子撞击靶材表面，电浆中的阳离子会加速冲向作为被溅镀材的负电极表面，这个冲击将使靶材的物质飞出而沉积在基板上形成薄膜。
[0015]作为上述实施例的优选实施方式，还包括喷底漆，所述喷底漆设置在所述步骤S4真空溅镀的前一道工序，所述喷底漆为在喷漆房内对素材的表面进行喷底漆处理，由于素材是塑料件，在注塑时会残留空气泡，有机气体，而在放置时会吸入空气中的水分，另外，由于塑料表面不够平整，直接溅镀的工件表面不光滑，光泽低，金属感差，并且会出现气泡，水泡等不良状况；喷上一层底漆以后，会形成一个光滑平整的表面，并且杜绝了塑料本身存在的气泡水泡的产生，使得溅镀的效果得以展现；此后为增加产品要求的美观感，适当植入印刷或镭雕，使加工出来的产品更加广泛的运用到当今市场，迎合社会需求。
[0016]作为上述实施例的优选实施方式，还包括喷底漆和喷面漆时废气的排放:在所述喷底漆和喷面漆时设立独立排放空间，通过活性炭过滤棉经过2?4次过滤，再经15?22cm厚度活性炭层排出。
[0017]本发明实施例提供的一种真空不连续溅镀方法，该工艺在实际作业过程中，需要注意:
[0018]1、好的作业环境:环境是影响真空镀膜的首要条件，其包括作业区的湿温度控制，空气中微粒子的含量；甚至真空中气体的成分；若无法有效管制将可能造成膜质的严重缺陷；當然溅镀设备的材质也是不可忽略的考量重点；
[0019]2、真空泵种类极多，各有其使用功能，也没有好坏之分，端视薄膜功能与抽气量而异；一般而言光电产品不可使用含油气之泵，且系统中亦需搭配各种不同真空度使用的栗;
[0020]3、入射气体:入射气体的纯度与大小均会影响着溅镀的效率；太将无法将靶材击出，太大则可能产生较大的原子团被击出，必须妥善管理；气体的反应性、价格亦需加以考虑；至于入射气体的流量更于镀膜效率及膜质有着极大关联；
[0021]4、操作真空度:真空度越高则膜质越纯，但其电浆浓度亦可能相对下降；因此如何取得平衡点将是每部设备重要参数；
[0022]5、操作电压:通入的电压是影响镀膜速度的最大因素；当电压小于临界值(阈)时，溅镀不发生，当电压高于上限临界值時，效率几乎不变；介于期间则效率与电压成正比；但电压高则腔温踢温度亦升高；
[0023]6、操作速度:每种材料皆有其特殊的溢漆量与吸水性，且塑壳外观设计亦有所不同，加上射出成型厂制程条件也有变异；因此抽气时间与镀膜趟数亦应有所变化；当材料溢气量高时必须有较长抽气时间，否则易形成氧化物；
[0024]7、前处理:一般而言，溅镀的操作真空度最少需0.005torr以上，当基材上含有一滴水滴则镀膜纯度将起极大变化；或当基材上留有油渍时，则镀膜将出现明显斑点，甚至附著不良；所以彻底的干与净是溅镀实物上必先解決的条件；
[0025]8、革E材的选择:派镀前一定需考虑薄膜功能，如此才能決定革E材原料，同为反射膜，可因要求之頻段与反射率不同，而有不同靶材的选择；一般而言溅镀金属材料只要注意其纯度即可，但若为光学级薄膜则必须考虑采化合物靶材或纯元素靶材，并配合电源供应器、入射气体及溅镀机种类；
[0026]9、腔体打开的时机:溅镀效率会随镀膜开机时间增长而越趋升高，因此非必要不得任意打开腔体，一般而言当靶材接近耗尽时或大保养时方得打开。
[0027]最后应说明的是:以上所述的各实施例仅用于说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或全部技术特征进行等同替换；而这些修改或替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。
【主权项】
1.一种真空不连续溅镀方法，其特征在于，包括以下步骤: 51、装配前处理:将素材表面杂质以及灰尘用布擦拭干净； 52、装配:将素材装配于专用治具上，用以固定于流水线上，并按设计需求实现外观和功能性的遮镀； 53、上线前处理:将挂件置于流水线上，自动进入喷漆房； 54、真空溅镀:将挂件装配于真空容器内，容器中间装配有适当的靶材电极，实现基材溅镀，真空溅镀的时间为10?20分钟； 55、喷面漆:喷面漆作用是为增强溅镀表面性能，增加附著力和耐磨性，同时面漆可以用宇调节表面颜色，得到想要的效果。
2.根据权利要求1所述的一种真空不连续溅镀方法，其特征在于:还包括喷底漆，所述喷底漆设置在所述步骤S4真空溅镀的前一道工序，所述喷底漆为在喷漆房内对素材的表面进行喷底漆处理。
3.根据权利要求1或2任一所述的一种真空不连续溅镀方法，其特征在于:还包括喷底漆和喷面漆时废气的排放:在所述喷底漆和喷面漆时设立独立排放空间，通过活性炭过滤棉经过2?4次过滤，再经15?22cm厚度活性炭层排出。
【专利摘要】本发明涉及一种真空不连续溅镀方法，包括以下步骤：S1、装配前处理：将素材表面杂质以及灰尘用布擦拭干净；S2、装配：将素材装配于专用治具上，用以固定于流水线上，并按设计需求实现外观和功能性的遮镀；S3、上线前处理：将挂件置于流水线上，自动进入喷漆房；S4、真空溅镀：将挂件装配于真空容器内，容器中间装配有适当的靶材电极，实现基材溅镀；S5、喷面漆。本发明的有益效果在于，本发明提供一种成本低、高亮度、金属质感佳且节能环保的真空不连续溅镀方法。
【IPC分类】C23C14-35
【公开号】CN104593741
【申请号】CN201410841071
【发明人】徐耀
【申请人】上海释欣实业有限公司
【公开日】2015年5月6日
【申请日】2014年12月31日