一种高透低辐射自清洁镀膜玻璃的制作方法

文档序号:10946762阅读:323来源:国知局
一种高透低辐射自清洁镀膜玻璃的制作方法
【专利摘要】一种高透低辐射自清洁镀膜玻璃,包括玻璃基板,在玻璃基板上依次溅射沉淀第一SiAl基膜层、第一AZO膜层、第一NiCr阻挡层、Ag层、第二NiCr阻挡层、第二AZO膜层、第二SiAl膜层、稀土TiO2复合膜层;所述玻璃基板为超白浮法玻璃基板;所述第一SiAl层的厚度为50?100nm,所述第一AZO膜层的厚度为10?30nm,所述第一NiCr阻挡层的厚度为3?10nm,所述Ag层的厚度为3?9nm,所述第二NiCr阻挡层的厚度为3?10nm、所述第二AZO膜层的厚度为10?30nm、所述第二SiAl膜层的厚度为厚度为50?100nm,所述稀土TiO2复合膜层的厚度为15?200nm。本实用新型的积极效果是:本装置解决了普通自清洁玻璃的透过率低、反射率高以及增透自清洁玻璃红外透过率高,不够节能环保的问题。
【专利说明】
一种高透低辐射自清洁镀膜玻璃
技术领域
[0001 ]本实用新型涉及玻璃镀膜技术领域,特别是一种高透低辐射自清洁镀膜玻璃。
【背景技术】
[0002]随着工业的高速发展,对于低辐射镀膜玻璃的要求除了具有遮阳、采光、节能等作用以外,还需要兼具对建筑物的美观和装饰效果。然而,低辐射镀膜玻璃作为建筑物的玻璃幕墙进行高空清洗比较困难具有一定的危险性,因此自清洁玻璃的研究是有必要的。
[0003]自清洁玻璃主要分为超亲水性和超疏水性,传统的自清洁玻璃是在玻璃表面涂一层纳米薄膜,本实用新型采用Ti02这种具有超亲水性的材料。超亲水性自清洁玻璃的自清洁功能表现为两方面:一是靠其表面对水的亲和性,使水的液滴在玻璃材料表面上的接触角趋于零。当水接触到玻璃材料时,迅速在其表面铺展,形成均匀的水膜,表现出超亲水的性质,通过均匀水膜的重力下落带走污渍,通过该方式将可以去处大部分有机或无机污渍。二是光催化分解有机物的能力,Ti02在紫外光或可见光照射下,当照射光子的能量大于或者等于其能带宽度的时候,介带中的电子被激发,越过价带进入导带,在导带和价带上形成电子-空穴对,电子、空穴具有不同的活性,分别与吸附在Ti02表面的有机物质发生氧化还原反应,生成水和C02,从而达到降解有机物的目的。
[0004]现有的普通自清洁玻璃透光率普遍偏低,反射率较高,用于建筑方面会降低通透感,目前出现的增透自清洁玻璃虽然在保证了自清洁效果的同时提高了透过率,但普遍出现了红外线透过率较高,用于建筑领域不够节能环保。
【实用新型内容】
[0005]本实用新型所要解决的技术问题是提供一种高透低辐射自清洁镀膜玻璃。
[0006]为解决上述技术问题,本实用新型是按如下方式实现的:一种高透低辐射自清洁镀膜玻璃,包括玻璃基板,在玻璃基板上依次溅射沉淀第一 SiAl基膜层、第一 AZO膜层、第一NiCr阻挡层、Ag层、第二 NiCr阻挡层、第二 AZO膜层、第二 SiAl膜层、稀土 T12复合膜层;
[0007]所述玻璃基板为超白浮法玻璃基板;
[0008]所述第一SiAl层的厚度为50-100nm,所述第一 AZO膜层的厚度为10-30nm,所述第一 NiCr阻挡层的厚度为3-10nm,所述Ag层的厚度为3-9nm,所述第二 NiCr阻挡层的厚度为3-10nm、所述第二 AZO膜层的厚度为10-30nm、所述第二 SiAl膜层的厚度为厚度为50-100nm,所述稀土 T12复合膜层的厚度为15-200nm。
[0009]本实用新型的积极效果是:本装置解决了普通自清洁玻璃的透过率低、反射率高以及增透自清洁玻璃红外透过率高,不够节能环保的问题。
【附图说明】
[00?0]图1为本实用新型结构不意图;
[0011 ]图2为本实用新型透过率随波长变化图。
【具体实施方式】
[0012]下面结合附图和【具体实施方式】对本实用新型作进一步详细的说明。
[0013]如图1-2所示,本实用新型所述的一种高透低辐射自清洁镀膜玻璃,包括玻璃基板I,在玻璃基板I上依次溅射沉淀第一SiAl基膜层2、第一AZO膜层3、第一NiCr阻挡层4、Ag层5、第二 NiCr阻挡层6、第二 AZO膜层7、第二 SiAl膜层8、稀土 T12复合膜层9。
[0014]玻璃基板I为超白浮法玻璃基板。
[0015]第一 SiAl层2的厚度为50-100nm,第一 AZO膜层3的厚度为10-30nm,第一 NiCr阻挡层4的厚度为3-10nm,Ag层5的厚度为3-9nm,第二 NiCr阻挡层6的厚度为3-10nm、第二 AZO膜层7的厚度为10-30nm、第二 SiAl膜层8的厚度为厚度为50-100nm,稀土 T12复合膜层9的厚度为 15-200nm。
[0016]生产操作过程:
[0017]对于最顶层的功能层,以定制的稀土/钛金属合金材料为靶材,充氧气生成对应的氧化物,采用真空磁控溅射的方法,其中溅射气体为体积流量为20-80标况毫升每分的氩气和体积流量为30-90标况晕升每分的氧气组成,派射功率为10-50千瓦。
[0018]采用腔体能提供本底蒸汽压达到5.0*10-6mbar以上,溅射气压达到2.0*10-3—
5.0*10_3mbar 左右环境。
[0019]本实用新型不局限于上述最佳实施方式,任何人在本实用新型的启示下都可得出其他各种形式的产品,但不论在其形状或结构上作任何变化,凡是具有与本实用新型相同或相近似的技术方案,均落在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种高透低辐射自清洁镀膜玻璃,其特征在于,包括玻璃基板,在玻璃基板上依次溅射沉淀第一 SiAl基膜层、第一 AZO膜层、第一 NiCr阻挡层、Ag层、第二 NiCr阻挡层、第二 AZO膜层、第二 SiAl膜层、稀土 T12复合膜层; 所述玻璃基板为超白浮法玻璃基板; 所述第一 SiAl层的厚度为50-100nm,所述第一 AZO膜层的厚度为10-30nm,所述第一NiCr阻挡层的厚度为3-10nm,所述Ag层的厚度为3-9nm,所述第二 NiCr阻挡层的厚度为3-10nm、所述第二 AZO膜层的厚度为10-30nm、所述第二 SiAl膜层的厚度为厚度为50-100nm,所述稀土 T12复合膜层的厚度为15-200nm。
【文档编号】C03C17/36GK205635374SQ201620223283
【公开日】2016年10月12日
【申请日】2016年3月22日
【发明人】杨宏斌, 冷庆吉
【申请人】河北物华天宝镀膜科技有限公司
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