1.一种氢氧化铜纳米线/聚偏氟乙烯杂化超滤膜，其特征在于：该杂化超滤膜的原料包括聚偏氟乙烯、有机溶剂、致孔剂以及氢氧化铜纳米线，其中，按质量百分数计，聚偏氟乙烯与有机溶剂的比为18-22％：78-82％；致孔剂的质量为聚偏氟乙烯与有机溶剂质量和的1％-5％，氢氧化铜纳米线的质量为聚偏氟乙烯质量的0.1％-2％。
2.根据权利要求1所述的一种氢氧化铜纳米线/聚偏氟乙烯杂化超滤膜，其特征在于：所述的致孔剂为聚乙二醇、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙烯醇中的一种。
3.根据权利要求1所述的一种氢氧化铜纳米线/聚偏氟乙烯杂化超滤膜，其特征在于：所述的有机溶剂为N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮、二甲基亚砜中的一种。
4.根据权利要求1所述的一种氢氧化铜纳米线/聚偏氟乙烯杂化超滤膜，其特征在于：所述的纳米氢氧化铜是线状结构，长度为600～1000nm，长径比为120～200。
5.一种氢氧化铜纳米线/聚偏氟乙烯杂化超滤膜的制备方法，其特征在于，将氢氧化铜纳米线加入到有机溶剂中，超声后，得到氢氧化铜纳米线分散液；在40-60℃下向氢氧化铜纳米线分散液中加入聚偏氟乙烯和致孔剂，搅拌至溶解后，静置脱泡，得到铸膜液；然后将铸膜液均匀地刮于玻璃板上，在玻璃板上形成流延层，然后立刻浸入凝固浴中，待固化成膜后，将膜剥落，继续浸泡在去离子水中，得到氢氧化铜纳米线/聚偏氟乙烯杂化超滤膜；其中，按质量百分数计，聚偏氟乙烯与有机溶剂的比为18-22％：78-82％；致孔剂的质量为聚偏氟乙烯与有机溶剂质量和的1％-5％，氢氧化铜纳米线的质量为聚偏氟乙烯质量的0.1％-2％。
6.根据权利要求5所述的一种氢氧化铜纳米线/聚偏氟乙烯杂化超滤膜的制备方法，其特征在于，所述的聚偏氟乙烯使用之前置于真空干燥箱内在110℃下干燥10-15h。
7.根据权利要求5所述的一种氢氧化铜纳米线/聚偏氟乙烯杂化超滤膜的制备方法，其特征在于，所述氢氧化铜纳米线通过以下方法制得：
将五水硫酸铜加入蒸馏水中，搅拌至五水硫酸铜溶解后，加入氨水溶液，搅拌使溶液中产生大量的[Cu(NH3)42+]；再滴加氢氧化钠溶液，滴毕反应0.5-1.5小时后洗涤、过滤，烘干，得到氢氧化铜纳米线；其中，五水硫酸铜与蒸馏水的比为0.998g：20-100mL；氨水溶液的浓度为0.15mol/L，五水硫酸铜与氨水溶液的比为0.998g：20-40mL；氢氧化钠溶液的浓度为1.2-2.5mol/L，五水硫酸铜与氢氧化钠溶液的比为0.998g：3.6-6mL。
8.根据权利要求5所述的一种氢氧化铜纳米线/聚偏氟乙烯杂化超滤膜的制备方法，其特征在于：所述超声时间为20-60min，搅拌的时间为24-36h；所述的静置脱泡的温度为40-60℃，静置脱泡的时间为12-24h；所述的凝固浴为去离子水，水温为15-30℃；所述浸入凝固浴中的时间为10-25min。
9.根据权利要求5所述的一种氢氧化铜纳米线/聚偏氟乙烯杂化超滤膜的制备方法，其特征在于：所述的有机溶剂为N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮、二甲基亚砜中的一种；所述的致孔剂为聚乙二醇、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙烯醇中的一种。
10.根据权利要求5所述的一种氢氧化铜纳米线/聚偏氟乙烯杂化超滤膜的制备方法，其特征在于：所述流延层的厚度为130-250μm；浸泡在去离子水中的时间为36-48h。