本实用新型涉及锗烷纯化技术领域，特别是锗烷精馏系统。
背景技术：
锗烷是一种在半导体工业上有重要用途的危险性的气体，同时也是毒性很高的无色气体，长久以来，要怎样有效去除锗烷里面混合的水分和其他杂质一直没有一个很好的有效方法，然而在工业上对锗烷纯度的要求却是很高的。
而且锗烷是一个很不稳定的气体，很容易就会有乙烷和丙锗烷产生，因此对于如何有效的去除锗烷内的杂质迫在眉睫。
技术实现要素：
本实用新型的目的在于提供一种锗烷精馏系统，以满足锗烷去除杂质方法的空白，同时提高精馏的安全性、高效性和实用性。
为实现上述技术目的，达到上述技术效果，本实用新型公开了锗烷精馏系统，锗烷精馏系统通过输配管道与真空泵组、尾气处理系统、氮气管道、氦气管道相连，包括了杂质吸收塔组件、杂质吸收塔备用塔组件和反应组件，杂质吸收塔组件和杂质吸收塔备用塔组件与真空泵组、尾气处理系统、氮气管道和氦气管道相连，连接处设置有气动隔离阀组，杂质吸收塔组件与反应组件相连，杂质吸收塔组件和杂质吸收塔备用塔组件相互串联，杂质吸收塔备用塔组件底部通过输配管道经过过滤器与交流纯化系统相连。
其中，杂质吸收塔组件和杂质吸收塔备用塔组件结构相同，顶部设置有填料口和压力表，底部设置有倒料口，杂质吸收塔备用塔组件底部设置有加热棒，杂质吸收塔备用塔组件的侧边设置有温度传感器。
其中，反应组件包括了反应器、热交换器和冷凝器，反应器通过输配管道顺次与热交换器和冷凝器相连，冷凝器与杂质吸收塔组件相连。
优选的，杂质吸收塔组件和杂质吸收塔备用塔组件为不锈钢材质制成。
优选的，还包括有PLC控制组件，PLC控制组件通过信号线路与杂质吸收塔组件和杂质吸收塔备用塔组件相连。
本实用新型具有以下有益效果：
1.根据系统的整体结构对精馏系统杂质吸收塔进行合理区分，分为杂质吸收塔组件和杂质吸收塔备用塔组件，并填充不同用途的填料，杂质吸收塔组件和杂质吸收塔备用塔组件连接有氦气管道，氮气管道，真空泵组，可以对杂质吸收塔进行内部清洗，并且对杂质吸收塔组件和杂质吸收塔备用塔组件采用PLC控制系统的设计，从而使锗烷的纯化精馏更加的安全、高效和纯度更高。
2.经过精密合理的设计，同时可在杂质吸收塔备用塔组件内增设加热棒，利于锗烷纯化更加完全，精馏更加彻底，同时加热棒可以对吸收塔里面的填料进行活化，让填料能够重复的使用。整体系统的设计弥补了纯化锗烷纯化的空缺，填补了锗烷精馏不成熟的技术难题。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
1：杂质吸收塔组件，2：杂质吸收塔备用塔组件，3：过滤器，4：填料口，5：压力表，6：倒料口，7：加热棒，8：温度传感器，9：反应器，10：热交换器，11：冷凝器，12：PLC控制组件，13:气动隔离阀组。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。
如图1所示，本实用新型公开了锗烷精馏系统，锗烷精馏系统通过输配管道与真空泵组、尾气处理系统、氮气管道、氦气管道相连，包括了杂质吸收塔组件1、杂质吸收塔备用塔组件2、反应组件和PLC控制组件12，杂质吸收塔组件1和杂质吸收塔备用塔组件2与真空泵组、尾气处理系统、氮气管道和氦气管道相连，连接处设置有气动隔离阀组13，杂质吸收塔组件1与反应组件相连，杂质吸收塔组件1和杂质吸收塔备用塔组件2相互串联，杂质吸收塔备用塔组件2底部通过输配管道经过过滤器3与交流纯化系统相连，PLC控制组件12通过信号线路与杂质吸收塔组件1和杂质吸收塔备用塔组件2相连。
杂质吸收塔组件1和杂质吸收塔备用塔组件2结构相同均为不锈钢材质制成，顶部设置有填料口4和压力表5，底部设置有倒料口6，杂质吸收塔备用塔组件2底部设置有加热棒7，杂质吸收塔备用塔组件2的侧边设置有温度传感器8。
反应组件包括了反应器9、热交换器10和冷凝器11，反应器9通过输配管道顺次与热交换器10和冷凝器11相连，冷凝器11与杂质吸收塔组件1相连。
工作原理：
在锗烷进入精馏系统之前，为确保系统内的管道没有杂质存在，需要对精馏系统进行分段清洗，开启气动隔离阀组13中相应的气动隔离阀对杂质吸收塔组件1和杂质吸收塔备用塔组件2进行吹扫清洗，重复若干次保证吸收塔清洁。
开始纯化锗烷时，需要先让冷凝器11冷凝一段时间，然后开启反应组件、杂质吸收塔组件1和杂质吸收塔备用塔组件2直接的输配管道，准备就绪后，锗烷从反应器9依次通过热交换器10和冷凝器11，进入杂质吸收塔组件1和杂质吸收塔备用塔组件2进行杂质吸收，最后通过过滤器3进入交流纯化系统。纯化过程中，杂质吸收塔组件1吸收的是二氧化碳和水分，杂质吸收塔备用塔组件2吸收的是乙锗烷和丙锗烷以及其他一些杂质，热交换器10，冷凝器11将锗烷中的水分冷凝去除掉，同时用氮气氦气排空抽真空管道。
以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。