1.一种掩膜版的清洁方法，其特征在于，包括：
检测步骤，确定掩膜版上的残留污渍的位置信息；
清洁步骤，根据所述位置信息，对掩膜版上的残留污渍进行光照使该残留污渍得到分解，采用离子风去除掩膜版上的残留污渍。
2.根据权利要求1所述的清洁方法，其特征在于，包括：
在所述检测步骤之前，使用离子风对掩膜版进行清洁。
3.根据权利要求1所述的清洁方法，其特征在于，
所述清洁步骤包括：
使用极紫外光对掩膜版上的残留污渍进行照射，使该残留污渍得到分解。
4.根据权利要求1所述的清洁方法，其特征在于，
所述检测步骤包括：
对所述掩膜版进行光学扫描；
根据所述掩膜版在光学扫描中反馈的干涉状况，确定所述掩膜版上残留污渍的位置信息。
5.根据权利要求1所述的清洁方法，其特征在于，
所述掩膜版划分为多个检测区域；
所述检测步骤包括：
获取每个检测区域的检测图像；
根据所述检测图像与预设的标准图像进行比对，确定出存在残留污渍的检测区域；
将存在残留污渍的检测区域的坐标作为所述位置信息。
6.根据权利要求1-5所述的清洁方法，其特征在于，还包括：
在所述清洁步骤完成后，确定掩膜版上是否存在残留污渍，如果掩膜版存在残留污渍，则重新执行所述检测步骤和清洁步骤。
7.一种掩膜版的清洁装置，其特征在于，包括：
检测模块，用于确定掩膜版上的残留污渍的位置信息；
清洁模块，用于根据所述位置信息，对掩膜版上的残留污渍进行光照使该残留污渍得到分解，采用离子风去除掩膜版上的残留污渍。
8.根据权利要求7所述的清洁装置，其特征在于，还包括：
设置在掩膜版清洗位置的夹具模块，用于水平放置所述掩膜版，且所述夹具模块能够夹持所述掩膜版相对于水平面进行360°的旋转。
9.根据权利要求7所述的清洁装置，其特征在于，还包括：
驱动模块，用于控制所述检测模块以及清洁模块进行工作，包括：
在控制所述检测模块确定掩膜版上的残留污渍的位置信息前，控制所述清洁模块使用离子风对掩膜版进行清洁。
10.根据权利要求7-9任一项所述的清洁装置，其特征在于，
所述检测模块包括：
光探测器阵列，用于对所述掩膜版进行光学扫描，获取所述掩膜版在光学扫描中反馈的干涉状况；
第一处理器，用于根据所述干涉状况，确定所述掩膜版上残留污渍的位置信息。
11.根据权利要求7-9任一项所述的清洁装置，其特征在于，
所述掩膜版划分为多个检测区域；
所述检测模块还包括：
图像传感器阵列，用于获取每个检测区域的检测图像；
第二处理器，用于根据所述检测图像与预设的标准图像进行比对，确定出存在残留污渍的检测区域，并将存在残留污渍的检测区域的坐标作为所述位置信息。