一种梯度复合结构多级孔薄膜及其制备方法与流程

文档序号:11904889阅读:272来源:国知局
一种梯度复合结构多级孔薄膜及其制备方法与流程

本发明属于多级孔薄膜技术领域,具体涉及一种梯度复合结构多级孔薄膜的制备方法。



背景技术:

多级孔薄膜具有多重孔道结构,其微孔结构具有较多酸性位点,可以有效进行催化反应;而其介孔或大孔孔道有利于加快分子扩散速率。此外,在介孔或大孔结构中引入铝原子,使其具有表面酸性,进一步提高了催化性能。在吸附、分离、催化等领域具有强大的应用潜力和广阔的应用前景。

目前所报道的多级孔薄膜非常少,尤其是包含微孔结构的多级孔薄膜。但由于微孔孔径是分子直径数量级的,在吸附分离、催化反应等领域(尤其是包含小分子或离子的体系)必不可少,因此制备出包含微孔结构的多级孔薄膜至关重要。现有的微孔-介孔复合薄膜采用传统的一锅法(“MCM-48/ZSM-5复合分子筛及膜的制备研究[D]”,大连理工大学,2009周志华等.)进行制备,即在一个包含微孔模板剂、介孔模板剂、硅源、铝源的溶液体系中同时获得微孔结构和介孔结构。该方法存在各种模板剂的相互竞争关系,它们在反应过程中共同争抢硅源和铝源,容易造成相分离。最终在基板上得到的微孔-介孔复合薄膜的结晶度和连续性较差,存在较多孔缺陷。而且目前对薄膜孔结构的表征不够充分,说服力不强。此外,具有微孔-大孔结构以及微孔-介孔-大孔结构的多级孔薄膜更是鲜有报道。



技术实现要素:

本发明旨在提供一种新颖的制备方法,克服现有技术中存在的缺陷,实现梯度复合结构多级孔薄膜的制备,包括微孔-介孔体系、微孔-大孔体系以及微孔-介孔-大孔体系。

本发明解决其技术问题采用以下的技术方案:

本发明提供的梯度复合结构多级孔薄膜,是一种微孔-介孔体系的多级孔薄膜,其具有微孔-介孔体系、微孔-大孔体系或微孔-介孔-大孔体系,该薄膜是将介孔层/微孔层/铝基板经过煅烧和去除模板剂,并且在低浓度无机酸溶液中浸泡去除铝基板后获得的。

所述的梯度复合结构多级孔薄膜,其各级孔道相互贯通,各层紧密完整连接,且层与层之间通过共价键进行连接,从而保证层间结合强度;该薄膜的技术参数为:薄膜结构致密,ZSM-5微孔层厚度为5微米,介孔层与大孔层厚度为3微米。

本发明提供的上述的梯度复合结构多级孔薄膜,其在重油、渣油的催化裂化,以及在海水淡化分离领域中的应用。

本发明提供的梯度复合结构多级孔薄膜的制备方法,其包括逐层涂层、一步煅烧工序以及基板去除步骤,具体为:先在微孔层表面沉积形成具有三维孔道的介孔层而获得微孔-大孔结构样品,或在微孔层表面沉积形成具有开放孔道的大孔层而获得微孔-大孔结构样品,或依次在微孔层表面沉积形成数层介孔层和大孔层获得微孔-介孔-大孔梯度孔结构样品;将梯度孔结构薄膜样品放入气氛炉中,一步煅烧去除所有模板剂,再用低浓度无机酸浸泡去除金属基板,最终得到梯度复合结构多级孔薄膜。

所述的梯度孔结构薄膜样品采用以下逐层构筑方法获得:

(1)微孔层/金属基板的制备:

将微孔模板剂、硅源、铝源、去离子水配制成溶液,各组分摩尔比为(0.3~0.5):(0.01~0.05):(0.00125~0.01):(100~200);再将该溶液在室温下搅拌4~24h,直至得到完全澄清透明的溶液;然后将金属基板置于盛装有反应所得的澄清透明溶液的反应釜中,在165~175℃下反应3~12h后,在金属基板表面获得含有模板剂的ZSM-5微孔层;

(2)在ZSM-5微孔层/金属基板表面沉积二氧化硅介孔层:

该沉积是通过浸涂工艺实现的,其浸涂液由经过充分混合的表面活性剂、硅源、铝源、酸、去离子水、乙醇组成,各组分摩尔比为(0.003~0.005:(0.01~0.05):(0.00125~0.01):(0.02~0.04):(6~12):(30~60);将ZSM-5微孔层/金属基板浸渍介孔层的前驱体溶液,在其表面沉积硅铝酸盐介孔层,得到含有模板剂的微孔-介孔体系的多级孔薄膜;

(3)在ZSM-5微孔层/金属基板表面沉积二氧化硅大孔层:

该沉积包括在ZSM-5微孔层/金属基板表面进行聚苯乙烯胶晶阵列组装,以及在聚苯乙烯小球间隙填充二氧化硅前驱体溶液步骤,得到含有模板剂的微孔-大孔体系的多级孔薄膜;所述组装与前驱体溶液的填充都是通过浸涂工艺实现的,所述前驱体溶液的组成与步骤(2)中的浸涂液相同;

(4)微孔-介孔-大孔梯度孔结构薄膜样品的制备:

在步骤(2)得到的微孔-介孔体系的多级孔薄膜上面再沉积二氧化硅大孔层,获得含有模板剂的微孔-介孔-大孔梯度孔结构薄膜样品,此步骤的沉积工艺同(3)。

上述方法中,可以将梯度孔结构薄膜样品放入管式气氛炉中,保持空气气氛,在500℃~550℃下一步煅烧,去除微孔、介孔和大孔层的所有模板剂,即可获得沉积在金属基板上的梯度复合结构多级孔薄膜。

上述方法中,可以使用低浓度无机酸溶液浸泡去除金属基板,具体是:所述的低浓度无机酸溶液采用质量分数为5%的盐酸、硫酸、硝酸中的一种;所述的金属基板是不锈钢、纯铝或铝合金基板。

所述的硅源为正硅酸乙酯,铝源是九水硝酸铝或十六水硫酸铝,表面活性剂采用F127。

所述的ZSM-5微孔层的孔径分布平均孔径为0.450-0.600nm,微孔的孔径<2nm;二氧化硅介孔层平均孔径为3.50-5.63nm,介孔的孔径范围是2-50nm;二氧化硅大孔层平均孔径为227-278nm,大孔的孔径范围是50-500nm。

本发明提供的上述方法所制备的梯度复合结构多级孔薄膜,其在重油、渣油的催化裂化,以及在海水淡化分离领域中的应用。

本发明与现有技术相比主要具有以下优点:

1.使用逐层制备法实现了梯度复合结构多级孔薄膜的制备,避免了一锅法中多种模板剂之间的竞争问题,保证了ZSM-5微孔层较高的结晶度以及较为优异的连续性,同时也保证了硅铝酸盐介孔层或大孔层的连续性。

2.通过扫描电子显微镜、透射电子显微镜和氮气吸附脱附测试对孔结构进行了具体的表征,表明所获得梯度复合结构多级孔薄膜的各级孔道相互贯通。

3.实验中各项操作简单,不需要使用昂贵仪器,实验使用的物品成本低廉,节约能源。

附图说明

图1为实施例1合成的微孔-介孔体系多级孔薄膜的SEM图。

图2为实施例1合成的微孔-介孔体系多级孔薄膜的XRD图。

图3为实施例1合成的微孔-介孔体系多级孔薄膜的TEM图。

图4为实施例1合成的微孔-介孔体系多级孔薄膜的氮气吸附脱附等温线以及孔径分布曲线。

图5为实施例2合成的微孔-大孔体系多级孔薄膜的SEM图。

图6为实施例2合成的微孔-大孔体系多级孔薄膜的TEM图。

图7为实施例2合成的微孔-大孔体系多级孔薄膜的氮气吸附脱附等温线以及孔径分布曲线。

图8为实施例2合成的微孔-介孔-大孔体系多级孔薄膜的TEM图。

图9为实施例2合成的微孔-介孔-大孔体系多级孔薄膜的氮气吸附脱附等温线以及孔径分布曲线。

图10为本发明的工艺流程图。

具体实施方式

为了使本领域技术人员更好地理解本发明,以下结合具体实施例及附图对本发明做进一步说明。

实施例1

将0.0454g Al(NO3)3·9H2O溶于36g水中,依次加入3.88ml分析纯的四丙基氢氧化铵(TPAOH)和2.7ml分析纯的正硅酸乙酯(TEOS),在室温下搅拌24h,得到溶液;将溶液转移到100ml的反应釜中,将铝基板垂直浸入溶液中,在175℃下反应4h,然后冷却至室温,再将生长分子筛膜的基板取出,即可获得ZSM-5微孔层/铝基板。

先将0.52g分析纯的F127(EO106PO70EO106)完全溶于20ml无水乙醇中,标记为1#溶液;将2.225ml分析纯的TEOS(正硅酸乙酯)缓慢加入到由0.21g(1M)盐酸、1.455g H2O以及10ml的乙醇组成的混合溶液中,在70℃下回流1h,标记为2#溶液。然后将1#溶液缓慢加入到2#溶液中,接着加入0.0374g的Al(NO3)3·9H2O,继续在70℃下搅拌1h,获得介孔层的前驱体溶液。

将上述微孔薄膜/铝基板固定在镀膜提拉机的夹具上,通过浸渍介孔层的前驱体溶液,在其表面沉积硅铝酸盐介孔层。在此过程中,浸渍/提拉速度均为40mm/min,浸渍时间为2min,镀膜时间为2min,浸涂2次。镀膜完成后,在室温下老化48h后得到介孔层/微孔层/铝基板。

将介孔层/微孔层/铝基板经过550℃煅烧10h,一步去除TPAOH和F127(EO106PO70EO106),最后在质量分数为5%的盐酸溶液中浸泡去除铝基板,即可获得微孔-介孔体系的多级孔薄膜,其为梯度复合结构多级孔薄膜。

图1为实施例1合成的微孔-介孔体系多级孔薄膜的SEM图。从图1中可以看出通过浸渍提拉法,在ZSM-5微孔层/铝基板表面形成了连续的硅铝酸盐介孔薄膜。图2为实施例1合成的微孔-介孔体系多级孔薄膜的XRD图。从图2中可以看出:样品在2θ=1°附近出现的衍射峰对应于介孔层,说明其介观结构有序度很高。而在2θ=5~50°范围内出现的衍射峰,除了铝基板的衍射峰,其他衍射峰完全对应于ZSM-5微孔层,并且其结晶度较高。XRD结果表明所得产物为微孔-介孔复合薄膜。

图3为实施例1合成的微孔-介孔体系多级孔薄膜的TEM图(其中b图为a图局部放大)。从其电子衍射图中可以看出,表层弥散的晕和底层的衍射斑点分别对应于长程有序、短程无序的介孔层和晶体微孔层。从TEM图中可以看出,ZSM-5微孔层表面完全被硅铝酸盐介孔层覆盖,而且介孔层具有通透性优异、有序度很高的三维孔道结构,有效地实现微孔孔道与介孔孔道的连通。

图4为实施例1合成的微孔-介孔体系多级孔薄膜的氮气吸附脱附等温线以及孔径分布曲线,其中a为氮气吸附脱附等温线,b和c分别为微孔和介孔的孔径分布曲线。在氮气吸附脱附等温线中,等温线在低比压区急剧上升,表明样品中存在微孔结构;等温线在中比压区出现的滞后环,表明样品中同时存在介孔结构。微孔和介孔的孔容分别为0.263cm3/g和0.123cm3/g,总的BET比表面积为705.0m2/g。微孔孔径集中分布于0.600nm,介孔孔径分布窄而集中,最大孔径为5.627nm。

实施例2

将0.0454g Al(NO3)3·9H2O溶于36g水中,依次加入3.88ml分析纯的四丙基氢氧化铵(TPAOH)和2.7ml分析纯的正硅酸乙酯(TEOS),在室温下搅拌24h,得到溶液;将溶液转移到100ml的反应釜中,将铝基板垂直浸入溶液中,在175℃下反应4h,然后冷却至室温,再将生长分子筛膜的基板取出,即可获得ZSM-5微孔层/铝基板。

先将0.52g分析纯的F127(EO106PO70EO106)完全溶于20ml无水乙醇中,标记为1#溶液;将2.225ml分析纯的TEOS(正硅酸乙酯)缓慢加入到由0.21g(1M)盐酸、1.455g H2O以及10ml的乙醇组成的混合溶液中,在70℃下回流1h,标记为2#溶液。然后将1#溶液缓慢加入到2#溶液中,接着加入0.0374g的Al(NO3)3·9H2O,继续在70℃下搅拌1h,获得介孔层的前驱体溶液。

将上述微孔薄膜/铝基板固定在镀膜提拉机的夹具上,通过浸渍介孔层的前驱体溶液,在其表面沉积硅铝酸盐介孔层。在此过程中,浸渍/提拉速度均为40mm/min,浸渍时间为2min,镀膜时间为2min,浸涂2次。镀膜完成后,在室温下老化48h后得到介孔层/微孔层/铝基板。

将介孔层/微孔层/铝基板经过500℃煅烧10h,一步去除TPAOH和F127(EO106PO70EO106),最后在质量分数为5%的盐酸溶液中浸泡去除铝基板,即可获得微孔-介孔体系的多级孔薄膜,其为梯度复合结构多级孔薄膜。微孔孔径集中分布于0.510nm,介孔孔径分布窄而集中,最大孔径为5.213nm。

实施例3

将0.0454g Al(NO3)3·9H2O溶于36g水中,依次加入3.88ml分析纯的TPAOH(四丙基氢氧化铵)和2.7ml分析纯的TEOS(正硅酸乙酯),在室温下搅拌24h。将溶液转移到100ml的反应釜中,将铝基板垂直浸入溶液中,在175℃下反应4h。冷却至室温后,将生长分子筛膜的基板取出,即可获得ZSM-5微孔层/铝基板。

将ZSM-5微孔层/铝基板固定在镀膜提拉机的夹具上,在其表面组装PS胶晶阵列,PS乳液浓度为5wt%。设定镀膜程序:浸渍/提拉速度均为50mm/min,浸渍时间为3min,镀膜1次。把样品置于30℃干燥1h。

将0.52g F127(EO106PO70EO106)完全溶于20ml无水乙醇中,标记为1#溶液;将2.225ml分析纯的TEOS缓慢加入到由0.21g(1M)盐酸、1.455g H2O以及10ml乙醇组成的混合溶液中,在70℃下回流1h,标记为2#溶液。然后将1#溶液缓慢加入到2#溶液中,然后加入0.0374g Al(NO3)3·9H2O,继续在70℃下继续搅拌1h,形成大孔层前驱体溶液。然后将PS胶晶阵列/微孔层/基板固定在镀膜提拉机的夹具上,使用配制的大孔层前躯体溶液,将其填充到PS胶晶的空隙中。镀膜参数为:浸渍/提拉速度均为40mm/min,浸渍时间为2min,镀膜时间5min,镀膜2次。镀膜后在室温下老化48h。然后将样品放入管式气氛炉中,保持空气气氛,经过500℃煅烧10h,煅烧同时去除TPAOH、PS和F127,最后在质量分数为5%的硫酸溶液中浸泡去除铝基板,即可得到微孔-大孔体系的多级孔薄膜,其为梯度复合结构多级孔薄膜。

图5为实施例2合成的微孔-大孔体系多级孔薄膜的SEM图。从图5的a图和b图中可以看出,在微孔层表面形成的大孔层较为平整,且连续性较好,几乎可以完全覆盖微孔层表面。大孔的平均孔径为227nm,孔壁平均厚度45nm,孔窗开口直径大约为42nm。

图6为实施例2合成的微孔-大孔体系多级孔薄膜的TEM图。从图6的a图和b图所示的电子衍射图中可以看出,表层弥散的晕和底层的衍射斑点分别对应于长程有序、短程无序的大孔层和晶体微孔层。此外,TEM图更直观地反映了在微孔层表面形成了具有均匀大孔结构的大孔层。

图7为实施例2合成的微孔-大孔体系多级孔薄膜的氮气吸附脱附等温线以及孔径分布曲线,其中a为氮气吸附脱附等温线,b为微孔的孔径分布曲线。在氮气吸附脱附等温线中,微孔-大孔薄膜的吸附也是在很低的相对压力下开始,而且等温线在低压时急剧上升,然后逐渐减缓,表明微孔-大孔薄膜中存在明显的微孔结构。微孔孔容为0.162cm3/g,最大孔径为0.452nm。曲线在高压区吸附量急剧增加,说明存在大孔结构。

实施例4

将0.0454g Al(NO3)3·9H2O溶于36g水中,依次加入3.88ml分析纯的TPAOH(四丙基氢氧化铵)和2.7ml分析纯的TEOS(正硅酸乙酯),在室温下搅拌24h。将溶液转移到100ml的反应釜中,将铝基板垂直浸入溶液中,在175℃下反应4h。冷却至室温后,将生长分子筛膜的基板取出,即可获得ZSM-5微孔层/铝基板。

将ZSM-5微孔层/铝基板固定在镀膜提拉机的夹具上,在其表面组装PS胶晶阵列,PS乳液浓度为5wt%。设定镀膜程序:浸渍/提拉速度均为50mm/min,浸渍时间为3min,镀膜1次。把样品置于30℃干燥1h。

将0.52g F127(EO106PO70EO106)完全溶于20ml无水乙醇中,标记为1#溶液;将2.225ml分析纯的TEOS缓慢加入到由0.21g(1M)盐酸、1.455g H2O以及10ml乙醇组成的混合溶液中,在70℃下回流1h,标记为2#溶液。然后将1#溶液缓慢加入到2#溶液中,然后加入0.0374g Al(NO3)3·9H2O,继续在70℃下继续搅拌1h,形成大孔层前驱体溶液。然后将PS胶晶阵列/微孔层/基板固定在镀膜提拉机的夹具上,使用配制的大孔层前躯体溶液,将其填充到PS胶晶的空隙中。镀膜参数为:浸渍/提拉速度均为40mm/min,浸渍时间为2min,镀膜时间5min,镀膜2次。镀膜后在室温下老化48h。然后将样品放入管式气氛炉中,保持空气气氛,经过550℃煅烧10h,煅烧同时去除TPAOH、PS和F127,最后在质量分数为5%的硫酸溶液中浸泡去除铝基板,即可得到微孔-大孔体系的多级孔薄膜,其为梯度复合结构多级孔薄膜。微孔最大孔径为0.49nm,大孔的最大孔径为243nm.

实施例5

将0.0454g Al(NO3)3·9H2O溶于36g水中,依次加入3.88ml TPAOH分析纯的(四丙基氢氧化铵)和2.7ml分析纯的TEOS(正硅酸乙酯),在室温下搅拌24h。将溶液转移到100ml的反应釜中,将铝基板垂直浸入溶液中,在175℃下反应4h。冷却至室温后,将生长分子筛膜的基板取出,即可获得ZSM-5微孔层/铝基板。

将0.52gF127(EO106PO70EO106)完全溶于20ml无水乙醇中,标记为1#溶液;将的人溶液中,在70℃下回流1h,标记为2#溶液。然后将1#溶液缓慢加入到2#溶液中,然后加入0.0374g Al(NO3)3·9H2O,继续在70℃下继续搅拌1h,获得介孔层的前驱体溶液。将上述获得的微孔薄膜/基板固定在镀膜提拉机的夹具上,通过浸渍介孔层的前驱体溶液,在其表面沉积硅铝酸盐介孔层。在此过程中,浸渍/提拉速度均为40mm/min,浸渍时间为2min,镀膜时间为2min,浸涂2次。镀膜完成后,在室温下老化48h后得到介孔层/微孔层/基板。

将介孔层/微孔层/基板固定在镀膜提拉机的夹具上,在其表面组装PS胶晶阵列,PS乳液浓度为5wt%。设定镀膜程序:浸渍/提拉速度均为50mm/min,浸渍时间为3min,镀膜1次。把样品置于30℃干燥1h。然后将PS胶晶阵列/介孔层/微孔层/基板固定在镀膜提拉机的夹具上,使用与介孔层相同的前躯体溶液,将其填充到PS胶晶的空隙中。镀膜参数为:浸渍/提拉速度均为40mm/min,浸渍时间为2min,镀膜时间5min,镀膜2次。镀膜后在室温下老化48h。然后将样品放入管式气氛炉中,保持空气气氛,经过500℃煅烧10h,煅烧同时去除TPAOH、PS和F127,最后在质量分数为5%的硝酸溶液中浸泡去除铝基板,即可得到微孔-介孔-大孔体系的多级孔薄膜,其为梯度复合结构多级孔薄膜。

图8为实施例3合成的微孔-介孔-大孔体系多级孔薄膜的TEM图。从图8的a图和b图所示的电子衍射结果表明,在弥散的晕下方存在明显的晶体衍射斑点。衍射斑点属于ZSM-5的晶体结构,而弥散的晕则表明,介孔层和大孔层均为长程有序、短程无序的无定形结构。从TEM图可以观察到,在ZSM-5微孔层表面依次形成了介孔层和大孔层结构,而且介孔层有较多孔道垂直于基板,因而分子运输性能比较优异。大孔结构的最大孔径为251nm,孔窗开口直径大约为70nm。

图9为实施例3合成的微孔-介孔-大孔体系多级孔薄膜的氮气吸附脱附等温线以及孔径分布曲线,其中a为氮气吸附脱附等温线,b和c分别为微孔以及介孔的孔径分布曲线。微孔-介孔-大孔薄膜的吸附同样是在很低的相对压力下开始,而且等温线在低压时急剧上升,然后逐渐减缓,表明微孔-介孔-大孔薄膜中存在微孔结构。微孔孔容为0.337cm3/g,最大孔径为0.572nm。曲线中的吸附支与脱附支不重合,形成了狭窄型滞后环,说明存在介孔结构。介孔孔容为0.220cm3/g,最大孔径为3.537nm,与TEM图中观察到的介孔孔径大致相当。在高比压区曲线继续上升,说明存在大孔结构。总体而言,微孔-介孔-大孔薄膜的BET比表面积为926.9m2/g。

实施例6

将0.0454g Al(NO3)3·9H2O溶于36g水中,依次加入3.88ml分析纯的TPAOH(四丙基氢氧化铵)和2.7ml分析纯的TEOS(正硅酸乙酯),在室温下搅拌24h。将溶液转移到100ml的反应釜中,将铝基板垂直浸入溶液中,在175℃下反应4h。冷却至室温后,将生长分子筛膜的基板取出,即可获得ZSM-5微孔层/铝基板。

将0.52gF127(EO106PO70EO106)完全溶于20ml无水乙醇中,标记为1#溶液;将的人溶液中,在70℃下回流1h,标记为2#溶液。然后将1#溶液缓慢加入到2#溶液中,然后加入0.0374g Al(NO3)3·9H2O,继续在70℃下继续搅拌1h,获得介孔层的前驱体溶液。

将上述获得的微孔薄膜/基板固定在镀膜提拉机的夹具上,通过浸渍介孔层的前驱体溶液,在其表面沉积硅铝酸盐介孔层。在此过程中,浸渍/提拉速度均为40mm/min,浸渍时间为2min,镀膜时间为2min,浸涂2次。镀膜完成后,在室温下老化48h后得到介孔层/微孔层/基板。将介孔层/微孔层/基板固定在镀膜提拉机的夹具上,在其表面组装PS胶晶阵列,PS乳液浓度为5wt%。设定镀膜程序:浸渍/提拉速度均为50mm/min,浸渍时间为3min,镀膜1次。把样品置于30℃干燥1h。然后将PS胶晶阵列/介孔层/微孔层/基板固定在镀膜提拉机的夹具上,使用与介孔层相同的前躯体溶液,将其填充到PS胶晶的空隙中。镀膜参数为:浸渍/提拉速度均为40mm/min,浸渍时间为2min,镀膜时间5min,镀膜2次。镀膜后在室温下老化48h。然后将样品放入管式气氛炉中,保持空气气氛,经过550℃煅烧10h,煅烧同时去除TPAOH、PS和F127,最后在质量分数为5%的硝酸溶液中浸泡去除铝基板,即可得到微孔-介孔-大孔体系的多级孔薄膜,其为梯度复合结构多级孔薄膜。测得微孔层最大孔径为0.533nm,介孔层最大孔径为4.37nm,大孔最大孔径为278nm。

本发明的实施方式并不受上述实施例的限制,每种实施方式中各层的配方都可以进行调控。其中,实施例1-2、实施例3-4和实施例5-6分别为本发明制备微孔-介孔体系多级孔薄膜、微孔-大孔体系多级孔薄膜以及微孔-介孔-大孔体系多级孔薄膜较佳的实施方式。仅以实施例1、实施例3和实施例5为代表,对制备的微孔-介孔体系多级孔薄膜、微孔-大孔体系多级孔薄膜以及微孔-介孔-大孔体系多级孔薄膜进行相应的结构分析。

当前第1页1 2 3 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1