1.一种新型阳光控制镀膜玻璃的制备工艺，其特征在于：在浮法玻璃生产线的锡槽窄段的前部通入硅烷、乙烯和二氧化碳三种工艺气体，利用玻璃基板本身的热量产生化学气相反应，在玻璃基板表面上沉积生成含硅、碳、氧三种元素的膜层，其中硅烷在混合工艺气体中的含量为1％～15％，乙烯在混合工艺气体中的含量为5％～50％，二氧化碳在混合工艺气体中的含量为10％～60％。
2.根据权利要求1所述的新型阳光控制镀膜玻璃的制备工艺，其特征在于：发生化学气象反应时玻璃基板表面本身的温度为650-700℃。
3.根据权利要求1所述的新型阳光控制镀膜玻璃的制备工艺，其特征在于：所述玻璃基板为除含铜元素的蓝色玻璃以外的平板玻璃。
4.1-3任一权利要求所述的制备工艺得到的新型阳光控制镀膜玻璃。
5.根据权利要求4所述的新型阳光控制镀膜玻璃，其特征在于：所述膜层硅碳摩尔比为2∶1～5∶1，硅氧摩尔比为3∶1～10∶1。
6.根据权利要求4所述的新型阳光控制镀膜玻璃的制备工艺，其特征在于：所述膜层厚度为60～100nm。
7.根据权利要求4所述的新型阳光控制镀膜玻璃的制备工艺，其特征在于：所述膜层的折射率为1.6～2.7。
8.根据权利要求4所述的新型阳光控制镀膜玻璃的制备工艺，其特征在于：所述镀膜玻璃的可见光透过率为40～70％，可见光反射率为20～40％。