将步骤（1)得到的预处理后的玻片表面包被多聚赖氨酸， 包被多聚赖氨酸时，使用质量浓度为1. 5%的多聚赖氨酸水溶液浸泡玻片30分钟，然后用纯 化水将玻片表面多余的未包被的多聚赖氨酸洗掉，再在65°C下烘干60分钟，冷却至室溫， 得到多聚赖氨酸包被玻片； 步骤（3)，引入活性醒基基团；将步骤（2)得到的多聚赖氨酸包被玻片使用戊二醒引入 活性醒基基团；使用戊二醒引入活性醒基基团时，使用质量浓度为1. 5%的戊二醒水溶液浸 泡玻片30分钟，然后用纯化水将玻片表面多余的戊二醒洗掉，再在65 °C下烘干360分钟，冷 却至室溫，得到微阵列用活性醒基修饰基片。
[0030]实施例3 一种微阵列用活性醒基修饰基片的制备方法，包括如下步骤： 步骤（1)，玻片的预处理：将玻片先采用等离子清洗机连续清洗3次，每次3分钟，然后 采用质量浓度为98%浓硫酸浸泡清洗1.6小时，接着用纯化水将玻片表面残留的浓硫酸洗 净，得到预处理后的玻片； 步骤（2)，多聚赖氨酸包被：将步骤（1)得到的预处理后的玻片表面包被多聚赖氨酸， 包被多聚赖氨酸时，使用质量浓度为1. 2%的多聚赖氨酸水溶液浸泡玻片18分钟，然后用纯 化水将玻片表面多余的未包被的多聚赖氨酸洗掉，再在60°C下烘干45分钟，冷却至室溫， 得到多聚赖氨酸包被玻片； 步骤（3)，引入活性醒基基团；将步骤（2)得到的多聚赖氨酸包被玻片使用戊二醒引入 活性醒基基团；使用戊二醒引入活性醒基基团时，使用质量浓度为0. 9%的戊二醒水溶液浸 泡玻片22分钟，然后用纯化水将玻片表面多余的戊二醒洗掉，再在58°C下烘干52分钟，冷 却至室溫，得到微阵列用活性醒基修饰基片。
[0031] 实施例4 一种微阵列用活性醒基修饰基片的制备方法，包括如下步骤： 步骤（1)，玻片的预处理：将玻片先采用等离子清洗机清洗lOmin，然后将玻片置于质 量浓度为98%的浓硫酸中浸泡化，取出后用纯化水将玻片表面残留的浓硫酸洗净，得到预 处理后的玻片； 步骤（2)，多聚赖氨酸包被：将步骤（1)得到的预处理后的玻片浸于质量浓度为1%多聚 赖氨酸溶液中30分钟进行包被，然后用纯化水将玻片表面多余的未包被的多聚赖氨酸洗 掉，再经烘干，冷却至室溫，得到多聚赖氨酸包被玻片； 步骤（3)，引入活性醒基基团；将步骤（2)得到的多聚赖氨酸包被玻片置于质量浓度为 1%戊二醒水溶液浸泡玻片30分钟W引入活性醒基基团，然后用纯化水将玻片表面多余的 戊二醒洗掉，再经烘干，冷却至室溫，得到微阵列用活性醒基修饰基片。
[0032] 实施例5 一种微阵列用活性醒基修饰基片的制备方法，包括如下步骤： 步骤（1)，玻片的预处理：将玻片先采用等离子清洗机清洗3次，每次2min，然后将玻片 置于质量浓度为98%的浓硫酸中浸泡化，取出后用纯化水将玻片表面残留的浓硫酸洗净， 得到预处理后的玻片； 步骤（2)，多聚赖氨酸包被：将步骤（1)得到的预处理后的玻片浸于质量浓度为1%多聚 赖氨酸溶液中30分钟进行包被，然后用纯化水将玻片清洗2次，每次Imin,再在60°C下烘 干40分钟，最后冷却至室溫，得到多聚赖氨酸包被玻片； 步骤（3)，引入活性醒基基团；将步骤（2)得到的多聚赖氨酸包被玻片置于质量浓度为 1%戊二醒水溶液浸泡玻片30分钟W引入活性醒基基团，然后用纯化水将玻片清洗2次，每 次Imin,再在60°C下烘干30分钟，最后冷却至室溫，得到微阵列用活性醒基修饰基片。
[0033]性能检测 点样：使用3'端氨基修饰，5'端肥X巧光标记修饰的特定序列探针[购自美国英杰 生命技术有限公司（Invitrogen)L配制浓度为50ng/iil的探针溶液，将配制好的探针按 照每孔80y1上样于384孔样品板。将点样仪设置为直径2个化0P，矩阵设置为4X4矩阵 图形。点样应分别点样于本发明制备的活性醒基修饰基片和普通氨基片，如图2和图3,图 2和图3中A为本发明审IJ备的活性醒基修饰基片，B为普通氨基片。
[0034] 洗脱前扫描：点样完成后，对固定完成后的忍片使用激光共聚焦忍片扫描仪进行 扫描，读取532nm共聚焦扫描的巧光值中值（F532Median)。
[0035] 洗片：数据读取完成后，进行微阵列洗脱，洗脱方法为：洗脱液I(含0. 1%SDS 的2XSSC溶液）中lOOr/min洗脱5min;洗脱液II(0. 25%-0. 3%NaBH4水溶液）42°C封闭 8-lOmin;洗脱液IIIUXSSC溶液)中lOOr/min洗脱5min;纯化水中lOOr/min洗脱5min惊 干。
[0036] 洗脱后扫描：洗脱完成后同样对微阵列使用激光共聚焦忍片扫描仪进行扫描，读 取532皿共聚焦扫描的巧光值中值（F532Median)。
[0037] 数据计算：计算忍片洗脱后和洗脱前532nm巧光值中值（F532Median)的信号强度 比值。
[0038] 计算结果列入表1。
[0039] 表1活性醒基修饰基片与普通氨基片固定率比较。
由表1比较可知，活性醒基修饰基片的探针固定率均值为67%，而普通氨基片探针固定 率均值仅为31%左右，可见本发明所述活性醒基修饰基片可使探针固定率提高一倍W上。
[0041] 经比较，图2中普通氨基片背景杂质较多，而本发明所述活性醒基修饰基片，背景 均匀。
[0042] 经比较，图3中普通氨基片会出现探针点不均一，如空屯、点现象，而本发明所述活 性醒基基片点形态规则，探针内部较均匀。
[0043] 因此，本发明所述微阵列用活性醒基修饰基片是一种性能优越的微阵列载体，其 制备方法也较简单，成本低，适于工业化生产。
[0044] W上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和本发明的优点。本行业的技术 人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本 发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，运些变 化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其 等效物界定。
【主权项】
1. 一种微阵列用活性醛基修饰基片的制备方法，其特征在于，包括如下步骤： 步骤（1 )，玻片的预处理：将玻片依次采用等离子清洗机和质量浓度为98%浓硫酸清洗 干净后，用纯化水将玻片表面残留的浓硫酸洗净，得到预处理后的玻片； 步骤（2)，多聚赖氨酸包被：将步骤（1)得到的预处理后的玻片表面包被多聚赖氨酸， 然后用纯化水将玻片表面多余的未包被的多聚赖氨酸洗掉，再经烘干，冷却至室温，得到多 聚赖氨酸包被玻片； 步骤（3)，引入活性醛基基团；将步骤（2)得到的多聚赖氨酸包被玻片使用戊二醛引入 活性醛基基团，然后用纯化水将玻片表面多余的戊二醛洗掉，再经烘干，冷却至室温，得到 微阵列用活性醛基修饰基片。2. 根据权利要求1所述的微阵列用活性醛基修饰基片的制备方法，其特征在于，步骤 (1)采用等离子清洗机时，需连续清洗1-5次，每次1-5分钟。3. 根据权利要求1所述的微阵列用活性醛基修饰基片的制备方法，其特征在于，步骤 (1) 中，使用浓硫酸清洗时，玻片放置于浓硫酸中浸泡1-2小时。4. 根据权利要求1所述的微阵列用活性醛基修饰基片的制备方法，其特征在于，步 骤（2)中，包被多聚赖氨酸时，使用质量浓度为0. 5%-1. 5%的多聚赖氨酸水溶液浸泡玻片 10-30分钟。5. 根据权利要求1所述的微阵列用活性醛基修饰基片的制备方法，其特征在于，步骤 (2) 和步骤（3)中所述的烘干的烘干温度为55-65°C，烘干时间为30-60分钟。6. 根据权利要求1所述的微阵列用活性醛基修饰基片的制备方法，其特征在于，步骤 (3) 中所述的使用戊二醛引入活性醛基基团时，使用质量浓度为0. 5%-1. 5%的戊二醛水溶 液浸泡玻片10-30分钟。7. 根据权利要求1所述的微阵列用活性醛基修饰基片的制备方法，其特征在于，包括 如下步骤： 步骤（1)，玻片的预处理：将玻片先采用等离子清洗机清洗l〇min，然后将玻片置于质 量浓度为98%的浓硫酸中浸泡2h，取出后用纯化水将玻片表面残留的浓硫酸洗净，得到预 处理后的玻片； 步骤（2)，多聚赖氨酸包被：将步骤（1)得到的预处理后的玻片浸于质量浓度为1%多聚 赖氨酸溶液中30分钟进行包被，然后用纯化水将玻片表面多余的未包被的多聚赖氨酸洗 掉，再经烘干，冷却至室温，得到多聚赖氨酸包被玻片； 步骤（3)，引入活性醛基基团；将步骤（2)得到的多聚赖氨酸包被玻片置于质量浓度为 1%戊二醛水溶液浸泡玻片30分钟以引入活性醛基基团，然后用纯化水将玻片表面多余的 戊二醛洗掉，再经烘干，冷却至室温，得到微阵列用活性醛基修饰基片。8. 根据权利要求1所述的微阵列用活性醛基修饰基片的制备方法，其特征在于，包括 如下步骤： 步骤（1 )，玻片的预处理：将玻片先采用等离子清洗机清洗3次，每次2min，然后将玻片 置于质量浓度为98%的浓硫酸中浸泡2h，取出后用纯化水将玻片表面残留的浓硫酸洗净， 得到预处理后的玻片； 步骤（2)，多聚赖氨酸包被：将步骤（1)得到的预处理后的玻片浸于质量浓度为1%多聚 赖氨酸溶液中30分钟进行包被，然后用纯化水将玻片清洗2次，每次lmin，再在60°C下烘 干40分钟，最后冷却至室温，得到多聚赖氨酸包被玻片； 步骤（3)，引入活性醛基基团；将步骤（2)得到的多聚赖氨酸包被玻片置于质量浓度为 1%戊二醛水溶液浸泡玻片30分钟以引入活性醛基基团，然后用纯化水将玻片清洗2次，每 次lmin，再在6(TC下烘干30分钟，最后冷却至室温，得到微阵列用活性醛基修饰基片。9.权利要求1-8任意一项微阵列用活性醛基修饰基片的制备方法制得的微阵列用活 性醛基修饰基片。
【专利摘要】本发明涉及一种微阵列用活性醛基修饰基片及其制备方法，属于医学及生物学技术领域。本发明所提供的生物芯片基片是在氨基化表面上连接醛基基团的基片。本发明提供的醛基基片，因使用浓硫酸及等离子清洗机处理，解决了普通基片杂质点较多的问题，先使用多聚赖氨酸制成氨基化表面，并再用戊二醛作为醛基基团的供体，通过静电吸附和化学偶联的联合作用，提高了核酸的固定力，使各探针点的形状饱满，提高了基片的稳定性。因此本发明提供的醛基基片是一种优良的生物芯片探针载体，可广泛应用于生物芯片制备。
【IPC分类】C40B50/18, C03C17/28, C12Q1/68, C40B40/06
【公开号】CN105220237
【申请号】CN201510724336
【发明人】马明星, 王超
【申请人】昆明寰基生物芯片产业有限公司
【公开日】2016年1月6日
【申请日】2015年10月29日