1.一种玫瑰金色三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述玻璃包括玻璃基板、以及自所述玻璃基板一表面向外依次叠设的第一电介质膜层、第二电介质膜层、第一银膜层、第一铜膜层、第一保护膜层、第一复合电介质膜层、第二银膜层、第二铜膜层、第二保护膜层、第二复合电介质膜层、第三银膜层、第三保护膜层、第三电介质膜层和第四电介质膜层。
2.如权利要求1所述的玫瑰金色三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一电介质膜层和/或第四电介质膜层为Si3N4膜层、SiOxNy膜层、SiAlNx膜层、SiAlOxNy膜层中的任一种。
3.如权利要求1所述的玫瑰金色三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第二电介质膜层和/或第三电介质膜层为氧化铟锡层、铝掺杂氧化锌膜层中的任一种。
4.如权利要求1所述的玫瑰金色三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一复合电介质膜层和/或第二复合电介质膜层为SiAlOx膜层、ZnAlOx膜层、ZnSnxOy膜层、ZnOx膜层、SnOx膜层、TiO2膜层中的至少两个单层叠加构成。
5.如权利要求1所述的玫瑰金色三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一保护膜层和/或第二保护膜层和/或第三保护膜层为氧化镍膜层、氮化镍膜层、镍铬氧化物膜层或镍铬氮化物膜层中的任一种。
6.如权利要求1所述的玫瑰金色三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一银膜层和/或第二银膜层和/或第三银膜层的厚度为1～15nm。
7.如权利要求1所述的玫瑰金色三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一铜膜层和/或第二铜膜层的厚度为1～10nm。
8.如权利要求1所述的玫瑰金色三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一电介质膜层的厚度为10nm～50nm；和/或
所述第二电介质膜层的厚度为10nm～30nm；和/或
所述第一保护膜层的厚度为1～10nm；和/或
所述第一复合电介质膜层的厚度为20nm～60nm；和/或
所述第二保护膜层的厚度为1nm～10nm；和/或
所述第二复合电介质膜层的厚度为20nm～60nm；和/或
所述第三保护膜层的厚度为1nm～10nm；和/或
所述第三电介质膜层的厚度为10nm～30nm；和/或
所述第四电介质膜层的厚度为10nm～50nm。
9.如权利要求1所述的玫瑰金色三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述玻璃基板为普通钠钙硅浮法玻璃，所述玻璃基板的厚度为6～20mm。