1.一种用于石墨化的聚酰亚胺膜，包括有：
一聚酰亚胺聚合物，其由二胺化合物及二酐化合物反应而成；以及
一发泡剂，其添加于该聚酰亚胺聚合物内。
2.如权利要求1所述的用于石墨化的聚酰亚胺膜，其中，
该聚酰亚胺层由选自4，4′-二胺基二苯醚(4，4′-ODA)、对苯二胺(p-PDA)、2，2’-双(三氟甲基)联苯胺(TFMB)所成群组的二胺及选自由均苯四甲酸二酐(PMDA)、3，3′，4，4′-联苯四羧酸二酐(BPDA)、2，2-双[4-(3，4-二羧基苯氧基)苯基]丙烷二酐(BPADA)所成群组的二酐反应而得。
3.如权利要求1所述的用于石墨化的聚酰亚胺膜，其中，该发泡剂为硼化合物或氮化合物。
4.如权利要求3所述的用于石墨化的聚酰亚胺膜，其中，该硼化物为氮化硼，其占该聚酰亚胺膜总重量的0.02-0.40wt％。
5.如权利要求1所述的用于石墨化的聚酰亚胺膜，其中，该发泡剂为异于碳元素的其他元素。
6.一种石墨膜的制造方法，其包括有：
提供一聚酰胺酸溶液，其由二胺化合物及二酐化合物混合而成；
添加一发泡剂于该聚酰亚胺酸溶液内，以制成一聚酰亚胺膜；
将该聚酰亚胺膜进行一碳化热处理工艺，以形成一碳质膜；以及
将该碳质膜进行一石墨化热处理工艺，以形成一石墨膜。
7.如权利要求6所述的石墨膜的制造方法，其中，该聚酰亚胺层由选自4，4′-二胺基二苯醚(4，4′-ODA)、对苯二胺(p-PDA)、2，2’-双(三氟甲基)联苯胺(TFMB)所成群组的二胺及选自由均苯四甲酸二酐(PMDA)、3，3′，4，4′-联苯四羧酸二酐(BPDA)、2，2-双[4-(3，4-二羧基苯氧基)苯基]丙烷二酐(BPADA)所成群组的二酐反应而得。
8.如权利要求6所述的石墨膜的制造方法，其中，该发泡剂为硼化物。
9.如权利要求8所述的石墨膜的制造方法，其中，该硼化物为氮化硼，其占该聚酰亚胺膜总重量的0.02-0.40wt％。
10.如权利要求6所述的石墨膜的制造方法，其中，该碳化热处理温度介于800-1500℃。
11.如权利要求6所述的石墨膜的制造方法，其中，该石墨化热处理温度介于2300-3000℃。
12.一种石墨膜，其包括有：
一石墨层结构；及
异于碳元素的其他元素位于该石墨层结构内。
13.如权利要求12所述的石墨膜，其中，该异于碳元素的其他元素为硼元素或氮元素。