1.一种可钢化高透低辐射镀膜玻璃，其特征在于，该玻璃包括玻璃基底和沉积于所述玻璃基底表面的镀膜层，所述镀膜层包括从内向外依次层叠的第一介质层、第一生长层、第一保护层、银层、第二保护层、第二生长层和第二介质层，其中，所述第一生长层和第二生长层均为第三主族金属与H共掺的ZnO膜层，所述第三主族金属为Al、Ga或In。
2.根据权利要求1所述的可钢化高透低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一介质层和第二介质层均为Si3N4层，所述第一介质层和第二介质层的厚度均为25～60nm。
3.根据权利要求1所述的可钢化高透低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一生长层和第二生长层的厚度均为5～40nm。
4.根据权利要求3所述的可钢化高透低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一生长层和/或第二生长层为2wt%掺杂的AZO膜层、5wt%掺杂的GZO膜层或10wt%掺杂的IZO膜层。
5.根据权利要求3或4所述的可钢化高透低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一生长层和/或第二生长层由溅射形成，其中，溅射的靶材为掺杂第三主族金属的ZnO，溅射在氩气和氢气的混合气体气氛中进行，所述第三主族金属为Al、Ga或In。
6.根据权利要求1所述的可钢化高透低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一保护层和第二保护层均为NiCr层，所述第一保护层和第二保护层的厚度均为0.5～2nm。
7.根据权利要求1所述的可钢化高透低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述银层的厚度为8～20nm。
8.一种制造如权利要求1所述的可钢化高透低辐射镀膜玻璃的方法，其特征在于，包括如下步骤：
（1）提供玻璃基底；
（2）在玻璃基底上沉积第一介质层；
（3）在第一介质层上沉积第一生长层；
（4）在第一生长层上沉积第一保护层；
（5）在第一保护层上沉积银层；
（6）在银层上沉积第二保护层；
（7）在第二保护层上沉积第二生长层；
（8）在第二生长层上沉积第二介质层；
其中，步骤（3）和步骤（7）中的第一生长层和第二生长层由溅射形成，其中，溅射的靶材为掺杂第三主族金属的ZnO，溅射在氩气和氢气的混合气体气氛中进行，所述第三主族金属为Al、Ga或In。
9.根据权利要求8所述的可钢化高透低辐射镀膜玻璃的制造方法，其特征在于，所述氩气和氢气的混合气体中氢气的流量占比为1～12%。