技术总结
本发明提供一种掩膜版的清洁方法及清洁装置。其中，清洁方法包括：检测步骤，确定掩膜版上的残留污渍的位置信息；清洁步骤，根据所述位置信息，对掩膜版上的残留污渍进行光照使该残留污渍得到分解，采用离子风去除掩膜版上的残留污渍。在正常清洁掩膜版后，依然会存在一些残留污渍。一般情况下，这些残留污渍是技术人员在操作掩膜版的过程中所留下指纹等油性污渍，本实施例的清洁方法先对这些残留污渍进行定位，之后根据定位结果对残留污渍进行精确地光照，使残留污渍在掩膜版上分解后松动，从而能够进一步利用离子风将松动后的残留污渍从掩膜版吹落，以达到清洁效果。
技术研发人员：刘小波;金宇;苏琦;黄文同;满志金;李亚文
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
文档号码：201610809854
技术研发日：2016.09.07
技术公布日：2017.01.04