专利名称：光致抗蚀剂组合物的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种光致抗蚀剂组合物。
背景技术：
用于采用光刻法的半导体微型制造的光致抗蚀剂组合物含有酸生成剂，该酸生成 剂包含通过辐照产生酸的化合物。US 2003/0194639A1公开了一种包含2，6_ 二异丙基苯胺或氢氧化四丁基铵的光 致抗蚀剂组合物。
发明内容
本发明的目的是提供一种光致抗蚀剂组合物。本发明涉及下列内容<1> 一种光致抗蚀剂组合物，其包含树脂，酸生成剂和由式(Cl)表示的化合物
权利要求
1.一种光致抗蚀剂组合物，其包含树脂，酸生成剂和由式(Cl)表示的化合物
2.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其中Rc"是由式(2)表示的基团 -CH2-Rc6 (2)其中Re6表示具有一个或多个取代基的C6-C18芳族烃基，并且所述取代基中的至少一 个是吸电子基团。
3.根据权利要求2所述的光致抗蚀剂组合物，其中所述吸电子基团是硝基。
4.根据权利要求2所述的光致抗蚀剂组合物，其中Rc"是硝基苯基。
5.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其中Rcl是由式(1-1)，(1-2)或(1-3) 表示的基团
6.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其中所述由式(Cl)表示的化合物是由式 (Cl-1-1)，(Cl-2-1)，(Cl-2-2)，(C1-2-3)或(C1-3-1)表示的化合物
7.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其中所述树脂在碱水溶液中不溶或难 溶，但是通过酸的作用变得在碱水溶液中可溶。
全文摘要
本发明提供一种光致抗蚀剂组合物，其包含树脂，酸生成剂和由式(C1)表示的化合物，在式(C1)中，Rc2表示可以具有一个或多个取代基的C7-C20芳烷基，并且Rc1表示由式(1)表示的基团，在式(1)中，Rc3和Rc4各自独立地表示氢原子或直链，支链或环状C1-C12脂族烃基，Rc5表示C1-C30二价有机基团，并且Rc3和Rc4或Rc5可以彼此结合以与Rc3和Rc4或Rc5结合的氮原子一起形成环。
文档编号C08F222/14GK101995769SQ20101024739
公开日2011年3月30日 申请日期2010年8月5日 优先权日2009年8月11日
发明者增山达郎, 畑光宏 申请人:住友化学株式会社