在下缩合而制造。
[008；3][化 10]
[0084]
[0085] (式中，R2、X'、q、sl及s2与上述的R2、X'、q、sl及s2相同。）
[0086] 另外，如下述合成流程所示，式[7]所示化合物通过使式[12]所示的化合物与酪衍 生物在溶剂中、在缩合剂的存在下缩合而制造。
[0087] [化11]
[008引
[0089] (式中，R3、;t、s3及s4与上述的R3、;t、s3及s4相同。）
[0090] 式[10]及[11]所示的化合物在X'为式[引所示的基团的情况下，可作为市售品从 SYNT册N Chemicals公司或Midori化学（株)获得。
[0091] 另外，式[10]及[11]所示化合物、且X'为式[9]所示的基团的化合物、及式[12]所 示的化合物例如可使用Talaga等（P.Talaga,M. Schaeffer，C.Benezra and J丄.Stampf， Synthesis, 530(1990))提出的方法进行合成。该方法为如下述合成流程A1所示的那样使用 SnCb使2-(漠甲基）丙締酸与醒或酬进行反应的方法。另外，2-(漠甲基）丙締酸可通过 Ramara jan等提出的方法得到（K . Ramara jan , K . Kamal in邑am , D . J . 0 ' Donne 11 and K.D.Berlin'Organic Synthesis，vol.61,pp.56-59(1983))。
[0092] [化 12]
[0093] 流程 A1
[0094；
[00巧](式中，R'表示一价的有机基团。Amberlyst(注册商标）15为Rohmand化as公司制 造的离子交换树脂。THF表示四氨巧喃。Et表示乙基）。
[0096] 另外，在使用SnCl2的2-(漠甲基）丙締酸的反应中，代替醒或酬，通过与对应的缩 醒或缩酬的反应，也可得到α-亚甲基-丫-下内醋结构。作为缩醒或缩酬，可W举出：具有二 甲基缩醒基、二乙基缩醒基、1，3-二嘯烷基、1，3-二氧戊环基等的化合物。下述合成流程Α2 示出使用缩醒或缩酬时的合成法及保护基团。
[0097] [化13]
[009引流程Α2
[0099]
[0100] (式中、R'与上述的R'相同。）
[0101] 通过应用了上述合成流程Α1或Α2的方法的下述合成流程Β或C的方法，可合成式 [10]、[11]或[12]所示的化合物。
[0102] [化 14]
[0103] 流程 Β
[0104]
[010引（式中，q及si与上述的q及si相同。Me表示甲基。PCC表示化晚銷氯铭酸盐）。
[0106][化 15]
[0107]流程 C [010 引
[0109](式中，q及si与上述的q及si相同。）
[0110][聚合物的合成]
[0111] 作为合成上述聚合物的方法，没有特别限定，可采用自由基聚合、阴离子聚合、阳 离子聚合等。其中，特别优选自由基聚合，具体而言，只要在溶剂中将上述聚合性化合物在 聚合引发剂的存在下加热而使其聚合即可。
[0112] 作为聚合引发剂，可从现有公知的聚合引发剂中适宜选择而使用。例如可W举出： 过氧化苯甲酯、过氧化氨异丙苯、叔下基过氧化氨等过氧化物;过硫酸钢、过硫酸钟、过硫酸 锭等过硫酸盐;偶氮双异下腊(AIBN)、偶氮二甲基下腊、偶氮双异戊腊等偶氮系化合物等。 运些可W单独使用1种或组合使用巧巾W上。
[0113] 聚合引发剂的使用量优选相对于聚合性化合物Imol为0.01~0.05mol左右。
[0114] 反应溫度只要在0°C至使用的溶剂的沸点的范围适宜设定即可，优选20~100°C左 右。反应时间优选0.1~30小时左右。
[0115] 作为聚合反应中所使用的溶剂，没有特别限定，可从上述聚合反应中一般使用的 各种溶剂中适宜选择而使用。具体而言，可W举出：水；甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、1-下醇、 2- 下醇、异下醇、叔下醇、1-戊醇、2-戊醇、3-戊醇、异戊醇、叔戊醇、1-己醇、1-庚醇、2-庚醇、 3- 庚醇、2-辛醇、2-乙基-1-己醇、节醇、环己醇等醇类;二乙基酸、二异丙基酸、二下基酸、环 戊基甲基酸、四氨巧喃、1,4-二噁烧等酸类;氯仿、二氯甲烧、二氯乙烧、四氯化碳等面代控 类；甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、异丙基溶纤剂、下基溶纤剂、二乙二醇单下基酸等酸醇类;丙 酬、甲基乙基酬、甲基异下基酬、环己酬等酬类；乙酸乙醋、乙酸下醋、丙酸乙基、溶纤剂乙酸 醋等醋类;正戊烧、正己烧、正庚烧、正辛烧、正壬烧、正癸烧、环戊烧、甲基环戊烧、环己烧、 甲基环己烧、苯、甲苯、二甲苯、乙基苯、苯甲酸等脂肪族或芳香族控类；甲缩醒、二乙基缩醒 等缩醒类；甲酸、乙酸、丙酸等脂肪酸类;硝基丙烷、硝基苯、二甲基胺、单乙醇胺、化晚、N-甲 基-2-化咯烧酬(NMP)、N，N-二甲基甲酯胺、二甲基亚讽、乙腊等。运些可W单独使用巧巾或混 合使用巧巾W上。
[0116] 在上述聚合物包含式[la]及[化]W外的其它重复单元的情况下，作为其合成方 法，只要在上述聚合时使赋予上述其它重复单元的聚合性化合物共存而进行聚合即可。
[0117] [有机溶剂]
[011引作为本发明的膜形成用组合物中所含的有机溶剂，例如可W举出：四氨巧喃、二口恶 烧等酸类;苯、甲苯、二甲苯等芳香族控类;N，N-二甲基甲酯胺、N-甲基-2-化咯烧酬等极性 溶剂；乙酸乙醋、乙酸下醋、乳酸乙醋等醋类;3-甲氧基丙酸甲醋、2-甲氧基丙酸甲醋、3-甲 氧基丙酸乙醋、2-甲氧基丙酸乙醋、3-乙氧基丙酸乙醋、2-乙氧基丙酸乙醋等烷氧基醋类； 乙二醇二甲基酸、丙二醇二甲基酸等甘醇二烷基酸类;二乙二醇二甲基酸、二乙二醇二乙基 酸、二乙二醇甲基乙基酸、二丙二醇二甲基酸等二甘醇二烷基酸类；乙二醇单甲基酸、乙二 醇单乙基酸、丙二醇单甲基酸、丙二醇单乙基酸等甘醇单烷基酸类;二乙二醇单甲基酸、二 乙二醇单乙基酸、二丙二醇单甲基酸、二丙二醇单乙基酸等二甘醇单烷基酸类;丙二醇单甲 基酸乙酸醋、卡必醇乙酸醋、乙基溶纤剂乙酸醋等甘醇单烷基酸醋类;环己酬、甲基乙基酬、 甲基异下基酬、2-庚酬等酬类等。运些有机溶剂可W单独使用1种或混合使用巧巾W上。
[0119] 其中，优选丙二醇单甲基酸、丙二醇单甲基酸乙酸醋、乳酸乙醋、环己酬等。
[0120] 有机溶剂的使用量优选设为组合物中60~95质量％左右。
[0121] [其它成分]
[0122] 在本发明的膜形成用组合物中，可W出于提高与基板的亲和性的目的而添加表面 活性剂。作为表面活性剂，没有特别限定，可W举出氣系表面活性剂、娃酬系表面活性剂、非 离子系表面活性剂等。其中，优选与基板的亲和性改善效果高的氣系表面活性剂。
[0123] 作为氣系表面活性剂的具体例，可W举出：（W下为商品名）、EFT0P EF30UEFT0P EF303、EFT0P EF352((株）Tochem Products制造 ）、Megafac F171、Megafac F173、Megafac R-30(DIC(株）制造）、化U0RADFC430、FLU0RAD FC431(住友3M(株）制造 ）、Asahi 加 ard AG710、Surflon S-382、Surflon SClOUSurflon SC102、Surflon SC103、Surflon SC104、 Surflon SC105、Siu"flon SC106(旭硝子(株)制造)等，但并不限定于运些。另外，表面活性 剂可W单独使用1种，也可W组合使用巧巾W上，其添加量优选相对于聚合物100质量份为5 质量份W下。
[0124] 进而，在本发明的膜形成用组合物中，可W出于提高与基板的密合性的目的而添 加密合促进剂。
[0125] 作为密合促进剂，可W举出：Ξ甲基氯硅烷、二甲基乙締基氯硅烷、甲基二苯基氯 硅烷、氯甲基二甲基氯硅烷等氯硅烷类;Ξ甲基甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、甲基二 甲氧基硅烷、二甲基乙締基乙氧基硅烷、二苯基二甲氧基硅烷、苯基Ξ乙氧基硅烷等烷氧基 硅烷类;六甲基二娃氮烧、N，N'-双(Ξ甲基甲娃烷基)脈、二甲基Ξ甲基甲娃烷基胺、Ξ甲基 甲娃烷基咪挫等娃氮烧类；乙締基Ξ氯硅烷、丫-氯丙基Ξ甲氧基硅烷、丫-氨基丙基Ξ乙氧 基硅烷、丫-甲基丙締酷氧基丙基Ξ甲氧基硅烷、丫-环氧丙氧基丙基Ξ甲氧基硅烷、丫-(N-赃晚基)丙基Ξ甲氧基硅烷等硅烷类;苯并Ξ挫、苯并咪挫、吗I挫、咪挫、2-琉基苯并咪挫、2-琉基苯并嚷挫、2-琉基苯并挫、尿挫、硫脈喀晚、琉基咪挫、琉基喀晚等杂环状化合物；1， 1 -二甲基脈、1，3-二甲基脈等脈化合物;硫脈化合物等。
[0126] 密合促进剂可W单独使用1种，也可W组合使用巧巾W上，其添加量优选相对于聚 合物100质量份为1质量份W下。
[0127] [单层涂布型水平取向膜]
[0128] 可通过将W上说明的本发明的膜形成用组合物在基板(例如娃/二氧化娃被覆基 板、氮化娃基板、被覆有金属、例如侣、钢、铭等的基板、玻璃基板、石英基板、IT0基板等)或 膜(例如Ξ乙酷纤维素(TAC)膜、环締控聚合物膜、聚对苯二甲酸乙二醇醋膜、丙締酸膜等树 脂膜)等之上通过棒涂、旋涂、流动涂布、漉涂、狭缝涂布、狭缝涂布之后旋涂、喷墨法、印刷 法等方法进行涂布而形成涂膜，然后，在加热板或烘箱等中进行加热干燥而形成膜。
[0129] 作为加热干燥的条件，例如可采用从40~100°C及0.1~60分钟的范围中适宜选择 的加热溫度及加热时间。上述加热溫度及加热时间优选为40~80°C、0.1~2分钟。
[0130] 对如此形成的膜进行直线偏振光照射，进行后烘烤，由此能得到单层涂布型水平 取向膜。
[0131] 作为直线偏振光的照射方法，通常使用150~450nm的波长的紫外线~可见光线， 通过在室溫或加热的状态照射直线偏振光来进行。照射线量根据使用的光而不同，大致优 选100~2,000mJ/cm2。
[0132] 另外，后烘烤只要在加热板或烘箱等中进行加热即可，其溫度及时间优选为90~ 150°C、2~20分钟，更优选为95~120°C、5~20分钟。
[0133] 本发明的单层涂布型水平取向膜的膜厚可考虑使用的基板的阶差或光学、电性质 而适宜选择，例如优选0.1~3皿。
[0134] 如此得到的本发明的单层涂布型水平取向膜是具有适于显示装置或记录材料等 用途的光学特性的材料、特别优选作为液晶显示用的偏振板及相位差板等光学补偿膜。
[0135] 实施例
[0136] W下，举出合成例、实施例及比较例并对本发明更具体地进行说明，但本发明并不 限定于下述的实施例。另外，实施例中的各物性的测定方法及测定条件如下所述。
[0137] [1]1h-NMR
[0138] 将化合物溶解于気代氯仿(CDCb)，使用核磁共振装置(300M