及质量。

为达到上述目的，本实用新型采用如下技术方案：

一种抛光装置，具有机座，该机座上设有沿z轴方向凸起的支架，该支架上设有导轨，该导轨上组装可沿z轴方向上下的滑座，滑座上设有抛光组件，所述支架上还设有油压缸，该油压缸的活塞杆的外伸端连接滑座，油压缸协调滑座在z轴方向的上下运动；所述支架上还设有氮气平衡缸，该氮气平衡缸通过密封管吸收油压缸下降时挤出液压油，进入氮气平衡缸的液压油压缩了里面的氮气的体积，达到液压油和氮气平衡状态；氮气平衡缸安装位置高度与油压缸一致，且氮气平衡缸相对油压缸更远离滑座。

上述方案进一步是，所述油压缸沿z轴方向设置，油压缸的活塞杆的外伸端朝下伸出并通过连接块连接滑座，油压缸与滑座分置在导轨的相对侧。

上述方案进一步是，所述滑座是由电机配合丝杆螺母传动机构来驱动，实现滑座在导轨上沿z轴方向上下运动，电机竖立安装在支架上。

上述方案进一步是，所述机座是l形，在机座上还设有抛光承接台，该抛光承接台位于抛光组件的下方。

上述方案进一步是，所述抛光组件包括有翻转架、抛光动力模块及抛光头，翻转架按可转动的组装在滑座上并由翻转电机驱动翻转，翻转电机固定在滑座上；所述抛光动力模块组装在翻转架上并连接抛光头。

上述方案进一步是，所述翻转架是长条方管形式且垂直z轴布置，抛光动力模块组装在翻转架的内部，抛光头分布在翻转架的相应侧面上并沿翻转架的长度方向间隔设置。

上述方案进一步是，所述抛光头是磨盘。

本实用新型用油压缸和氮气平衡缸来取代原来的链轮和重物，工作时滑座带动活塞杆下降，挤出油压缸的液压油，挤出油压油通过密封管进入氮气平衡缸，并压缩了里面的氮气的体积；当滑座带动活塞杆上升，被压缩的氮气产生膨胀，推动液压油回到油压缸，氮气平衡缸是利用气体的可压缩性来达到储存液体的原理，平衡滑座及抛光组件之重量，以实现高速度、高精度加工，获得如下有益效果：

1、无需外动力设备，节省设备占用空间。

2、可吸收滑座快速升降产生的振动，减小噪音，改善系统平稳性。

3、由于滑座升降平滑过渡，大幅提升抛光过程中加工精度和表面光洁度，延长丝杠和电机的使用寿命。

4、安装简单，使用方便。

附图说明：

附图1为本实用新型的较佳实施例示意图；

附图2为图1实施例的剖视结构示意图。

具体实施方式：

以下将结合附图对本实用新型的构思、具体结构及产生的技术效果作进一步说明，以充分地了解本实用新型的目的、特征和效果。

需要说明的是，在本实用新型的描述中，术语“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方向或位置关系的术语是基于附图所示的方向或位置关系，这仅仅是为了便于描述，而不是指示或暗示所述装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

参阅图1、2所示，是本实用新型提出的一种抛光装置，具有机座1，该机座1上设有沿z轴方向凸起的支架11，该支架11上设有导轨12，该导轨12上组装可沿z轴方向上下的滑座13，滑座13上设有抛光组件2。所述支架11上还设有油压缸3，该油压缸3的活塞杆31的外伸端连接滑座13，油压缸3协调滑座13在z轴方向的上下运动，以使抛光组件2达到高速度、高精度加工。本实施例进一步是，所述油压缸3沿z轴方向设置，油压缸3的活塞杆31的外伸端朝下伸出并通过连接块7连接滑座13，油压缸3与滑座13分置在导轨12的相对侧。连接块7在远离抛光组件2的一侧连接油压缸3和滑座13，该结构简单，方便组装及维护，且有效保证油压缸3的活塞杆31伸缩与滑座13上下运动协调性。所述支架11上还设有氮气平衡缸4，该氮气平衡缸4通过密封管吸收油压缸3下降时挤出液压油，进入氮气平衡缸4的液压油压缩了里面的氮气的体积，达到液压油和氮气平衡状态；氮气平衡缸4安装位置高度与油压缸3一致，且氮气平衡缸4相对油压缸3更远离滑座13。该结构保证平衡工作，且改善支架11的重心，保证滑座13在导轨12上运动平稳、准确。本实施例的滑座13是由电机5配合丝杆螺母传动机构来驱动，实现滑座13在导轨12上沿z轴方向上下运动，电机5竖立安装在支架11上。通过油压缸3和氮气平衡缸4的蓄能协调平衡，减少抛光高速运动中的微振动现象，有助于大幅提升抛光过程中加工精度和表面光洁度，延长丝杠和电机的使用寿命。

参阅图1、2所示，本实施例进一步是，所述机座1是l形，在机座1的横折部分上设有抛光承接台6，该抛光承接台6位于抛光组件2的下方。抛光承接台6配合相应治具固定待加工件，还可进一步设计抛光承接台6做x、y、z移动及θ方向转动等，以此配合抛光组件2进行抛光加工。本实施例中，为了获得连续性、多模式抛光加工，所述抛光组件2包括有翻转架21、抛光动力模块22及抛光头23，翻转架21按可转动的组装在滑座13上并由翻转电机24驱动翻转，翻转电机24固定在滑座13上；所述抛光动力模块22组装在翻转架21上并连接抛光头23。进一步优选地，所述翻转架21是长条方管形式且垂直z轴布置，抛光动力模块22组装在翻转架21的内部，结构紧凑，体积小；抛光头23分布在翻转架21的相应侧面上并沿翻转架21的长度方向间隔设置，获得一次多个加工，提升加工效率及速度。本实施例中，优选抛光头23是磨盘，实现平面抛光。本实施例的抛光动力模块22可以是双头电机或电机配合齿轮传动，由此在翻转架21的外周每个侧面上均可布置抛光头23，实现翻转架21翻转换刀形式，不用拆换抛光头，获得不同精度的连续性加工，提升工作效率。

本实用新型用油压缸和氮气平衡缸来取代原来的链轮和重物，氮气平衡缸是利用气体的可压缩性来达到储存液体的原理，配合滑座上下升降，平衡滑座及抛光组件之重量，以实现高速度、高精度加工，获得如下有益效果：

1、无需外动力设备，节省占用空间。

2、可吸收快速升降产生的振动，减小噪音，改善系统平稳性。

3、由于升降平滑过渡，减少抛光高速运动中的微振动现象，大幅提升抛光过程中加工精度和表面光洁度，延长丝杠和电机的使用寿命。

4、安装简单，使用方便。

以上虽然结合附图描述了本实用新型的较佳具体实施例，但本实用新型不应被限制于与以上的描述和附图完全相同的结构和操作，对本技术领域的技术人员来说，在不超出本实用新型构思和范围的情况下通过逻辑分析、推理或者有限的实验还可对上述实施例作出许多等效改进和变化，但这些改进和变化都应属于本实用新型要求保护的范围。

技术特征：

1.一种抛光装置，具有机座（1），该机座（1）上设有沿z轴方向凸起的支架（11），该支架（11）上设有导轨（12），该导轨（12）上组装可沿z轴方向上下的滑座（13），滑座（13）上设有抛光组件（2），其特征在于：所述支架（11）上还设有油压缸（3），该油压缸（3）的活塞杆（31）的外伸端连接滑座（13），油压缸（3）协调滑座（13）在z轴方向的上下运动；所述支架（11）上还设有氮气平衡缸（4），该氮气平衡缸（4）通过密封管吸收油压缸（3）下降时挤出液压油，进入氮气平衡缸（4）的液压油压缩了里面的氮气的体积，达到液压油和氮气平衡状态；氮气平衡缸（4）安装位置高度与油压缸（3）一致，且氮气平衡缸（4）相对油压缸（3）更远离滑座（13）。

2.根据权利要求1所述的一种抛光装置，其特征在于：所述油压缸（3）沿z轴方向设置，油压缸（3）的活塞杆（31）的外伸端朝下伸出并通过连接块（7）连接滑座（13），油压缸（3）与滑座（13）分置在导轨（12）的相对侧。

3.根据权利要求1或2所述的一种抛光装置，其特征在于：所述滑座（13）是由电机（5）配合丝杆螺母传动机构来驱动，实现滑座（13）在导轨（12）上沿z轴方向上下运动，电机（5）竖立安装在支架（11）上。

4.根据权利要求1所述的一种抛光装置，其特征在于：所述机座（1）是l形，在机座（1）上还设有抛光承接台（6），该抛光承接台（6）位于抛光组件（2）的下方。

5.根据权利要求1或4所述的一种抛光装置，其特征在于：所述抛光组件（2）包括有翻转架（21）、抛光动力模块（22）及抛光头（23），翻转架（21）按可转动的组装在滑座（13）上并由翻转电机（24）驱动翻转，翻转电机（24）固定在滑座（13）上；所述抛光动力模块（22）组装在翻转架（21）上并连接抛光头（23）。

6.根据权利要求5所述的一种抛光装置，其特征在于：所述翻转架（21）是长条方管形式且垂直z轴布置，抛光动力模块（22）组装在翻转架（21）的内部，抛光头（23）分布在翻转架（21）的相应侧面上并沿翻转架（21）的长度方向间隔设置。

7.根据权利要求6所述的一种抛光装置，其特征在于：所述抛光头（23）是磨盘。

技术总结
本实用新型涉及一种抛光装置，具有机座，该机座上设有沿Z轴方向凸起的支架，该支架上设有导轨，该导轨上组装可沿Z轴方向上下的滑座，滑座上设有抛光组件，所述支架上还设有油压缸，该油压缸的活塞杆的外伸端连接滑座，油压缸协调滑座在Z轴方向的上下运动。本实用新型用油压缸和氮气平衡缸来取代原来的链轮和重物，平衡滑座及抛光组件之重量，无需外动力设备，节省设备占用空间，可吸收滑座快速升降产生的振动，减小噪音，改善系统平稳性。由于滑座升降平滑过渡，大幅提升抛光过程中加工精度和表面光洁度，延长丝杠和电机的使用寿命。安装简单，使用方便。

技术研发人员：余燕青;杜志航
受保护的技术使用者：东莞市友辉光电科技有限公司
技术研发日：2020.08.17
技术公布日：2021.04.09