基板架回传装置及基板架回传方法与流程

本发明涉及一种回传装置和回传方法，具体涉及一种基板架回传装置及基板架回传方法。

背景技术：

在光伏行业里所用生产型磁控溅射沉积设备主要分为卧式磁控溅射镀膜机和立式磁控溅射镀膜机两种，其中以卧式为首，其主要优点是整体膜层均匀性好，缺点是占地空间大；针对于陶瓷靶材，在制程过程中靶材掉渣现象不可避免，玻璃膜层边缘容易出现打火现象，严重影响成膜质量，为避免打火现象的发生，需要附加基板架对玻璃边缘进行遮挡来解决，而添加基板架的同时需要加设回传系统以实现自动化控制，但因厂区空间有限，无法外设基板架回传系统和能否实现自动化成了难题。

为解决上述问题，现有的处理方法是，在卧式磁控溅射镀膜机的进口端和出口端设置缓存室，其主要的回传系统在卧式磁控溅射镀膜机的侧面，由于这种设计占地面积非常大，因此需要提前预留空间，对于已投产设备无法实现。

技术实现要素：

本发明的目的是提供一种基板架回传装置，以解决现有技术中的技术问题，它能够实现基板架的回传功能，实现自动化生产，且可以有效利用现有镀膜机的底部空间，减少占地面积，有效解决已投产镀膜设备的改造问题。

本发明的另一目的是提供一种基板架回传方法，通过该方法实现基板架的自动回传，实现自动化生产。

本发明提供了一种基板架回传装置，包括基板架传送装置和基板架升降装置，所述基板架传送装置设置在镀膜设备的底部，所述基板架传送装置的两端分别设有一个所述基板架升降装置，当所述基板架升降装置升起后与所述镀膜设备上的传送带连接。

一种可选的实施方式中，所述基板架传送装置为皮带机。

一种可选的实施方式中，所述基板架传送装置包括第一回传主体和支撑腿，所述支撑腿固定设置在所述第一回传主体的底部；所述基板架升降装置包括第二回传主体和升降装置，所述升降装置设置在所述第二回传主体的底部。

一种可选的实施方式中，所述第一回传主体与所述第二回传主体的结构相同，均包括架体、传送轮、转轴和驱动电机，所述架体的两侧设有安装槽，两个所述安装槽内均设有所述传送轮，其中一个所述安装槽内的所述传送轮通过所述转轴与另一个所述安装槽内的所述传送轮连接，任意相邻两根所述转轴通过皮带连接，所述驱动电机固定安装在所述架体上，其输出轴与其中一根所述转轴连接。

一种可选的实施方式中，所述传送轮为槽轮，基板架的底部设有两根平形布置的导杆，两根所述导杆分别与两个所述安装槽内的所述槽轮配合。

一种可选的实施方式中，所述升降装置为液压缸或气缸或电动推拉杆。

一种应用于前述基板架回传装置的基板架回传方法，包括以下步骤：

步骤1，基板架上升，位于镀膜设备进口端的基板架升降装置将基板架举升，并传送至传送带上；

步骤2，基板架传送，所述传送带将所述基板架从所述镀膜设备的进口端传送至出口端，并将所述基板架传送至位于所述镀膜设备出口端的基板架升降装置上；在所述基板架被传送的过程中，所述镀膜设备进口端的所述基板架升降装置下降至预设位置；

步骤3，基板架下降，位于所述镀膜设备出口端的所述基板架升降装置带着所述基板架下降，并将所述基板架传送至基板架传送装置上；

步骤4，基板架回传，所述基板架传送装置将所述基板架从所述镀膜设备的底部回传至位于所述镀膜设备进口端的所述基板架升降装置上，完成一个工作循环；在所述基板架回传的过程中，所述镀膜设备出口端的所述基板架升降装置上升至预设位置。

一种可选的实施方式中，在所述步骤2中，所述镀膜设备进口端的所述基板架升降装置的预设位置为与所述基板架传送装置平齐的位置。

一种可选的实施方式中，在所述步骤4中，所述镀膜设备出口端的所述基板架升降装置的预设位置为与所述传送带平齐的位置。

与现有技术相比，本发明提供了一种基板架回传装置，包括基板架传送装置和基板架升降装置，基板架传送装置设置在镀膜设备的底部，基板架传送装置的两端分别设有一个基板架升降装置，当基板架升降装置升起后与镀膜设备上的传送带连接。

将基板架传送装置设置在镀膜设备的底部可以有效利用镀膜机底部的空间，无需单独占用空间，适用于已投产的镀膜设备。无论是对已投产镀膜设备的改造还是新设置的镀膜设备，均具有占地空间小的优点，而且通过基板架升降装置的设置，可以实现基板架的自动回传，无需设置基板架存储匣，基板架可以被重复使用，无需人工操作，提高了自动化程度。

本发明还提供了一种使用上述基板架回传装置实现基板架回传的方法，通过该回传方法实现了基板架的自动回传，使全自动镀膜得以实现。

附图说明

图1是基板架回传装置的整体结构轴测图；

图2是基板架传送装置的轴测图；

图3是基板架升降装置的轴测图。

附图标记说明：1-基板架传送装置，2-基板架升降装置，3-镀膜设备，4-传送带，5-张紧轮，6-支撑腿，8-升降装置，9-架体，10-传送轮，11-转轴，12-驱动电机，13-安装槽，14-皮带，15-基板架，16-导杆。

具体实施方式

下面详细描述本发明的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本发明，而不能解释为对本发明的限制。

本发明的实施例：如图1和图2所示，一种基板架回传装置，包括基板架传送装置1和基板架升降装置2，基板架传送装置1设置在镀膜设备3的底部，基板架传送装置1的两端分别设有一个基板架升降装置2，当基板架升降装置2升起后与镀膜设备3上的传送带4连接。

工作时，位于镀膜设备3进口端的基板架升降装置2带着基板架15上升，当基板架升降装置2上升至与传送带4平齐时停止上升，基板架升降装置2开始传送基板架15，将基板架15传送至传送带4上，然后该基板架升降装置2下降，并与基板架传送装置1对接，然后将玻璃基片放置在基板架15上，基板架15在传送带4的带动下进入镀膜设备3对玻璃基片进行镀膜，当完成镀膜后，基板架15带着玻璃基片从镀膜设备3的出口端出来，并传送至位于出口端的基板架升降装置2上，通过人工或机械设备将镀膜后的玻璃基片卸下后，基板架升降装置2带着基板架15下降，当与基板架传送装置1对接后，将基板架15传送至基板架传送装置1上，然后该基板架升降装置2上升，等待接取下一个基板架15，基板架传送装置1将基板架15传送至位于镀膜设备3进口端的基板架升降装置2上，此时完成一个工作循环。

该装置完美解决了基板架的回传工作，由于占地面积较大的基板架传送装置1设置在镀膜设备3的下方，充分利用了现有空间，解决了已投产的镀膜设备的基板架回传问题，具有结构简单和占地面积小的优点，实现了基板架的自动回传，无需设置基板架存储匣，基板架可以被重复使用，无需人工操作，提高了自动化程度。

需要说明的是，基板架传送装置1可以采用多种结构形式，例如采用皮带机或传送带或其它具备转运功能的设备。下面本实施例提供一种优选方案，如图2和图3所示，基板架传送装置1与基板架升降装置2结构大体相同，其中基板架传送装置1包括第一回传主体和支撑腿6，支撑腿6固定设置在第一回传主体的底部；可选的，支撑腿6为可折叠的支撑腿，基板架升降装置2包括第二回传主体和升降装置8，升降装置8设置在第二回传主体的底部，升降装置8既可采用液压缸也可采用气缸或电动推拉杆，本实施例优选采用液压缸；第一回传主体与第二回传主体的结构相同，均包括架体9、传送轮10、转轴11和驱动电机12，架体9的两侧设有安装槽13，两个安装槽13内均设有传送轮10，其中一个安装槽13内的传送轮10通过转轴11与另一个安装槽13内的传送轮10连接，转轴11沿架体9的宽度方向布置，任意相邻两根转轴11之间通过皮带14连接，具体地，每根转轴11的端部均设有两个皮带轮，其中一个用于与左侧的转轴11上的皮带轮连接，另一个用于与右侧的转轴11上的皮带轮连接，为了防止皮带14打滑，还可在两根转轴11之间设置张紧轮5，张紧轮5的位置可调，实现对皮带14松紧度的调节。驱动电机12固定安装在架体9上，其输出轴与其中一根转轴11连接。

工作时，驱动电机12带动其中一根转轴11旋转，由于任意相邻两根转轴11之间均通过皮带14连接，因此所有的转轴11均沿同一方向转动，同时带动其上的传送轮10转动，传送轮10便可带着基板架15移动，实现基板架15的传送。

为了保证基板架15能够按照规定路线移动，防止其跑偏，优选地，传送轮10采用槽轮，基板架15的底部设有两根平形布置的导杆16，两根导杆16分别与两个安装槽13内的槽轮配合。这样基板架15底部的导杆16便可沿着传送轮10上的沟槽移动，有效防止跑偏，而且二者之间的接触面积增大，增加了摩擦力，还可以起到防止打滑的作用。

结合上述实施方式，本发明还提供了一种应用于上述基板架回传装置的基板架回传方法，包括以下步骤：

步骤1，基板架上升，位于镀膜设备3进口端的基板架升降装置2将基板架15举升，并传送至传送带4上；

步骤2，基板架传送，所述传送带4将所述基板架15从所述镀膜设备3的进口端传送至出口端，并将所述基板架15传送至位于所述镀膜设备3出口端的基板架升降装置2上；在所述基板架15被传送的过程中，所述镀膜设备3进口端的所述基板架升降装置2下降至预设位置，该预设位置是指与基板架传送装置1平齐的位置；

步骤3，基板架下降，位于所述镀膜设备3出口端的所述基板架升降装置2带着所述基板架15下降，并将所述基板架15传送至基板架传送装置1上；

步骤4，基板架回传，所述基板架传送装置1将所述基板架15从所述镀膜设备3的底部回传至位于所述镀膜设备3进口端的所述基板架升降装置2上，完成一个工作循环；在所述基板架15回传的过程中，所述镀膜设备3出口端的所述基板架升降装置2上升至预设位置，该预设位置是指与传送带4平齐的位置。

以上依据图式所示的实施例详细说明了本发明的构造、特征及作用效果，以上所述仅为本发明的较佳实施例，但本发明不以图面所示限定实施范围，凡是依照本发明的构想所作的改变，或修改为等同变化的等效实施例，仍未超出说明书与图示所涵盖的精神时，均应在本发明的保护范围内。