一种hdi印制线路板蚀刻系统处理液循环再生装置的制造方法

文档序号:10241624阅读:442来源:国知局
一种hdi印制线路板蚀刻系统处理液循环再生装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及HDI印制线路板制造,具体涉及一种HDI印制线路板蚀刻处理液循环再生装置。
【背景技术】
[0002]HDI板(High Density Interconnect)即高密度互连板,是PCB行业在20世纪末发展起来的一门较新的技术。随着智能手机、平板电脑等消费类电子产品不断向轻便化、小型化的趋势发展,推动PCB不断向更高、更密集化布局方向发展。印制电路板蚀刻废液是印制电路蚀刻过程中产生的一种铜离子含量较高、排放量较大的工业废水,其中所含的铜离子经分离纯化处理,具有较高的经济价值。虽然目前蚀刻废液仍然进行储存、转移和回收利用。但是近年来,随着金属铜的价格的提高和蚀刻工艺的改善,人们对废液中铜离子的再利用的想法也越来越迫切。特别是目前社会正处于倡导清洁生产、从源头上实施节能减排的背景下,因此针对HDI板蚀刻废液进行现场再生(On Site Regenerat1n)或离线再生(OffLine Regenerat1n)将成为大势所趋。
[0003]印刷电路板制造中采用的蚀刻液主要包括FeCl3溶液、H 202_H2S04溶液以及氨性CuCl2溶液等处理液体系;相比之下,H 202-H2S04处理液具有蚀刻速度稳定、蚀刻均匀、污染少等优点,应用十分广泛。H202-H2S04蚀刻液使用一定时间后效果退化,对其进行循环再生是行业中长期存在的技术难题,传统的h2o2-h2so4蚀刻液再生工艺及装置存在的缺陷主要是:碱消耗量大,处理成本高,操作复杂,且伴生较高浓度硫酸钠废液的问题,构成二次污染物。
【实用新型内容】
[0004]为了克服传统的蚀刻处理液循环再生装置中存在的上述缺陷,本实用新型提出一种HDI印制线路板蚀刻处理液循环再生的新型装置,该装置能够有效解决传统工艺及装置中存在的碱消耗量大,处理成本高,操作复杂,且伴生较高浓度硫酸钠废液的缺陷,使废蚀刻液中硫酸、铜离子的双脱除和双利用的目的。
[0005]本实用新型为解决上述技术问题所采用的技术方案是:一种HDI印制线路板蚀刻处理液循环再生装置,其包括待处理蚀刻液池、扩散渗析器、混合萃取澄清池、栗、管道、阀门;所述待处理蚀刻液池与扩散渗析器之间通过栗、管道、阀门相连,所述扩散渗析器可以采取2套或3套,所述混合萃取澄清池由混合室和澄清室组成。
[0006]采用上述结构后,本实用新型的优点在于:
[0007](1)蚀刻处理液中的硫酸、铜离子同时得到有效脱除和回收利用,有效控制了废酸、铜离子所带来的环境污染,变废为宝;
[0008](2)蚀刻液处理操作简便,稳定可靠,设备维护;
[0009](3)提高了 HDI板蚀刻处理的生产效率,有利于降低终端产品的生产成本。
【附图说明】
[0010]图1所示的是本实用新型的结构示意图;
[0011]其中,1、待处理蚀刻液池;2、扩散渗析器;3、萃取液贮池;4、混合萃取澄清槽;5、混合室;6、澄清室;7、栗;8、阀;9、流量计;10、去离子水;11、稀酸液;12、有机相;13、水相(萃余液);14、混合相溢流管。
【具体实施方式】
[0012]如图1所示一种HDI印制线路板蚀刻处理液循环再生装置,其包括待处理蚀刻液池1、扩散渗析器2、混合萃取澄清槽4、栗、管道、阀门;待处理蚀刻液池与扩散渗析器之间通过栗、管道、阀门相连,扩散渗析器处理后的料液通过管道与混合萃取澄清池相连,进入铜离子溶剂萃取处理。混合萃取澄清槽由混合室和澄清室组成。
[0013]本实用新型的【具体实施方式】是:待处理蚀刻液中较高浓度的硫酸通过扩散渗析器处理,脱除其中所含的硫酸。扩散渗析器采取2套联用。经过脱酸处理后的料液通过管道进入混合萃取澄清槽,萃取剂通过管道与混合室相连,通过搅拌机构的充分混合,将处理液中的铜离子有效地转入有机相,残余水相中铜离子的浓度降到很低的水平;混合室中处理后的料液通过混合相溢流管进入澄清室,进行分相,有机相通过反萃取处理,获得铜离子浓度较高的溶液,供铜资源回收利用;水相通过管道汇总至处理后总液池。扩散渗析器中所得的稀酸液也通过管道汇总至处理后总液池,供配制新蚀刻液循环使用。
【主权项】
1.一种HDI印制线路板蚀刻处理液循环再生装置,其包括待处理蚀刻液池、扩散渗析器、混合萃取澄清池、栗、管道、阀门;其特征在于,所述待处理蚀刻液池与扩散渗析器之间通过栗、管道、阀门相连,所述混合萃取澄清池有混合室和澄清室组成,并且所述扩散渗析器可以采取2套或3套。
【专利摘要】本实用新型公开了一种HDI印制线路板蚀刻系统处理液循环再生装置,其包括待处理蚀刻液池、扩散渗析器、混合澄清池、泵、管道、阀门;所述待处理蚀刻液池与扩散渗析器之间通过泵、管道、阀门相连,所述扩散渗析器可以采取2套或3套;本实用新型可使蚀刻处理液中的硫酸、铜离子同时得到有效脱除和回收利用,有效控制了废酸、铜离子所带来的环境污染,变废为宝;可使蚀刻液处理操作简便,稳定可靠,设备维护;并且提高了HDI板蚀刻处理的生产效率,有利于降低终端产品的生产成本。
【IPC分类】C23F1/46
【公开号】CN205152338
【申请号】CN201420650451
【发明人】詹有根, 零上锐, 徐军洪
【申请人】临安振有电子有限公司
【公开日】2016年4月13日
【申请日】2014年11月3日
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