对碳酸盐表面进行化学吸附的方法
【专利摘要】本发明涉及生产油和/或气的碳酸盐储层的特征的改性。具体而言，在此公开一种处理包括含碳酸盐基层的地下碳氢化合物储层的方法，一种用于处理包括含碳酸盐基层的地下碳氢化合物储层的组合物，一种取自包括含碳酸盐基层的地下碳氢化合物储层和处理组合物的样品，以及包括含碳酸盐基层的地下碳氢化合物储层和处理组合物。
【专利说明】对碳酸盐表面进行化学吸附的方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及生产油和/或气的碳酸盐储层的特征的改性。
【背景技术】
[0002] 在说明书中对任何现有技术的参考不是，并且不应当被视为认可或任何形式的暗 示该现有技术构成了澳大利亚或任何其他管辖区域内的公知常识的一部分，或该现有技术 可以合理的被预期为被本领域技术人员作为相关文件来确定、理解和关注。
[0003] 有需求对生产油和/或气的储层的特征进行修改以提供更有利的生产环境。对储 层的特征的改性可以提高油和/或气的生产，或改善由于油和/或气的开采而出现的水生 产的问题。
[0004] 众所周知储层的内部环境可以通过加入组合物来改变，该组合物包括表面改性剂 如有机高分子/聚合物。这些可用于改变内部储层环境的物理性质。一个首要的考虑因素 是在储层内将有机高分子/聚合物锚定或结合到表面。在许多情况下，有机高分子/聚合 物是有机硅化合物。
[0005] 已知有机硅化合物能强烈结合到硅酸盐表面。这使得它们特别适用于含有大 量硅酸盐成分的储层，如粘土，长石，砂石或其它硅酸盐矿物的表面。美国专利公开US 2007/0039732(道森等人）和美国专利公开US 2011/0114314(王等人）讨论了在储层中用 于回收碳氢化合物的可能含有有机硅化合物的高分子组合物的用途。
[0006] 美国专利公开US 2007/0039732针对的是提供一种使用相对渗透率改性剂（RPM) 来提高从地层中碳氢化合物的回收的方法，该RPM可以是高分子或微凝胶。在这个方法中， 含有RPM的含水组合物被引入到注射井中。目的是RPM吸附到井中，从而通过阻止水的产 生或限制水流动通过渗透储层形成材料来提高碳氢化合物的提取。本文公开了 RPM可以是 有机硅化合物，这些化合物进一步结合到含有硅酸盐的基层材料上，这些材料包括石英，粘 土，燧石，页岩，粉砂，沸石，或它们的组合。
[0007] 美国专利公开US 2011/0114314针对的是提供一种在地下储层中减少有害水流 的方法。这是通过含有催化剂和可水解的硅烷化合物（如硅烷醇）的可溶的硅酸盐的胶凝 作用和/或聚合作用来实现的，从而形成网状结构。硅烷醇与石头上的硅质表面进行反应 以使得网状结构共价结合到形成的表面。硅烷醇也与硅酸钠相互作用，以使得它们彼此结 合并结合到地层的表面。这导致了胶塞的形成。就是说，硅酸钠和硅烷醇有效地形成塞从 而停止或减少通过地层的水流。在US 2007/0039732中，这个方法的应用限制了硅酸盐包 含一定构造。
[0008] 现有技术中记载的提高地层中碳氢化合物的生产的方法中，通过含有有机硅烷的 分子的使用使得结构主要为硅质的。然而，有机硅烷的应用通常限制储层含有硅质表面。鉴 于上述情况，明确的需要开发一种用于修改性质上不为硅质的储层特征的机理。
[0009] 本发明的目的是至少改善了上述提到的一些问题。
[0010] 在本文中，除上下文另有要求外，使用的术语"包含"及其变体，如"含有"、"包括" 等，不排除其它添加剂，成分，整体或步骤。
【发明内容】
[0011] 理想的是开发一种用于提高碳酸化（carbonatious)储层（即含有碳酸盐）中碳 氢化合物的生产的方法。因此，本发明旨在提供一种处理包括含有碳酸盐的基层的地下碳 氢化合物储层的方法。概括地说，该方法包括加入一定量的硅酸盐或含有硅酸盐的分子到 储层中从而与在储层中含有碳酸盐的基层的碳酸盐表面进行相互化学作用的步骤。
[0012] 本发明的一方面提供一种处理包括含碳酸盐基层的地下碳氢化合物储层的方法， 该方法包括：加入一定量的硅酸盐或含有硅酸盐的分子到储层中从而与含有碳酸盐的基层 的碳酸盐表面进行相互化学作用；其中被加入储层的硅酸盐的浓度大于0重量/体积％并 在8重量/体积％以下。
[0013] 本发明的另一方面提供一种取自地下碳氢化合物储层的样品，该样品包括：具有 硅酸盐或含有硅酸盐分子的层的含碳酸盐基层，使得硅酸盐或含有硅酸盐分子与含碳酸盐 基层的至少一部分表面进行相互化学作用。
[0014] 基层的表面的二氧化硅的浓度比样品的总体的二氧化硅的浓度更高，表明了以表 面层为基础的硅酸盐的存在。
[0015] 硅酸盐可以使用本领域技术人员已知现有的任何合适的技术来确定，包括X射线 和光谱技术（例如，红外光谱，拉曼光谱，紫外可见光谱，透射电子显微镜或能量色散谱显 示）。
[0016] 优选的是，提供该样品为样品的表面二氧化硅浓度比总体样品的二氧化硅浓度更 高，其重量比至少为2:1。更优选的，样品二氧化硅与总体样品的二氧化硅的重量比至少为 5:1。进一步优选的，样品二氧化硅与总体样品的二氧化硅的重量比至少为10:1。意图通过 电子微探针（ΕΡΜΑ)来确定在表面层的二氧化硅的重量％。总体组成也优选通过ΕΡΜΑ来确 定，总体样品的制备是通过首先微粉化该样品以获得样品总体的均匀表现。电子探针聚焦 光束应该尽可能宽（例如至少约10微米的直径）以避免局部成分变化。优选，二氧化硅的 浓度是基于三个探针的测量值（每个基层表面和基层总体）。
[0017] 本发明的另一方面提供一种地下碳氢化合物储层，该储层包括：含碳酸盐的基层， 该基层被处理并具有硅酸盐或含有硅酸盐分子的层，使得硅酸盐或含有硅酸盐分子与含碳 酸盐基层的至少一部分表面进行相互化学作用。
[0018] 本发明的另一方面提供一种处理包括含碳酸盐基层的地下碳氢化合物储层的组 合物，该组合物含有：一定量的硅酸盐或含有硅酸盐的分子从而与含有碳酸盐的基层的碳 酸盐表面进行相互化学作用；一定量的有机硅化合物；其中硅酸盐或含有硅酸盐的材料可 以与有机硅化合物进行化学反应。
[0019] 硅酸盐可以选自任何含有硅酸盐的分子。术语"硅酸盐"使用的是它的广义解释， 指的是任何含有含硅阴离子的化合物。优选，硅酸盐是一种含有硅-氧的阴离子，即Si-Ο型 阴离子，该阴离子具有至少一个硅原子与氧原子与硅原子成键（即具有至少一个Si-Ο键）。 适合的硅酸盐阴离子包括以下类型：
[0020] [Si04]4-，[Si20 7r，[Sin03n]2n_，[Si4n0 lln]6n_，[Si2n05n]2n_ 或[AlxSiy02(x+y)]x_
[0021] 更优选，该硅酸盐为碱金属的硅酸盐。最优选，该硅酸盐为硅酸钠或硅酸钾。
[0022] 加入储层的硅酸盐的浓度可以以二氧化硅计，大于0重量/体积％并高达至8重 量/体积％。优选，加入储层的硅酸盐的浓度大于〇. 1重量/体积％并高达至5重量/体 积％ (以二氧化硅计）。更优选，加入储层的硅酸盐的浓度大于0.2重量/体积％并高达至 4重量/体积％ (以二氧化硅计）。进一步优选，加入储层的硅酸盐的浓度大于0. 3重量/ 体积％并高达至3重量/体积％ (以二氧化硅计）。更进一步优选，加入储层的硅酸盐的浓 度大于0. 5重量/体积％并高达至2重量/体积％ (以二氧化硅计）。
[0023] 添加到体系中的硅酸盐的量以二氧化硅的重量/体积分数给出。这是因为大多数 商业硅酸盐是以二氧化硅浓度的形式报价。当该浓度是以添加到储层中的浓度形式给出 时，优选，添加后在储层的水相中的硅酸盐的浓度（以二氧化硅）大于0重量/体积％并高 达至8重量/体积％。更优选，添加硅酸盐（以二氧化硅）使得储层的水相中的浓度大于 0. 1重量/体积％并高达至5重量/体积％。进一步优选，硅酸盐（以二氧化硅）在储层 的水相中的浓度大于〇. 2重量/体积％并高达至4重量/体积％。更进一步优选，硅酸盐 (以二氧化硅）在储层的水相中的浓度大于〇. 3重量/体积％并高达至3重量/体积％。 更进一步优选，硅酸盐（以二氧化硅）在储层的水相中的浓度大于〇. 5重量/体积％并高 达至2重量/体积％。
[0024] 在优选的实施方式中，该方法进一步包括有机硅化合物的添加，如有机硅烷。该 有机硅化合物与硅酸盐材料化学键合。同时，硅酸盐和有机硅化合物在碳酸盐基层的表 面形成含娃层。优选，加入储层的有机娃化合物的浓度大于〇并小于l.〇mol/L。更优选， 加入储层的有机硅化合物的浓度在〇. 05-0. 2mol/L。如上所述，优选，储层的水相中的有 机硅化合物的浓度小于l.〇mol/L。更优选，储层的水相中的有机硅化合物的浓度范围在 0. 05-0. 2mol/L。在可选的实施方式中，硅酸盐在被添加到地下碳氢化合物储层之前，可以 与有机硅化合物反应。优选，硅酸盐和有机硅化合物一起为改变地下碳氢化合物储层的表 面特性提供了方法。
[0025] 在本发明的另一方面，有机硅化合物包括官能团，通过在有机硅化合物上的合适 的官能团使表面改性剂（如有机聚合物或高分子，不包括有机硅化合物）与有机硅化合物 以共价键结合。
[0026] 表面改性剂可以被添加到储层，也可以与有机硅化合物进行预反应。例如，表面改 性剂可以是聚合物。意图是，在表面改性剂上，通过活性基团（或成键基团）使得表面改性 剂与有机硅以共价键结合。意图是，这些在表面改性剂上的活性基团（或成键基团）与有 机硅化合物上的官能团进行共价反应。优选，在体系中有足够的表面改性剂使至少70%的 有机硅化合物与表面改性剂的相互作用。更优选，加入表面改性剂使得表面改性剂上的活 性基团与有机硅的比例为1:1. 5至1:5。进一步优选，表面改性剂上的活性基团与有机硅的 比例为1:1. 5至1:3。
[0027] 为了促进储层的目的，表面改性剂的最终结果是使碳酸盐储层的表面官能化，促 进的目的包括：提高了油开采率，渗透率修正（总流体截止和相对渗透率改性），压裂，和酸 分流。表面改性剂优选选自聚合物，包括高分子，并选择应与有机硅烷的R基团相匹配，以 确保表面改性剂可以与有机硅烷化学键合。选择合适的有机硅烷和表面改性剂的组合以确 保形成稳定的化学键对于本领域技术人员来说是清楚的。其中R基团为不可水解具有功能 的有机自由基，提供所需的特性。这包括：烧基，稀基，芳基，稀丙基，齒素，胺，硫官能团，轻 基，醛，环氧树脂，硝基苯甲酰胺，氰基，吡啶，叠氮化物，酯，异氰酸酯，磷化氢，磷酸盐。例 如，在有机硅烷上的R基团为环氧基团，那么表面改性剂具有以下功能，适合尿烷，丙烯酸 衍生物，多硫化物。如果在有机硅烷上的R基团为胺，那么表面改性剂具有以下功能，适合 丙烯酸衍生物，尿烷，环氧树脂，三聚氰胺，N-羟基琥珀酰亚胺（NHS)酯，和羟甲基丙烯酰胺 (hydroxylmethylacrylamide)。含有NHS酯和轻甲基丙烯酰胺的表面改性剂可以从聚丙烯 酰胺，聚丙烯酰胺包括水解聚丙烯酰胺或聚丙烯酰胺丙烯酸共聚物，丙烯酰胺丙烯酸部分 钠，聚（丙烯酸-马来酸），阳离子聚丙烯酰胺，阴离子聚丙烯酰胺，两性聚丙烯酰胺来制备。
[0028] 本发明的更多方面和更多实施方式将通过实施例并参照附图给出的以下描述中 变得明显。
[0029] 在此对值的范围的引用仅意图于用作单独参考每个在此范围内的分立值的速记 方法，除非在文中另外指示。此外，每个单独值引入到说明书中，如同在此单独引用。
【专利附图】
【附图说明】
[0030] 图1提供的是有机硅烷，硅酸盐和碳酸钙基层相互作用的图。
[0031] 图2显示的是在用吸附系统处理后在盐水注射过程中碳酸盐核心的压差，该压差 稳定地显示了与预吸附处理相比核心的渗透性减少了 560倍。条件：100%的水饱和度， 3500psi的围压，500psi的背压，和105°C的温度。
[0032] 图3提供的是在盐水和油存在下吸附系统（具有聚合物）的机理图。
[0033] 图4显示的是用XPS测定的高分辨率碳谱，显示了在287eV下的含环氧树脂的样 品的C-0基团（实线）与碳酸盐对照组进行对比，该对照组是没有吸附系统以及不存在C-0 基团（虚线）。
【具体实施方式】
[0034] 此处公开了一种处理包括含碳酸盐基层的地下碳氢化合物储层的方法，该方法包 括加入一定量的硅酸盐以与碳酸盐表面进行化学反应的步骤。不受理论的束缚，认为在碳 酸盐基层表面硅酸盐与部分溶解的阳离子反应。该反应导致硅酸盐吸附到含碳酸盐基层的 表面。硅酸盐也可以彼此反应以在碳酸盐表面形成二氧化硅层。该方法意图提供用于在地 下碳氢化合物储层中含碳酸盐表面的改性的通用方法。
[0035] 加入硅酸盐使得，硅酸盐的结果浓度以二氧化硅计，加入储层的硅酸盐的浓度大 于0重量/体积％并高达至8重量/体积％。优选，加入硅酸盐使得，硅酸盐的结果浓度以 二氧化硅计，加入储层的硅酸盐的浓度大于0. 1重量/体积％并高达至5重量/体积％。 更优选，加入硅酸盐使得，硅酸盐的结果浓度以二氧化硅计，加入储层的硅酸盐的浓度大于 0. 2重量/体积％并高达至4重量/体积％。进一步优选，加入硅酸盐使得，硅酸盐的结果 浓度以二氧化硅计，加入储层的硅酸盐的浓度大于〇. 3重量/体积％并高达至3重量/体 积％。更进一步优选，加入硅酸盐使得，硅酸盐的结果浓度以二氧化硅计，加入储层的硅酸 盐的浓度大于〇. 5重量/体积％并高达至2重量/体积％。
[0036] 储层的体积是储层的总含水体积（即，空的体积），就是，被水相占有的储层的体 积。
[0037] 术语碳酸盐使用的是它的广义解释，指的是任何含有碳酸根阴离子（C0广）的矿 物，岩石或化合物。优选，碳酸盐为含1丐碳酸盐，含镁碳酸盐或它们的混合物。优选，岩石为 碳酸盐岩石，如：石灰石和/或白云石。优选，碳酸盐矿物包括：白云石，方解石，球霰石，文 石，六水方解石，一水方解石，菱镁矿和/或五水碳镁石。
[0038] 碳酸盐基层优选含有至少5wt%碳酸盐成分，更优选至少10wt%，进一步优选至 少30wt %，最优选至少50wt %。
[0039] 用于本发明的术语"表面改性剂"指的是有机聚合物或高分子，除有机硅化合物之 夕卜，该"表面改性剂"一旦吸附到储层的表面，将改变表面的理化特征。
[0040] 在此进一步公开通过改变表面的润湿性来使得目标材料与碳酸盐基层化学键合 的方法。可以使用多组分系统使得在碳酸盐表面化学成键同时提供功能性成键和表面改 性。化合娃酸盐和有机娃分子以与碳酸盐表面进行化学反应并提供含娃层，该含娃层上可 以进一步结合目标分子。这种方法可以用于锚定目标分子如水溶性聚合物或高分子到碳酸 盐基层的表面。因此，该方法提供了 一种以娃酸盐为中介使有机娃分子依附于含碳酸盐基 层的表面的方式。
[0041] 术语"有机硅"使用它的广义解释，指的是含有碳-硅键和可水解基团（即可水解 有机硅化合物）的有机化合物。优选，可水解有机硅化合物为可水解有机硅烷。该可水解 有机硅烷化合物可以选自由水溶性有机硅烷化合物和水解在含水介质以形成水溶性硅烷 醇的有机硅烷化合物组成的组中。更优选，该有机硅化合物为烷氧基硅烷或氨基硅烷。在 本发明的实施方式中可以使用的其他适合的化合物作为可水解有机硅化合物，对本领域技 术人员来说是显而易见的，并落入本发明的范围之内。适用于本发明的有机硅化合物为具 有以下分子式的有机硅烷：
[0042]
【权利要求】
1. 一种处理包括含碳酸盐基层的地下碳氢化合物储层的方法，所述方法包括： 加入一定量的硅酸盐或含有硅酸盐的分子到所述储层中从而与所述含有碳酸盐的基 层的碳酸盐表面进行相互化学作用；其中被加入所述储层的所述硅酸盐的浓度大于0重量 /体积％并高达至8重量/体积％。
2. 根据权利要求1所述的方法，进一步包括加入一定量的有机硅化合物。
3. 根据权利要求2所述的方法，其中在被加入所述地下碳氢化合物储层之前，所述硅 酸盐或所述含有硅酸盐的分子与所述有机硅化合物进行反应。
4. 根据权利要求2或3所述的方法，其中所述有机硅化合物为具有以下分子式的有机 娃烧：
其中，X为可水解基团，选自由烷氧基，酰氧基，卤素或胺组成的组中； R为不可水解的有机自由基，选自由烧基，稀基，芳基，稀丙基，齒素，胺，硫功能基团，轻 基，醛，环氧树脂，硝基苯甲酰胺，氰基，吡啶，叠氮化物，酯，异氰酸酯，磷化氢和磷酸盐，或 多功能的或聚合物硅烷组成的组中；并且 η 为 1-4。
5. 根据权利要求4所述的方法，其中所述有机硅烷选自由 单体，水解单体，水解二聚体，和以下的水解低聚体：氨基丙基三乙氧基硅烷，氨基乙 基氣基丙基二烧氧基娃烧，烧基二烧氧基娃烧，乙稀基二烧氧基娃烧，苯基二烧氧基娃烧， 疏基二烧氧基娃烧，苯乙稀基氣基二烧氧基娃烧，甲基丙稀醜二烧氧基娃烧，环氧丙基丙基 三烷氧基硅烷，全氟三烷氧基硅烷，全氟乙醚官能三烷氧基硅烷，唑类官能三烷氧基硅烷， 四烷氧硅烷，甲基二乙基氯硅烷，二甲基二氯硅烷，甲基三氯硅烷，二甲基二溴硅烷，二乙基 -鹏娃烧，-丙基-氣娃烧，-丙基-漠娃烧，丁基二氣娃烧，苯基二漠娃烧，-苯基-氣娃 烷，甲苯基三溴硅烷，甲基苯基二氯硅烷或它们的组合，或 甲基二乙基氯硅烷，二甲基二氯硅烷，甲基三氯硅烷，二甲基二溴硅烷，二乙基二碘硅 烧，-丙基-氣娃烧，_丙基_漠娃烧，丁基二氣娃烧，苯基二漠娃烧，_苯基_氣娃烧，甲 苯基二漠娃烧，甲基苯基-氣娃烧组成的组中。
6. 根据权利要求4所述的方法，其中所述有机硅烷为氨基有机硅烷。
7. 根据权利要求2-6中任意一项所述的方法，进一步包括加入一定量的表面改性剂。
8. 根据上述任意一项权利要求所述的方法，其中加入所述储层的所述硅酸盐或所述含 有硅酸盐的分子的浓度大于0. 1重量/体积％并高达至5重量/体积％。
9. 根据权利要求7所述的方法，其中，加入所述储层的所述硅酸盐或所述含有硅酸盐 的分子的浓度大于〇. 2重量/体积％并高达至4重量/体积％。
10. 根据权利要求2-9中任意一项所述的方法，其中加入所述储层的所述有机硅化合 物的浓度小于lmol/L。
11. 根据权利要求10所述的方法，其中加入所述储层的所述有机硅化合物的浓度为 0.05-0. 2mol/L〇
12. 根据权利要求7-11中任意一项所述的方法，其中加入所述表面改性剂使得所述表 面改性剂上的活性基团与有机硅的比例为1:1. 5至1:5。
13. -种取自地下碳氢化合物储层的样品，所述样品包括：具有硅酸盐或含有硅酸盐 分子的层的含碳酸盐基层，所述硅酸盐或所述含有硅酸盐分子与所述含碳酸盐基层的至少 一部分表面进行相互化学作用。
14. 根据权利要求13所述的样品，进一步包括有机硅化合物，所述有机硅化合物与所 述硅酸盐共价键合。
15. 根据权利要求14所述的样品，其中所述有机硅化合物为具有以下分子式的有机硅 烧：
其中，X为可水解基团，选自由烷氧基，酰氧基，卤素或胺组成的组中； R为不可水解的有机自由基，选自由 烷基，烯基，芳基，烯丙基，卤素，胺，硫官能团，羟基，醛，环氧树脂，硝基苯甲酰胺，氰 基，吡啶，叠氮化物，酯，异氰酸酯，磷化氢，磷酸盐或多功能的或聚合物硅烷组成的组中；并 且 η 为 1-4。
16. 根据权利要求15所述的样品，其中所述有机硅烷选自由 单体，水解单体，水解二聚体，和以下的水解低聚体：氨基丙基三乙氧基硅烷，氨基乙 基氣基丙基二烧氧基娃烧，烧基二烧氧基娃烧，乙稀基二烧氧基娃烧，苯基二烧氧基娃烧， 疏基二烧氧基娃烧，苯乙稀基氣基二烧氧基娃烧，甲基丙稀醜二烧氧基娃烧，环氧丙基丙基 三烷氧基硅烷，全氟三烷氧基硅烷，全氟乙醚官能三烷氧基硅烷，唑类官能三烷氧基硅烷， 四烷氧硅烷，甲基二乙基氯硅烷，二甲基二氯硅烷，甲基三氯硅烷，二甲基二溴硅烷，二乙基 -鹏娃烧，-丙基-氣娃烧，-丙基-漠娃烧，丁基二氣娃烧，苯基二漠娃烧，-苯基-氣娃 烷，甲苯基三溴硅烷，甲基苯基二氯硅烷或它们的组合或， 甲基二乙基氯硅烷，二甲基二氯硅烷，甲基三氯硅烷，二甲基二溴硅烷，二乙基二碘硅 烧，-丙基-氣娃烧，_丙基_漠娃烧，丁基二氣娃烧，苯基二漠娃烧，_苯基_氣娃烧，甲 苯基二漠娃烧，甲基苯基-氣娃烧组成的组中。
17. 根据权利要求15所述的样品，其中所述有机硅烷为氨基有机硅烷。
18. 根据权利要求14-17中任意一项所述的样品，进一步包括表面改性剂，所述表面改 性剂与所述有机硅化合物共价键合。
19. 一种地下碳氢化合物储层，包括： 含碳酸盐的基层，所述基层被处理并具有硅酸盐或含有硅酸盐分子的层，所述硅酸盐 或所述含有硅酸盐分子与所述含碳酸盐基层的至少一部分表面进行相互化学作用。
20. 根据权利要求19所述的地下碳氢化合物储层，进一步包括有机硅化合物，所述有 机硅化合物与所述硅酸盐共价键合。
21. 根据权利要求19所述的地下碳氢化合物储层，其中所述有机硅化合物为具有以下 分子式的有机娃烧：
其中，X为可水解基团，选自由烷氧基，酰氧基，卤素或胺组成的组中； R为不可水解的有机自由基，选自由烧基，稀基，芳基，稀丙基，齒素，胺，硫官能团，轻 基，醛，环氧树脂，硝基苯甲酰胺，氰基，吡啶，叠氮化物，酯，异氰酸酯，磷化氢，磷酸盐或多 功能的或聚合物硅烷组成的组中；并且 η 为 1-4。
22. 根据权利要求21所述的地下碳氢化合物储层，其中所述有机硅烷选自由 单体，水解单体，水解二聚体，和以下的水解低聚体：氨基丙基三乙氧基硅烷，氨基乙 基氣基丙基二烧氧基娃烧，烧基二烧氧基娃烧，乙稀基二烧氧基娃烧，苯基二烧氧基娃烧， 疏基二烧氧基娃烧，苯乙稀基氣基二烧氧基娃烧，甲基丙稀醜二烧氧基娃烧，环氧丙基丙基 三烷氧基硅烷，全氟三烷氧基硅烷，全氟乙醚官能三烷氧基硅烷，唑类官能三烷氧基硅烷， 四烷氧硅烷，甲基二乙基氯硅烷，二甲基二氯硅烷，甲基三氯硅烷，二甲基二溴硅烷，二乙基 -鹏娃烧，-丙基-氣娃烧，-丙基-漠娃烧，丁基二氣娃烧，苯基二漠娃烧，-苯基-氣娃 烷，甲苯基三溴硅烷，甲基苯基二氯硅烷或它们的组合或 甲基二乙基氯硅烷，二甲基二氯硅烷，甲基三氯硅烷，二甲基二溴硅烷，二乙基二碘硅 烧，-丙基-氣娃烧，_丙基_漠娃烧，丁基二氣娃烧，苯基二漠娃烧，_苯基_氣娃烧，甲 苯基二漠娃烧，甲基苯基-氣娃烧组成的组中。
23. 根据权利要求21所述的地下碳氢化合物储层，其中所述有机硅烷为氨基有机硅 烧。
24. 根据权利要求20-23中任意一项所述的地下碳氢化合物储层，进一步包括表面改 性剂，所述表面改性剂与所述有机硅化合物共价键合。
25. -种处理包括含碳酸盐基层的地下碳氢化合物储层的组合物，所述组合物包括： 一定量的硅酸盐或含有硅酸盐的分子从而与所述含有碳酸盐的基层的碳酸盐表面进 行相互化学作用； 一定量的有机娃化合物； 其中所述硅酸盐或含有硅酸盐的材料可以与所述有机硅化合物进行化学反应。
26. 根据权利要求25所述的组合物，其中所述硅酸盐或所述含有硅酸盐的分子含有具 有至少一个硅-氧键的阴离子。
27. 根据权利要求25或26所述的组合物，其中所述有机硅化合物为具有以下分子式的 有机娃烧：
其中，X为可水解基团，选自由烷氧基，酰氧基，卤素或胺组成的组中； R为不可水解的有机自由基，选自由烧基，稀基，芳基，稀丙基，齒素，胺，硫官能团，轻 基，醛，环氧树脂，硝基苯甲酰胺，氰基，吡啶，叠氮化物，酯，异氰酸酯，磷化氢，磷酸盐或多 功能的或聚合物硅烷组成的组中；并且 η 为 1-4。
28. 根据权利要求27所述的组合物，其中所述有机硅烷选自由 单体，水解单体，水解二聚体，和以下的水解低聚体：氨基丙基三乙氧基硅烷，氨基乙 基氣基丙基二烧氧基娃烧，烧基二烧氧基娃烧，乙稀基二烧氧基娃烧，苯基二烧氧基娃烧， 疏基二烧氧基娃烧，苯乙稀基氣基二烧氧基娃烧，甲基丙稀醜二烧氧基娃烧，环氧丙基丙基 三烷氧基硅烷，全氟三烷氧基硅烷，全氟乙醚官能三烷氧基硅烷，唑类官能三烷氧基硅烷， 四烷氧硅烷，甲基二乙基氯硅烷，二甲基二氯硅烷，甲基三氯硅烷，二甲基二溴硅烷，二乙基 -鹏娃烧，-丙基-氣娃烧，-丙基-漠娃烧，丁基二氣娃烧，苯基二漠娃烧，-苯基-氣娃 烷，甲苯基三溴硅烷，甲基苯基二氯硅烷或它们的组合或 甲基二乙基氯硅烷，二甲基二氯硅烷，甲基三氯硅烷，二甲基二溴硅烷，二乙基二碘硅 烧，-丙基-氣娃烧，_丙基_漠娃烧，丁基二氣娃烧，苯基二漠娃烧，_苯基_氣娃烧，甲 苯基二漠娃烧，甲基苯基-氣娃烧组成的组中。
29. 根据权利要求27所述的组合物，其中所述有机硅烷为氨基有机硅烷。
30. 根据权利要求25-29中任意一项所述的组合物，进一步包括一定量的表面改性剂， 所述表面改性剂可以或可以不与所述有机硅化合物共价键合。
【文档编号】C09K8/00GK104105776SQ201280068565
【公开日】2014年10月15日 申请日期:2012年12月21日 优先权日:2011年12月21日
【发明者】C·伍德, K·科泽尔斯基, K·法姆, G·A·阿尔-茫塔舍里 申请人:联邦科学与工业研究组织, 阿美海外有限责任公司