磨削研磨石、磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及在搭载于硬盘驱动器（下文中简称"HDD"）等磁记录装置中的磁盘 用的玻璃基板制造中用于端面磨削的磨削研磨石、利用该磨削研磨石进行基板的端面磨削 的磁盘用玻璃基板的制造方法、以及利用了由该制造方法得到的玻璃基板的磁盘的制造方 法。
【背景技术】
[0002] 当前，对于信息记录技术、特别是磁记录技术来说，随着IT产业的迅速发展，要求 进行飞跃性的技术革新。在作为搭载于HDD等磁记录装置中的记录介质的磁盘中，由于高 容量化的要求，需要每一枚磁盘能够实现750GB以上的信息记录密度的技术。
[0003] 然而，作为磁盘等信息记录介质用基板，以往广泛使用了铝系合金基板，最近，作 为适合于高记录密度化的磁盘用基板，玻璃基板所占的比例升高。玻璃基板与铝系合金基 板相比刚性更高，因而适合于磁盘装置的高速旋转化，而且可得到平滑的表面，因此容易降 低磁头的悬浮量，能够提高记录信号的S/N比，因而是合适的。
[0004] 另外，为了实现磁盘的高记录密度化，对玻璃基板还要求具有高度的加工精度，这 不仅针对玻璃基板的主表面，对端面形状也是同样的。
[0005] 磁盘用玻璃基板通常是通过对成型为圆盘状的玻璃坯板依次实施端面的磨削?研 磨、主表面的磨削?研磨、化学强化等工序而制造的。
[0006] 作为现有的玻璃基板的端面的加工方法，一边对成型为圆盘状的玻璃坯板（玻璃 基板）的端面部分供给磨削液，一边使磨削研磨石在玻璃基板的外周侧端面和内周侧端面 接触旋转而进行磨削加工，对玻璃基板的外周侧端面和内周侧端面实施规定的倒角加工 (专利文献1等）。该情况下，研磨石通常也称为成型研磨石（総形砥石），其具有用于形成 玻璃基板的端面形状的槽形，通过使该研磨石与玻璃基板的端面接触而进行加工，从而将 研磨石的槽形形状转印至玻璃基板的端面。另外，在该倒角加工后，为了将玻璃基板的端面 加工成镜面，进行了刷光研磨。
[0007] 现有技术文献
[0008] 专利文献
[0009] 专利文献1 :日本特开2000-185927号公报
[0010] 专利文献2 :日本特开2006-294099号公报
【发明内容】
[0011] 发明要解决的课题
[0012] 随着信息化社会的发展，对磁盘的高记录密度化的要求也将提高。在磁盘用的玻 璃基板的端面形状方面，也要求表面品质（平滑化等）的进一步提高和加工精度（形状精 度等）的进一步提尚。
[0013] 其原因是要求实现例如内外径尺寸精度的高精度化、外径端面的高品质化，该内 外径尺寸精度的高精度化用于得到搭载于HDD中时的磁头的定位精度，该外径端面的高品 质化基于降低对介质主表面发生腐蚀等污染原因的要求。
[0014] 以往，在基板端面的磨削加工中，首先进行倒角加工等用于形成端面形状的粗磨 削加工，接着进行除了用于确保端面形状和尺寸精度外还用于确保表面的粗糙度品质的精 密磨削加工（抛光磨削加工）。在上述粗磨削加工中多使用硬度硬的电沉积结合剂研磨石 等。
[0015] 另一方面，在上述精密磨削加工中，为了确保基板端面的抛光面品质，多使用硬度 比粗磨削加工用的磨削研磨石软的树脂结合剂研磨石，但实际的磨削研磨石在量产加工中 使用时，磨削性能会产生偏差，由此导致各种问题的发生，无法稳定地得到所期望的品质。
[0016] 关于磨削研磨石的硬度，以往已知利用大越式试验机的硬度试验、利用洛式硬度 计的硬度评价等方法。但是，根据本发明人的研究可知，在利用这些方法评价的磨削研磨石 的硬度与利用该磨削研磨石实际进行基板端面磨削时的磨削性能（磨削速度、磨削面粗糙 度、形状尺寸精度等）之间未确认到明确的相关关系，结果，若不实际进行使用的尝试则无 法判断磨削研磨石的好坏。
[0017] 需要说明的是，在上述专利文献2中记载了下述内容：通过采用在金刚石研磨粒 中使用氨基甲酸酯树脂或脲树脂等作为粘合剂（粘结剂）的树脂结合剂研磨石，将加工面 的粗糙度Ra抛光成100nm以下，但仅示出了研磨石成分的构成材料，并未公开具体的研磨 石规格、特别是影响磨削性能的研磨石的硬度指标。即便研磨石的构成材料相同，若硬度不 同，则磨削速度、加工面的品质也会产生差异，在量产加工中难以得到稳定的品质。
[0018] 如上所述，从高记录密度化等方面出发，玻璃基板的端面的尺寸形状精度或倒角 加工的精加工面品质等对于磁盘用玻璃基板的品质要求比以往更高，没有能够准确地评价 研磨石性能的指标，若不实际进行使用的尝试看看则无法判断研磨石的性能，在这种状况 下，难以稳定地应对今后更高的玻璃基板的品质要求。
[0019] 于是，从应对当务之急是确保可靠性的磁盘高记录密度化的要求的方面考虑，本 发明的第1目的是提供一种磨削研磨石，其能够高效且高品质地抛光磁盘用玻璃基板的端 面，在量产加工中也可得到稳定的品质。另外，第2目的是提供一种磁盘用玻璃基板的制造 方法，该方法可以使用该磨削研磨石进行在量产加工中品质也稳定的端面磨削加工。此外， 第3目的是提供一种磁盘的制造方法，其利用由这样的制造方法得到的玻璃基板。
[0020] 用于解决课题的方案
[0021] 为了解决上述课题，本发明人进行了深入研究，结果完成了本发明。
[0022] S卩，为了解决上述课题，本发明具有以下的构成。
[0023] (构成 1)
[0024] -种磨削研磨石，其为用于对中心具有圆孔的圆盘状的玻璃基板的端面进行精密 磨削的磨削研磨石，其特征在于，上述磨削研磨石包含研磨粒和将该研磨粒彼此结合的粘 结剂，利用玻氏压头以250mN的压入负荷的条件通过纳米压痕试验法对上述磨削研磨石表 面的粘结剂部分测得的硬度为〇. 4GPa~1. 7GPa的范围内。
[0025] (构成 2)
[0026] 如构成1所述的磨削研磨石，其特征在于，上述研磨粒的平均粒径为2ym~15ym 的范围内。
[0027] (构成 3)
[0028] 如构成1或2所述的磨削研磨石，其特征在于，上述磨削研磨石是在下述情况下使 用的旋转研磨石：在使研磨石的旋转轴相对于与上述玻璃基板的主表面正交的轴倾斜的状 态下，使该研磨石与上述玻璃基板的端面抵接，对该玻璃基板的端面进行磨削处理。
[0029] 此处，上述"倾斜"是指，按照玻璃基板的侧壁面和两个倒角面的所有面同时与设 置于磨削研磨石的表面的槽接触的方式进行倾斜。
[0030] (构成 4)
[0031] -种磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，包括使用构成1~3中任一项所述 的磨削研磨石进行上述玻璃基板的端面的磨削处理的工序。
[0032] (构成 5)
[0033] -种磁盘用玻璃基板的制造方法，其为包括下述磨削处理的磁盘用玻璃基板的制 造方法，该磨削处理为使用磨削研磨石对中心具有圆孔的圆盘状的玻璃基板的端面进行精 密磨削，其特征在于，上述磨削研磨石包含研磨粒和将该研磨粒彼此结合的粘结剂，预先求 出利用玻氏压头以250mN的压入负荷的条件通过纳米压痕试验法对上述磨削研磨石表面 的粘结剂部分测得的硬度、与利用该磨削研磨石在某种条件下对玻璃基板端面进行磨削处 理时的磨削速度的相关关系，基于所求出的相关关系来选择具有达到所期望的磨削速度的 硬度的磨削研磨石，使用该选择的磨削研磨石进行上述磨削处理。
[0034] (构成 6)
[0035] 如构成5所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，上述磨削研磨石的上 述粘结剂由树脂材料构成，通过上述纳米压痕试验法测得的硬度为〇. 4GPa~1. 7GPa的范 围内。
[0036] (构成 7)
[0037] 如构成5或6所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，使用上述所选择的 磨削研磨石，在使该磨削研磨石的旋转轴相对于与上述玻璃基板的主表面正交的轴倾斜的 状态下，使该磨削研磨石与上述玻璃基板的端面抵接，对该玻璃基板的端面进行磨削处理。
[0038] (构成 8)
[0039] 如构成4~7中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，按照上述 玻璃基板的端面的表面粗糙度Ra达到0. 1ym以下的方式进行磨削处理。
[0040] (构成 9)
[0041] -种磁盘的制造方法，其特征在于，在通过构成4~8中任一项所述的磁盘用玻璃 基板的制造方法所制造的磁盘用玻璃基板的主表面上至少形成磁性层。
[0042] 发明的效果
[0043] 若利用本发明的磨削研磨石，能够高效且高品质地抛光磁盘用玻璃基板的端面， 即使在量产加工中也可得到稳定的品质。因此，能够应对当务之急是确保可靠性的磁盘高 记录密度化的要求。
[0044] 另外，根据本发明的磁盘用玻璃基板的制造方法，可以使用该磨削研磨石进行在 量产加工中品质也稳定的端面磨削加工，因而，其结果能够高品质地抛光磁盘用玻璃基板 的端面。
[0045] 此外，根据使用通过该磁盘用玻璃基板的制造方法所制造的磁盘用玻璃基板的磁 盘的制造方法，能够高品质地抛光基板的端面，能够防止基板端面的表面状态或加工精度 引起的障碍的发生，能够提供可实现更高的记录密度的可靠性高的