一种用于生产化妆品外盖的模具的制作方法

文档序号:11822995阅读:426来源:国知局
一种用于生产化妆品外盖的模具的制作方法与工艺

本实用新型涉及模具技术领域,尤其涉及一种用于生产化妆品外盖的模具。



背景技术:

目前,化妆品的外盖一般采用模具一次浇注成型,普通的模具在浇注结束后会在浇注的产品上留下浇口,导致浇注成型的外盖外形难看。同时,现有的模具一般是定模固定不动,动模相对于定模移动至能够取出产品的位置,然后取出浇注后的产品。当产品的高度较大时,动模相对于定模移动的位移大,增加了脱模难度,且开模成本高。



技术实现要素:

为了解决上述现有技术存在的缺点和不足,本实用新型提供了一种便于开模的用于生产化妆品外盖的模具。

为了实现上述技术目的,本实用新型提供的用于生产化妆品外盖的模具,自下而上依次包括模座、模脚、托板、推板、A板、压板、水口板及面板,面板的顶面上设有浇口,托板和推板之间的接触面为开模面;所述A板上设有上模芯,上模芯的底部设有上模腔;所述托板上设有与上模芯配合的下模芯,下模芯的顶部设有与上模腔对应的下模腔;所述上模芯内设有拉料针,拉料针的顶部向上延伸至浇口并与浇口连通,拉料针的底部向下延伸至下模腔的顶面;还包括套装于上模芯外部的上模套,上模套上设有与上模芯配合的空腔。所述推板、A板及压板上均设有与上模套的空腔连通的气路。

优选的,所述下模芯内设有水路。

优选的,所述用于生产化妆品外盖的模具还包括用于限位开模距离的限位装置。

优选的,所述限位装置包括限位杆、固定柱和定位柱,限位杆上设有长度方向竖直的限位槽,限位杆的顶端通过固定柱固定连接于推板的侧壁,定位柱固定于托板的侧壁上且伸入限位槽中。

优选的,所述固定柱和定位柱上固定有螺母。

优选的,所述面板在浇口内设有浇口套。

优选的,所述面板的顶面上固定有与浇口对应的定位圈。

采用上述技术方案后,本实用新型提供的用于生产化妆品外盖的模具具有以下技术效果:

1、在压板、A板和推板上设置气路,脱模时,气路和推板一起对浇注成型后的外盖进行脱模,提高脱模成功性和脱模效率;

2、在托板和推板之间设置用于控制开模距离的限位装置,避免开模时因动模移动距离过大导致动模和定模之间产生偏差不利于合模,提高模具整体的稳定性;

3、在下模芯上设置水路,可以有效缩短浇注材料从浇注完成至冷却成型所需的时间,提高生产效率。

附图说明

图1为本实用新型用于生产化妆品外盖的模具实施例的立体图;

图2为本实用新型用于生产化妆品外盖的模具实施例的整体结构示意图。

图中,1-模座,2-模脚,3-托板,4-推板,5-A板,6-压板,7-水口板,8-面板,9-浇口,10-上模芯,11-下模芯,12-拉料针,13-上模套,14-气路,15-水路,16-限位杆,17-固定柱,18-限位柱,19-限位槽,20-浇口套,21-定位圈,C-开模面。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步说明。

如图1、2所示,本实用新型实施例提供的用于生产化妆品外盖的模具,自下而上依次包括模座1、模脚2、托板3、推板4、A板5、压板6、水口板7及面板8,托板3和推板4之间的接触面即为开模面C。

面板8的顶部设有浇口9,面板在浇口9内设有浇口套20,面板的顶面上固定有与浇口9对应的定位圈21。

A板上设有上模芯10,上模芯的底部设有上模腔。托板3上设有与上模芯10配合的下模芯11,下模芯的顶部设有与上模腔对应的下模腔。上模芯内设有拉料针12,拉料针的顶部向上延伸至浇口9并与浇口连通,拉料针的底部向下延伸至下模腔的顶面。

A板5上还设有套装于上模芯10外部的上模套13,上模套13上设有与上模芯10配合的空腔。

本实施例中,为了提高浇注后成型的化妆品外盖的脱模效率,推板4、A板5及压板6上均设有与上模套的空腔连通的气路14。

本实施例中,为了加快化妆品外盖的成型效率、节约成型时间、提高浇注效率,下模芯11内设有水路15。

本实施例提供的用于生产化妆品外盖的模具实施例还包括用于限位开模距离的限位装置,限位装置包括限位杆16、固定柱17和定位柱18,限位杆上设有长度方向竖直的限位槽19,限位杆的顶端通过固定柱17固定连接于推板4的侧壁,定位柱18固定于托板3的侧壁上且伸入限位槽19中,固定柱17和定位柱18伸出限位杆的端部上还固定有螺母。

本实施例中,上模为动模,下模为定模。开模时,上模移动到位后,气路和推板同时作用,气路向上模套的空腔内通气,推板移动使浇注成型后的化妆品外盖脱模,同时配备机械手用于取拿脱模的外盖,自动化程度高,无需人工辅助,生产效率高。由于进料口设于外盖的内表面上,浇注成型的化妆品外盖外形美观。

本实施例中未提及的浇注结构、浇注方式、开模结构和开模方式等参考现有的模具技术。总之,以上所述仅为本实用新型的较佳实施例,凡是依据本实用新型所作的均等变化与修饰,皆应属于本实用新型申请专利的保护范围。

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