一种掩膜版的清洁方法及清洁装置与流程

本发明涉及显示面板膜层的制作领域，特别是一种掩膜版的清洁方法及清洁装置。

背景技术：

显示领域，曝光是TFT面板制作中最重要的环节。曝光实现了掩膜版掩膜版上图形向光刻胶PR的转移，PR形成图案后，对基板上的膜层进行相应的刻蚀，膜层上就有了图形。

掩膜版掩膜版是曝光中重要的工具，掩膜版掩膜版的好坏决定后续TFT基板上电路的好坏。随着掩膜版掩膜版使用时间变长，其表面会沉积肉眼可见以及不可见的污渍。随着曝光设备的老化，掩膜版掩膜版表面甚至会沉积油性污渍，导致图形转移到基板上出现重复性的不良，给生产带来巨大的损失。

因此，需要定期对掩膜版掩膜版进行检测和清洁。

现在掩膜版掩膜版的清洁方法有人工手动清洁和自动清洁。人工手动清洁具有随意性和不确定性，随着高世代线的生产，掩膜版掩膜版的尺寸变得很大，人工清洁存在摔坏掩膜版掩膜版的风险。自动清洁则实现的成本较高，且不能检测清洁的好坏。

技术实现要素：

本发明的目的是解决掩膜版清洗不干净的问题。

为实现上述目的，一方面，本发明的实施例提供一种掩膜版的清洁方法，包括：

检测步骤，确定掩膜版上的残留污渍的位置信息；

清洁步骤，根据所述位置信息，对掩膜版上的残留污渍进行光照使该残留污渍得到分解，采用离子风去除掩膜版上的残留污渍。

进一步地，所述清洁方法还包括：

在所述检测步骤之前，使用离子风对掩膜版进行清洁。

进一步地，所述清洁步骤包括：

使用极紫外光对掩膜版上的残留污渍进行照射，使该残留污渍得到分解。

进一步地，所述检测步骤包括：

对所述掩膜版进行光学扫描；

根据所述掩膜版在光学扫描中反馈的干涉状况，确定所述掩膜版上残留污渍的位置信息。

进一步地，所述掩膜版划分为多个检测区域；

所述检测步骤包括：

获取每个检测区域的检测图像；

根据所述检测图像与预设的标准图像进行比对，确定出存在残留污渍的检测区域；

将存在残留污渍的检测区域的坐标作为所述位置信息。

进一步地，所述清洁方法还包括：

在所述清洁步骤完成后，确定掩膜版上是否存在残留污渍，如果掩膜版存在残留污渍，则重新执行所述检测步骤和清洁步骤。

另一方面，本发明的实施例还提供一种掩膜版的清洁装置，包括：

检测模块，用于确定掩膜版上的残留污渍的位置信息；

清洁模块，用于根据所述位置信息，对掩膜版上的残留污渍进行光照使该残留污渍得到分解，采用离子风去除掩膜版上的残留污渍。

进一步地，所述清洁装置还包括：

设置在掩膜版清洗位置的夹具模块，用于水平放置所述掩膜版，且所述夹具模块能够夹持所述掩膜版相对于水平面进行360°的旋转。

进一步地，清洁装置还包括：

驱动模块，用于控制所述检测模块以及清洁模块进行工作，包括：

在控制所述检测模块确定掩膜版上的残留污渍的位置信息前，控制所述清洁模块使用离子风对掩膜版进行清洁。

进一步地，所述检测模块包括：

光探测器阵列，用于对所述掩膜版进行光学扫描，获取所述掩膜版在光学扫描中反馈的干涉状况；

处理器，用于根据所述干涉状况，确定所述掩膜版上残留污渍的位置信息。

进一步地，所述检测模块还包括：

图像传感器阵列，用于获取每个检测区域的检测图像；

图像处理器，用于根据所述检测图像与预设的标准图像进行比对，确定出存在残留污渍的检测区域，并将存在残留污渍的检测区域的坐标作为所述位置信息。

本发明的上述方案具有如下有益效果：

在正常清洁掩膜版后，依然会存在一些残留污渍。一般情况下，这些残留污渍是技术人员在操作掩膜版的过程中所留下指纹等油性污渍，本实施例的清洁方法先对这些残留污渍进行定位，之后根据定位结果对残留污渍进行精确地光照，使残留污渍在掩膜版上分解后松动，从而能够进一步利用离子风将松动后的残留污渍从掩膜版吹落，以达到清洁效果。

附图说明

图1为本发明的掩膜版的清洁方法的步骤示意图；

图2为本发明掩膜版的清洁方法的详细流程图；

图3为本发明掩膜版的清洁装置的逻辑构架图；

图4为干净的掩膜板；

图5为具有残留物的净掩膜板；

图6为本发明掩膜版的清洁装置的结构示意图；

图7为本发明掩膜版的清洁装置的夹具模块的结构示意图。

具体实施方式

为使本发明要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。

针对现有技术中掩膜版清洗不干净的技术问题，本发明提供一种解决方案。

一方面，本发明的实施例提供一种掩膜版的清洁方法，如图1所示，包括：

检测步骤11，确定掩膜版上的残留污渍的位置信息；

清洁步骤12，根据位置信息，对掩膜版上的残留污渍进行光照使该残留污渍得到分解，采用离子风去除掩膜版上的残留污渍；其中，离子风可以使残留污渍和掩膜版带有相同电荷，从而使残留污渍和掩膜版产生一定的排斥力，增加脱离效果。

在实际应用中，本实施例的方案可以用于对正常清洗后的掩膜版进行再次清洁。在一般情况下，掩膜版正常清洁完成后，依然会存在一些残留污渍，这些残留污渍是技术人员在操作掩膜版的过程中所留下指纹等油性污渍，本实施例的清洁方法先对这些残留污渍进行定位，之后根据定位结果对残留污渍进行精确地光照，使残留污渍在掩膜版上分解后松动，从而能够进一步利用离子风将松动后的残留污渍从掩膜版吹落，以达到清洁效果。

由此可见，基于本实施例的方法，可以使掩膜版清洁更加彻底，避免掩膜版的污渍影响到相关产品制作的良品率，因此具有很高的实用价值。

下面对本实施例的检测步骤进行示例性介绍。

实现方式一

在本实现方式一中，可以对先掩膜版进行光学扫描，扫描的光线在掩膜版与残留污渍这两种不同介质表面具有不同的反射率，通过光学干涉原理，可以得到掩膜版掩膜版各的干涉状况(即干涉场分布信息)，确定残留污渍的具体位置，如残留污渍的具体坐标。

实现方式二

在本实现方式二中，可以将掩膜版划分为一个或多个检测区域；之后利用成像设备获取每个检测区域的检测图像，并根据检测图像与预设的标准图像(即干净的掩膜版图像)进行比对，确定出存在残留污渍的检测区域，将存在残留污渍的检测区域的坐标作为残留污渍的位置信息。

在成功定位出残留污渍后，则对应执行清洁步骤。作为示例性介绍，本实施例在清洁步骤中，可以使用极紫外光对掩膜版上的残留污渍进行照射，使该残留污渍得到分解。

显然，上述清洁步骤正是基于本实施例中的检测步骤精确定位出的残留污渍的位置，从而实现了极紫外光的集中照射，从而实现更好的分解效果。

由此可见，本实施例的清洁的方法专用于对掩膜版的残留污渍进行有效清洁，在清洁步骤完成后，还可以再次对掩膜版进行检测步骤，确定掩膜版上是否存在残留污渍，如果掩膜版存在残留污渍，则重新执行检测步骤和清洁步骤，直至掩膜版达到清洁要求。

下面对本实施例的清洁方法的流程进行介绍。

如图2所示，本实施例的清洁方法包括：

步骤21，使用离子风对掩膜版进行清洁(也可以使用离子水进行清洁)；

步骤22，检测掩膜版的残留污渍，并定位残留污渍的坐标；

步骤23，使用极紫外光，根据定位到的坐标，对残留污渍进行集中照射；

步骤24，使用离子风，再次对残留污渍进行清洁；

步骤25，对掩膜版再次进行检测，确定是否有依然有残留污渍；如果存在残留污渍(也可以是残留污渍使掩膜版达不到清洁要求)，则返回执行步骤22；否则清洁结束。

以上是本发明的清洁方法的介绍，对应于该清洁方法，本发明的另一实施例还提供一种掩膜版的清洁装置，如图3所示，包括：

检测模块，用于确定掩膜版上的残留污渍的位置信息；

清洁模块，用于根据上述位置信息，对掩膜版上的残留污渍进行光照使该残留污渍得到分解，采用离子风去除掩膜版上的残留污渍。

本实施例的清洁装置能够对掩膜版的残留污渍进行定位，并根据定位结果使用光照精确对残留污渍进行分解，使残留污渍在掩膜版上发生松动，之后进一步采用离子风吹落残留污渍，从而达到清洁目的。

具体地，本实施例的清洁装置还包括：

驱动模块，上述检测模块以及清洁模块均由驱动模块控制工作。

作为示例性介绍，本实施例的驱动模块在控制检测模块确定掩膜版上的残留污渍的位置信息前，还可以先控制清洁模块使用离子风对掩膜版进行预先清洁，从而先去除掉掩膜版上较容易清洁的污渍，剩下未被清洁的残留污渍则通过检测模块进行定位后，再进一步进行光照分解和离子风清洁。

具体地，本实施例的检测模块可以提供两种检测残留污渍的方式：

方式一

本实施例的检测模块包括：

光探测器阵列，用于对掩膜版进行光学扫描，获取掩膜版在光学扫描中反馈的干涉状况；

第一处理器，用于根据干涉状况，确定所述掩膜版上残留污渍的位置信息。

由于扫描光在污渍和掩膜版这两种介质的表面反射率不同，通过光干涉原理可以得到掩膜版掩膜版的干涉场分布信息。第一处理器进一步根据掩膜版掩膜版干涉场分布信息，确定残留污渍的位置信息(如坐标)。

在实际应用中，光探测器阵列可沿着掩膜版掩膜版进行横向和纵向上的扫描。此外，光探测器阵列至少具有一个光学探头，每一光学探头集成有光学扫描的发射端和干涉情况的接收端，保证发射位置与接收位置能够一致。

方式二

本实施例的掩膜版划分有多个检测区域；其中，检测模块包括：

图像传感器阵列，用于获取每个检测区域的检测图像；

第二处理器，用于根据检测图像与预设的标准图像进行比对，确定出存在残留污渍的检测区域，并将存在残留污渍的检测区域的坐标作为位置信息。

在实际应用中，如图4所示，掩膜版掩膜版可以划分为大小均等多个检测区域(即图4中的阴影矩形区域)，其中划分检测区域越多，探测越准确。本实施例的图像传感器阵列包括至少一个电荷耦合元件CCD，在探测之前，先对干净的掩膜版掩膜版的检测区域进行定点取样，作为图形比对的标准对象(即图4)。

之后如图5所示，利用CCD的探头沿着待清洁的掩膜版掩膜版进行横向和纵向上的取图，通过图像识别技术，寻找实际取样图像与标准取图像不同的位置，进而确定出残留污渍51，以及残留污渍51对应的检测区域的坐标。

作为示例性介绍，本实施例的清洁装置的结构如图4所示，包括：

离子风刀61、探测阵列62(即上文所述的图像传感器阵列或者光探测器阵列)、紫外光发射装置63、驱动模块64、处理器65以及夹具模块66。

其中，处理器65用于向驱动模块64输出控制信号，使驱动模块64能够根据该控制信号，控制离子风刀61、探测阵列62和紫外光发射装置63工作。以控制探测阵列62为例，本实施例的驱动模块64可以驱动探测阵列462移动，使探测阵列62在横向和纵向上对掩膜版67进行扫描。

进一步，本实施例的夹具模块66如图7所示，包括：

支撑梁661、转动轴662以及夹具663，在自动检测和定点清洁过程中，夹具663始终保持掩膜版掩膜版67的水平放置，且可以通过转动轴662使掩膜版相对于水平面进行360度轴旋转，从而对掩膜版67设置有图案的正反面均可以得到检测和清洁。

以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。