专利名称：用于烧结烧结料的设备和方法
技术领域：
本发明涉及用于烧结烧结料的设备，包括具有作为第一内腔的容纳烧结料的内腔的设置在底板上的容纳烧结料的托盘，围绕该托盘的钵状罩体，其边缘相对于底板被密封，与被钵状罩体包围的作为第二内腔的内腔相连的保护气体导入口和-导出口以及围绕钵状罩体与底板的烧结空间作为第三内腔。此外，本发明涉及用于烧结料的烧结方法，所述烧结料如易氧化材料，特别是金属的烧结料，特别是以牙科框架的形式，使用这样一种设备:其包含一个布置在底板上的托盘，将烧结料引入该托盘作为第一内腔的内腔中，包围所述托盘的钵状罩体，其边缘相对于底板被密闭，以及与被罩体包围的作为第二内腔的内腔相连的保护气体导入口和-导出口，其中将该被钵状罩体所包围的第二内腔用保护气吹扫。
背景技术：
上述类型的设备和方法可以由DE202010007606 Ul和DE202010002533 Ul获悉。
为此，在烧结炉中将由石英构成的托盘建于耐火泥砌块的支架上，在该托盘中烧结银-钯合金或铬-钴合金的牙科框架。所述耐火泥砌块和托盘为石英容器所包围，该容器通过石墨密封装置相对于布置在耐火泥砌块上的底板密封。底板和耐火泥砌块都被穿孔，以使被石英容器包围的石英托盘位于其中的内腔用保护气如氩气吹扫。为了防止框架的氧化，该烧结在保护气气氛下进行。在这种情况下，在约1200°C的温度下会出现不希望的石英的腐蚀，因此将它在事先用氮化硼喷剂涂覆。将待烧结的材料放置在得自刚玉、氧化铝或氧化锆的惰性珠上的托盘中。相应的设备表现出如下缺点，在高于1200°C的温度下的使用是不可能的，因为一方面，石英的使用寿命在相应的温度下受到严重的限制，而另一方面如果与手指油脂直接接触，则由于石英材料的处理导致爆裂。DE20 2011106734 Ul涉及一种用于金属或陶瓷的无氧烧结的设备，并包括一个在其上支撑一个顶罩的底板。在该顶罩中，在载物板上支撑了一个可引入烧结料的烧结坩埚。此外具有保护气的导入口和-导出口。作为该设备的材料提供了石英玻璃或重结晶的碳化硅。WO 94/16642 Al涉及一种煅烧窑，在其中布置了一个燃烧室，其顶部被一个盖子覆盖，如果在燃烧室内弓I入保护气体，则气体能够流过所述盖子。EP 2 101 133 Al的主题是一种用于牙科制品的烧结炉。DE 102008012578 Al涉及一种牙科炉，用该炉施行不同的加热周期。在此可以实现加热功率的过冲。DE202011005465 Ul涉及一种用于金属或陶瓷的无氧烧结的设备。这里，将烧结料嵌入存在于烧结容器中的烧结粒料中，所述烧结粒料例如可以由锆石小球组成
发明内容
本发明的目的在于，如此扩展上述类型的设备和方法，以至于避免了现有技术的缺点，特别是在1200°c以上的温度也可以没有问题地进行烧结。同样应该确保阻止不希望的烧结料的变色或氧化反应。根据设备，该目的基本上如此得以解决，使托盘被封闭部件所覆盖，并且使该第一内腔在覆盖托盘的封闭部件处与第二内腔以气流相连。本发明尤其涉及用于烧结烧结料的设备，所述设备包括具有作为第一内腔的容纳烧结料的内腔的设置在底板上的容纳烧结料的托盘，围绕该托盘的钵状罩体，其边缘相对于底板被密封，与被钵状罩体包围的作为第二内腔的内腔相连的保护气体导入口和-导出口以及围绕钵状罩体与底板的烧结空间作为第三内腔，其特征在于，所述托盘被封闭部件覆盖，并且使该第一内腔在覆盖托盘的封闭部件处与第二内腔以气流相连。按照根据本发明的教导，烧结料的烧结在被由托盘包围的被称为第一内腔的内腔中进行，其中该托盘由封闭部件覆盖。尽管第一内腔是惰性气体可以流经的，但是将干扰如氧气到达托盘内部的风险大大降低。尤其提供了，将罩体直接用其边缘气密地或形状锁合地支撑在底板上。所述罩体的边缘以及底板在一定程度上被磨平，前者可以无需附加的密封件直接平放在底板上，以获得一定程度的密封，据此，氧气没有或基本上没有可能渗入被罩体包围的并被称为第二内腔的内腔中。通过这些措施确保了，氧气无法或很大程度无法从外部到达罩体的(第二个)内腔，其也可被称为钟罩中，并因此也无法或很大程度无法到达被托盘所包围的(第一)内腔中。此外应强调的是，至少托盘及其封闭部件如盖子，但特别是底板、托盘、封闭部件和钵状或罩形或钟罩形的罩体由得自碳化硅、氮化硅的材料组成。通过这样的材料选择产生如下优点，即该烧结可以在高于1200°C，特别是最高1350°C的温度下进行，而无材料损坏。特别优选使用碳化硅，因为其显示出对氧气的还原效果。根据本发明的一个扩展方案，可以将导入托盘和钵状罩体之间的间隙中的惰性气体，其尤其应该是氩气，但任选也可以是氮气，从由罩体包围的第二内腔直接导入包围底板与罩体的烧结空间，即被称作第三内腔的烧结炉内腔中。这导致在烧结炉的烧结空间(第三内腔)中进一步的氧气浓度降低。也使得氧气渗入罩体的(第二)内腔中变得困难。本发明的一个扩展方案提供了，将托盘支撑在具有开口的环上，所述环就它而言被布置在底板上，其中优选保护气体导入口和任选的保护气体导出口在环内穿过底板。或者提出，从托盘或其底壁伸出突起，优选至少三个在圆形上均匀分布的突起，在底板上经由所述突起支撑托盘。通过相关的措施来确保，底板能够在整个表面上具有均匀的厚度，以此停止由于烧结时出现的温度变化而形成裂纹的风险。此外，本发明的特征在于，托盘中的烧结料被放置在颗粒材料上，所述颗粒材料由陶瓷，特别是氧化锆或氧化铝制成的实心球构成。由二氧化锆得到的优点在于，其在隔绝氧气的情况下部分转化为一氧化锆。这些通过氧气缺失而产生的空位导致颜色变暗。令人惊讶的是，这个最初的氧气释放没有不利的影响，并且可以在后期起还原作用并作为指示剂来使用，因为该效果在氧气渗入的情况下是可逆的。
按照根据本发明的教导将确保，在1200°C及更高，特别是在约1250°C的温度下，可以进行金属合金，特别是钴-铬合金，如钴-铬-钥合金的烧结，而不会产生氧化和不受控制的变色的危险。在此，将烧结料布置在托盘中，所述托盘具有封闭其的封闭部件，其中确保使容纳烧结料的托盘的(第一)内腔被保护气吹扫，以赶走可能存在的氧气。所述封闭部件如盖子般起作用或是一个盖子。如果优选地，没有将覆盖托盘的封闭部件严密地布置在托盘上，则也可以实现严密的放置，只要例如在封闭部件中提供例如通过激光形成的细小的孔，通过它使保护气的交换变得可能。另外存在用保护气吹扫钵状或钟罩状罩体，也就是所谓的钟罩的可能性，所述吹扫从罩体的(第二)内腔向外进行。尤其是也具有这样的优点，即该材料适合于在高温下的烧结，其中由于还原效果尤其可突出碳化硅。或者任选同样可以使用氮化硅。上述提及类型的方法的特征在于，在引入烧结料之后用封闭部件覆盖托盘，使得保护气由此或至少通过该封闭部件上的一个开口或通过托盘上的一个开口渗透到托盘，也就是第一内腔的内部，并且将钵状罩体的(第二)内腔用无法使罩体抬升的保护气过压，特别是用高于环境压力的具有I毫巴< P < 25毫巴，特别是2毫巴< p < 10毫巴的过压p加载。特别提供作为烧结料用于较大的物体，特别是牙桥框架(zahntechnischesBriickengeriist),特别是具有至少三个桥节(Briickengliedern),优选至少五个桥节的桥式框架(Briickenge riiste),并且将容纳在该设备，即烧结室包围的设备中的烧结料以5开/分钟彡R1彡100开/分钟，特别是20开/分钟彡R1彡80开/分钟的加热速率R1,从室温Tz加热至T1，其中800°C彡T1 ( 1100°〇，在1\温度下任选I分钟彡( 10分钟的保持时间h之后以5开/分钟彡R2 < 30开/分钟的加热速率R2升高到1200°C ^ T2 ^ 1350°C的温度T2,使烧结料在温度T2下保持5分钟< t2 < 120分钟，特别是15分钟< t2 ( 50分钟的时间t2，其中任选随后将烧结料，也就是在保持时间t2之后加热到温度T3，其中T3XT2，用以熔化烧结料的表面，然后从温度T2或者T3以冷却速度R3冷却到低于400°C的温度，该冷却速度优选至少在冷却开始时为5开/分钟彡R3彡100开/分钟。然后冷却达到室温Tz。本发明还提供的是，将烧结料在包围设备的烧结室里从室温以加热速率R1加热到温度T2如1200°C彡T2 ( 1350°C用以烧结，在温度T2下保持5分钟彡t2 ( 220分钟，特别是15分钟< t2 ( 60分钟的时间t2，其中任选随后将烧结料，也就是在保持时间之后加热至IJ温度T3，其中T3>T2，用以熔化烧结料的表面，然后从温度T2或者T3以冷却速度R3冷却到低于400°C的温度，其中该冷却速度优选最初为5开/分钟彡R3彡100开/分钟。在此特别提供的是，将加热速率R1设置为5开/分钟彡R1彡100开/分钟，特别是20开/分钟< R1 < 80开/分钟的值。所述加热到温度T1和任选保持在温度T1下，以便随后继续被加热到温度T2，优选对较大的物体如桥式框架施行。在烧结较小物体时，如一颗牙的框架(Geriiste)，所述以任选不同的加热速率首先至IJ温度T1以及随后到温度T2的加热可以改变如下，即直接加热到温度T2。可以不取决于物体大小而施行的表面的短时间熔化是自身创造性的提议，在使用不同于根据本发明的教导的设备用于烧结时也可以获得应用。此外可提供，在烧结料冷却到温度T1之后将带有托盘的底板，其封闭部件及罩体至少部分地，优选完全地从烧结室移除。所述烧结室可以是被称为第三内腔的烧结炉的内腔。与前面所给出的温度和加热速率无关，作为自身创造性的标志还可以强调的是存在这样的可能性，即在致密烧结之后施行另外的加热，以此使烧结料表面熔融，以获得所需的表面特性。在托盘内部的短时间高温导致表面的熔化，以至于框架上的表面显得几乎如已经牙科技术抛光了 一般。特别是提供了，将保护气的入口和/或-出口与导入管或导出管相连接，它由氧化铝制成。在这里可以将管道用特别是基于氧化铝的高温粘合剂与底板粘接。在选择SiC作为底板、罩体、托盘及其封闭部件用的材料时，利用了材料良好的导热性和几乎完全的密实性。因此，使组件内的温度差异最小化。由此降低热应力。因此，即使在例如直径为100毫米的大型部件的情况中，快速的温度变化也是可行的。此外碳化硅表现出还原效果，并且能够将气氛中的残余氧用所含有的碳转化成一氧化碳。这种效果是不会消失。同时，没有发现可测量的材料的壁厚的减少。烧结料在非密实封闭的烧结托盘中的存储改善了烧结结果。改善的原因可能是建成了配备有对氧具有还原性的壁的内腔。它减弱了氧气造成的干扰。相应的干扰不能再直接到达烧结料。这提高了消除并因此减轻干扰的可能性。经控制的惰性气体的供给和排放确保了，罩体中的内压不能如此增加，使得罩体被抬起。以这种方式实现了排除氧气。替代一个或多个在底板上的保护气排气口，也可以在罩体上存在例如至少一个通过激光形成的孔，以能够有控制地排出保护气。与常规技术不同，没有将空心球用于在托盘中放置烧结料。空心球会储存氧气并且因此在高温下使烧结料的紧邻空间中毒。根据本发明，采用无法存储氧气的实心球。在此，氧化锆作为球的材料展示出令人惊讶的合适，虽然其最初在氧气贫乏的气氛中倾向于释放氧。在例如通过一个温度循环而获得的氧气释放之后，相应的得自氧化锆的实心球显示出对氧的还原效果。为了在底板上按序定位罩体和托盘，现有技术通常提供多个梯级(Stufen)。本发明放弃了它们并使用了一块平板，可以以简单的方式将其与罩体接触面的区域抛光，从而实现一定程度的密封，使得氧气的渗透由此没有或基本上没有可能。由于不存在梯级，在底板上也没有厚度的差异，以至于因此减少了热应力。本发明其它的细节、优点和特征不仅由单独的和/或组合的其中获悉特征的权利要求中获悉，而且由以下对优选的实施例的
获悉。
图中:
图1显示了用于烧结烧结料的设备的第一种实施方式，
图2显示了相应设备的第二种实施方式和 图3为时间-温度图。
具体实施例方式在图1和图2中，其中原则上对于相同的部件使用相同的附图标记，分别纯粹原则性地表示了设备10、100的实施方式，所述设备用于烧结金属烧结料，特别是牙齿框架。如由图1原则性给出的，设备10 -对应于设备100 -位于由墙体的片段15、17原则性表示的烧结炉的内腔或烧结室12中。在也被称作第三内腔的烧结室12中，调节所需的温度，以将存在于设备10、100中的烧结料烧结到需要的程度。设备10由底板14，一个被称作钟罩的钵状或罩盖式的罩体16，一个具有U形横截面的托盘18以及被称作封闭部件的盖子20组成，借助于该封闭部件原则上并未将托盘18完全紧密地密封。此外，将托盘18通过一个环22支撑在底板14上。所述环22具有凹部24、26、28，由此形成被罩体16包围的内腔30 -被称作第二内腔-与被环22包围的内腔32之间的连接。将在图1中没有显示的烧结料布置在被托盘18包围的并由盖子20封闭的被称为第一内腔的内腔34中。按照根据本发明的教导，底板14、罩体16、托盘18、盖子20以及环22优选由SiC制成，虽然作为替代材料也可以考虑SiN。将底板14和罩体16的周边边缘36在一定程度上磨平，以确保罩体16在底板14上产生形状锁合。以此防止氧气渗入的理由。根据本发明，盖子20不应该将托盘18的(第一)内腔34完全封闭，使得在由托盘18与罩体16之间延伸的(第二)内腔30与被托盘18所包围的第一内腔34之间空气动力学地形成连接。如果盖子20封闭地位于托盘18上，则盖子20具有至少一个开口，以便能够对托盘18的内腔34进行吹扫。在托盘18上的开口是等效的。为了防止氧化及变色，将保护气体例如氩气或氮气经由实施例中的存在于底板14上的开口 38导入第二内腔30。该保护气到达被托盘18所包围的第一内腔34，因为如上所述，盖子20没有封闭托盘18。替代地或补充地，保护气经由在盖子20上和/或在托盘18的壁上的至少一个开口到达。然后，导入第二内腔30中的气体经由优选同样存在于底板14上的开口流出。然而也存在这样的可能性，在罩体16的周边壁中，例如借助于激光形成至少一个开口，经由该开口使气体流出。在这种情况下，优选如此将流出的气体导入烧结室12 -也就是第三内腔中，以至于罩体16至少在周边边缘30的范围内被保护气吹扫。由于盖子20没有密封地放在托盘18上，保护气可以流入被托盘18包围的放有烧结料的第一内腔34中。然而同时降低氧的渗透(干扰)。对于所述至少一个开口这同样适用。相对于环境，(第二)内腔30应具有升高的压力，其中过压可优选在I毫巴和25毫巴之间，特别是在2毫巴和10毫巴之间。图2的实施例与图1的实施例区别如下，即托盘18并非支撑在环22上，而是通过从托盘18的底壁40伸出的突起42、44来支撑的。这里特别提供了三个突起，它们被均匀分布布置在圆周上。在其它方面与图1的实施方式一致，因此参阅相关说明。通过托盘18在环22上或经由突起42、44的支撑产生如下优点，即底板14具有均匀的厚度，因此避免了厚度差异并由此降低了内部应力。为了使在烧结时存在于第一内腔34中的烧结料46不接触托盘18的内表面，在底壁40的内侧48，即底表面上引入球状颗粒材料50，它由实心球，即不由空心球组成。作为材料可以考虑优选氧化铝或氧化锆。实心球具有的优点是，不能保存氧气。这也适用于氧化锆球，尽管它在氧气贫乏的气氛中倾向于开始释放氧气。但是在释放氧气后其显示出还原效果。作为尤其由碳化硅构成的组件的优选尺寸可给出:
底板14:直径90毫米至110毫米，厚度2至4毫米；
罩体16:外径95毫米至105毫米，壁厚3毫米至5毫米，高度50毫米至55毫米；
环22:4毫米到8毫米，外径60毫米至70毫米，壁厚3毫米至5毫米；
烧结托盘18:高度30毫米至35毫米，外径80毫米至90毫米，壁厚3毫米至5毫米；盖子20:与托盘18相同的外径，在边缘区域中的厚度2毫米至5毫米，中间区域的厚度4毫米到8毫米。如从绘出的图示可知，托盘18的外表面与罩体16的内表面之间的距离可选择相对小。这具有的优点是，由此将额外阻止氧气渗入托盘18的(第一)内腔34中，当保护气排气开口位于并穿过罩体16的边缘区域时尤其如此。图3展示了为烧结烧结料46的加热曲线和冷却曲线。根据图3的曲线适用于烧结较大的物体。作为例子，可提及具有4节(Gliedern)的牙桥框架。纯原则性地得出，首先将烧结炉并由此烧结室12也因此烧结料46从室温Tz加热至温度T1，其中在钴-铬合金作为材料用于烧结料46时T1在800°C到1100°C之间。该加热速率应优选介于20开/分钟到80开/分钟之间。在温度T1，将烧结料46保持在I分钟到10分钟之间的时间A。随后以5开/分钟到30开/分钟之间的加热速率进行从温度T1到1200°C到1350°C之间的温度T2的加热。在温度T2下，将烧结料46保持5分钟到120分钟之间的时间t2并随后冷却到低于400°C的温度，其中应选择至少一个在5开/分钟到100开/分钟的冷却速率。然后冷却到室温，其中优选从烧结室12取出设备10、100。为此可将设备10、100降低，如通过双箭头52表示的。任选可将烧结料在冷却到T1之后在温度T1下保持I分钟到10分钟的时间。之后冷却至室温Tz。从图3中的原理图获知，可以将烧结料在达到烧结温度T2后短时间加热到更高的温度T3 (虚线区域)，以实现表面的熔化。该短期的有针对性的熔融可在保持时间t2期间，优选在保持时间&之后进行。由图3得出后者。在烧结较小物体时，如一颗牙的框架，用任选彼此不同的加热速率加热到温度1\、保持在此温度下以及随后进一步加热到温度T2是没有必要的。而是可以直接从室温加热温度T2。以此无关地同样存在这样的可能性，在保持在温度T2之后进行短期的升温到温度T3,以实现烧结料表面的熔化。
权利要求
1.用于烧结烧结料的设备(10、100)，包括 -布置在底板(14)上容纳烧结料的托盘(18)，其具有作为第一内腔的容纳烧结料的内腔(34)， -包围托盘的钵状罩体(16),其边缘(36)对于底板是密封的， -与作为第二内腔的由钵状罩体包围的内腔(30)相连的保护气导入和-导出口(38)，以及 -作为第三内腔的包围带有底板的钵状罩体的烧结室(12) 其特征在于，所述托盘(18)被封闭部件(20)所覆盖，并且该第一内腔(34)在托盘所覆盖的封闭部件处与第二内腔以气流方式相连。
2.根据权利要求1的设备， 其特征在于， 所述烧结料(46)是得自易氧化的材料、金属烧结料、牙科框架的烧结料。
3.根据权利要求1的设备， 其特征在于， 所述罩体(16)直接被其边缘(36)形状锁合地支撑在底板(14)上。
4.根据权利要求1的设备， 其特征在于， 托盘(18)被支撑在具有凹部(24，26，28)的环(22)上，所述环自身被布置在底板(14)上。
5.根据权利要求1的设备， 其特征在于， 保护气体导入口(38)和任选的保护气体导出口在环内穿过底板(14)。
6.根据权利要求1的设备， 其特征在于， 由托盘(18)或其底壁(40)伸出突起(42，44)，优先至少三个在圆形上均匀分布的突起，在底板(14)上经由所述突起支撑该托盘。
7.根据权利要求1的设备， 其特征在于， 在托盘(18)中，将烧结料(46)布置在以实心球形式的颗粒材料(50)上，所述实心球得自陶瓷，特别是得自氧化锆或Al2 O30
8.根据权利要求1的设备， 其特征在于， 底板(14 )、托盘(18 )、封闭部件(20 )以及钵状的罩体(16 )由选自SiC、SiN的一种材料构成。
9.根据权利要求1的设备， 其特征在于， 将被罩体(16)包围的第二内腔(30)用无法使罩体抬升的保护气过压，特别是用高于环境压力的具有I毫巴Sp < 25毫巴，特别是2毫巴Sp < 10毫巴的过压p加载。
10.使用设备(10，100) 烧结烧结料(46)的方法，所述设备包括安置在底板(14)上的托盘(18)，在其作为第一内腔的内腔(34)中引入烧结料，一个包围该托盘的钵状罩体(16)，其边缘(36)对于底板是密封的，以及与作为第二内腔的由钵状罩体包围的内腔(30)相连的保护气导入和-导出口(38)，其中用保护气吹扫由钵状罩体包围的第二内腔， 其特征在于， 在托盘中导入烧结料(46)之后将托盘(18)用一个封闭部件(20)覆盖，经该封闭部件或经由在该封闭部件上的至少一个开口或经由在托盘上的至少一个开口将保护气引入托盘的内腔(34)中，并且用无法使罩体抬升的保护气过压加载被钵状罩体包围的第二内腔(10)。
11.根据权利要求10的方法， 其特征在于， 将第二内腔(30)用具有I毫巴Sp < 25毫巴的过压P加载。
12.根据权利要求10的方法， 其特征在于， 作为烧结料(46)使用选自易氧化的材料、金属烧结料、牙科框架的烧结料。
13.根据权利要求10的方法， 其特征在于， 作为烧结料用于较大的物体，特别是牙桥框架，特别是具有至少三个桥节，优选至少五个桥节的桥式框架，并且将包围该设备烧结室(12)中的烧结料以5开/分钟彡R1 ( 100开/分钟，特别是20开/分 钟彡R1 ( 80开/分钟的加热速率R1，从室温加热至T1，其中SOO0C^ T1 ( 1100°〇，在T1温度下任选I分钟彡( 10分钟的保持时间之后以5开/分钟彡R2彡30开/分钟的加热速率R2升高到1200°C ^ T2 ^ 1350°C的温度T2,使烧结料在温度T2下保持5分钟彡t2彡120分钟，特别是15分钟彡t2 ( 50分钟的时间t2，其中任选随后将烧结料加热到温度T3，其中T3XT2，用以熔化烧结料的表面，然后从温度T2或者T3以冷却速度&冷却到低于400°C的温度,R3优选在冷却的最初为5开/分钟彡R3S 100开/分钟。
14.根据权利要求10的方法， 其特征在于， 将烧结料(46)在包围设备的烧结室(12)里从室温以加热速率R2加热到温度T2用以烧结，其中1200°C彡T2 ( 1350°C，在温度T2下保持5分钟彡t2 ( 220分钟，特别是15分钟< t2 ( 60分钟的时间t2，其中任选随后将烧结料加热到温度T3，其中T3XT2，用以熔化烧结料的表面，然后从温度T2或者T3以冷却速度R3冷却到低于400°C的温度，其中该冷却速度优选最初为5开/分钟< R3 < 100开/分钟。
15.根据权利要求14的方法， 其特征在于， 将所述加热速率R2设置为5开/分钟< R2 < 100开/分钟，特别是20开/分钟彡R2彡80开/分钟的值。
16.根据权利要求13或14的方法， 其特征在于， 为将烧结料冷却到室温T2或在烧结料冷却过程中将带有托盘的底板、其封闭部件及罩体从烧结室(40)至少部分地，优选完全地移除。
17.根据权利要求10的方法， 其特征在于， 作为烧结料(46)使用由钴- 铬合金，优选由钴-铬-钥合金构成的那些。
全文摘要
本发明涉及用于烧结烧结料的设备(10)和方法，所述烧结料如易氧化的材料，特别是金属烧结料(46)，特别是牙科框架，所述设备包括布置在底板(14)上容纳烧结料的托盘(18)，包围托盘的钵状罩体(16)，其边缘(36)对于底板是密封的，以及与由钵状罩体包围的内腔(30)相连的保护气导入和-导出口(38)。由此，甚至可以在高于1200℃的温度下没有问题地进行烧结，它提出了，将托盘(18)用封闭部件(20)覆盖，其中在该覆盖的封闭部件处使托盘的内腔(34)与所述罩体的内腔以气流方式连接。
文档编号F27B21/08GK103162537SQ20121052202
公开日2013年6月19日 申请日期2012年12月7日 优先权日2011年12月9日
发明者J.哈亨贝格, R.施泰因克, P.波普, I.维泽尔 申请人:德固萨有限责任公司